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2009年10月

めっき膜の物性制御とトラブル対策

*概要

・技術相談にのれる講座
・めっき膜の密着・不密着の現象を明快に説明する理論を詳解する特別講座!

*日時
 2009年 11月 19日(木)10:00〜17:00 

*受講対象
・めっき技術に携わる、研究者および技術者
 
*修得知識
・極めて初歩の知識から、理論まで広く分かりやすく説明します。

*参考図書
・「ファインプレーティング ―めっき膜の構造および物性制御理論と金属腐食に関する新理論の提案、およびめっき膜の構造に関するデータベース―」、2007年、ナノプレーティング研究所出版 渡辺徹著、@85,000円+税金(5%)=89,250円(直接演者に申し込みください)
・「ナノプレーティング ―高精細めっき―」、2003年、日刊工業新聞社出版、渡辺徹著、3,000円+税金(5%)=3,150円

*講師の言葉
 めっきに関する研究のほとんどは、浴の開発や電気化学的観点から行われてきているが、講師は、めっき膜は金属材料そのものであるということから、これまで40年以上にわたって、めっき膜の構造と物性に関する研究を金属学的観点から行ってきた。 それら膨大な実験結果から、めっき膜の構造と物性制御に関する講師独特の理論を構築することに成功した。それらは上記の著書にまとめ、すでに研究者や技術者に利用していただいている。
 講演会では、参加者が現在抱えている問題点や知りたい点を中心にディスカッション形式で進めます。本講演で特に重要な内容は、めっき膜の密着性について、これまでのものと全く異なった、また、現実の密着・不密着の現象を明快に説明する理論についてお話しする。
*プログラム

*講演内容はつぎのようであるが、いずれも参加者の技術相談を中心に講演を進めたいと考えている。そのため、事前に相談したい内容や聞きたい内容についてお寄せいただきたいと思っています。

Ⅰ.めっき膜の構造と物性制御理論(金属学的考察)
  1.結晶学的構造の制御
     a.結晶質   b.アモルファス   c.金属間化合物   d.固溶体   e.混合組織
   2.表面形態の制御
     a.平滑(光沢性)   b.半光沢(表面凹凸)
   3.結晶粒径(形)の制御
     a.微結晶   b.繊維状結晶   c.粗大結晶   d.柱状晶
   4.密着性の制御(含、エピタキシャル)
     a.金属基板   b.非金属基板(Siウエハー、セラミックス、プラスティック)などとの密着
   5.配向性の制御
     a.電析めっき膜   b.無電解めっき膜
   6.膜の残留歪(残留応力)の制御
     a.引っ張り歪(応力)   b.圧縮歪(応力)
   7.異常形態の制御
     a.ノジュール   b.ウイスカ   c.ピット(ピンホール)


Ⅱ.各種めっき技術の応用と実際例

  1.表面処理
   2.機能性材料の作製
   3.電鋳技術


Ⅲ.金属の腐食に関する新理論(電子論敵考察)

  金属の腐食に関する、これまでと全く異なる理論の提案と、その理論による実際の腐食現象の説明
   1.全面腐食
   2.局部腐食
   3.エッチピット
   4.粒界腐食
   5.応力腐食
   6.ガルバニック腐食など

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円            同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)

 


めっき膜の物性制御とトラブル対策

初心者のための人間重視のソフト品質改善実践法

*概要
 〜高品質と「わくわく」感を生み出す秘訣〜

*日時
 2010年 3月  23日(火)10:00〜17:00

*受講対象
・現場の担当者、品質改善に取り組んでいる方、改善活動推進者、品質管理責任者、プロマネ、人材育成担当者など(組み込みソフト系の方も歓迎します)

*修得知識
・人間重視の品質改善の仕組み構築のポイント、人間重視の仕組み構築の秘訣、具体的な品質改善実践方法、組織的品質改善のポイント、改善活動へ動機付けする方法など         
*講師の言葉
 ソフトウェア開発における品質問題は依然と後を絶たず、ますます深刻化してきています。そのような状況において、多くの組織がより効果的、効率的な品質改善方法を求めています。
 品質改善の最大課題は「実質的な品質向上効果をいかにして早く得るか」という点にあります。そのためには、組織を構成する人々を改善活動の実践に「動機付け」して、人々の「やる気」や「やりがい」を生み出すことが、成功の鍵になると考えております。
 講師は、独自に考案した人間重視のプロセス改善活動を実践し、品質問題を抱えていた組織をSI分野で日本初のCMM(注1)レベル5達成に導き、高品質を実現した経験を保有しています(後にCMMI(注1)を達成)。
 本講座においては、初心者の方々を想定して、品質効果を得るための人間重視の品質改善の仕組み構築のコツ並びに改善活動への動機付け方法、現場に活動を浸透させ効果を上げるための工夫等について、丁寧に解説いたします。
 また、著書「人間重視の品質マネージメント ソフトウェア品質保証システムの構築と実践」で著した内容についても、実践事例と演習を組み合わせることにより、より具体的にご理解いただき、職場で直ぐに実践できる役立つ内容にしたいと考えております。
 ® Capability Maturity Model and CMM /CMMI are registered in the U.S. Patent and Trademark Office.

*プログラム
Ⅰ.高ソフト品質を達成する基盤
  1. 品質とは                   
  2. 品質管理と品質保証
  3. 品質を上げればコストは下がる



Ⅱ.品質を良くするのは誰か

  1. 品質を良くするのは誰か
  2. 検査や監査で高品質は作れない
  3. 品質保証グループの役割とプロセス改善



Ⅲ. 人間重視の品質マネジメント

  1.品質と人間力
    a.人間力と品質についての仮説
    b.人間力とは
    c.人間力の醸成と動機付け
  2.プロセス改善と人間力
    a.演習「新任の挨拶」
    b.プロセス改善の必要性 
    c.プロセス改善活動のパターン
  3.プロセス改善と能力成熟度モデル
    a.能力成熟度モデルの概念
    b.組織的プロセス改善活動体系の例    



Ⅳ.効果的なプロセス改善活動事例(トップダウン型)

  1.高品質達成のための第三者検証・監査
    a.第三者検証のデザイン事例
    b.プロジェクト相互検証・支援のデザイン事例   
  2.効果的なレビュー
    a.レビューについての悩み
    b.レビューのデザイン事例
    c.レビューの総合評価と診断
  3.品質の見える化と定量的品質管理
    a.定量的な目標値の保有
    b.何故データ測定が必要なのか
    c.定量的品質管理のデザイン事例
  4.リスクの見える化とリスク管理
    a.リスクの可視化、見える化 
    b.リスク管理のデザイン事例



Ⅴ.効果的なプロセス改善活動事例(ボトムアップ型)

  1. 組織的プロセス改善とモデル
  2. 改善の知恵と「不具合を生成しない」活動
  3. 改善の知恵を捻出するミニ演習
  4. 「わくわく」感を生み出す全員参加型の改善活動事例


Ⅵ.まとめ

  1.人間重視のプロセス改善の効果
  2.組織的プロセス改善のポイント
  3.人間力発揮のための発想法  

(注)一部、演習を交えて実体験いただき、理解の促進に努めます。

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                    同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


初心者のための人間重視のソフト品質改善実践法

プラスチック成形品の信頼性設計 (プログラムが変更になりました)

*概要

・使用寿命の長い、スムーズな新規製品開発のための講座
・プラステック破損の原因となる設計、材料選択・成形不良、使用環境影響まで詳解し信頼性設計に必要なノウハウを修得出来る特別セミナー!

*日時
2010年 3月 19日(金) 10:30〜17:30 

*受講対象
・プラスチック設計技術の初心者

*予備知識
・プラスチック設計経験者

*修得知識
・製品の汎用的な使用環境におけるプラスチック成形品使用寿命の定量的な把握

*講師の言葉
 国内外の消費者安全法が年々厳しくなっているが、プラスチック成形品においても例外ではない。製品に要求される使用寿命(耐用年数)を充足し且つコストパーフォーマンであるプラスチック成形材料を選択することは。製品のコスト競争力を確保するのに不可欠な設計技術である。
 講師が東芝で30年余り研究し、製品設計に実践したプラスチック信頼性設計の基本的な考え方およびノウハウを、設計に関わって間もない技術者に実例を交えて詳解します。

*プログラム
Ⅰ.成形品としてのプラスチック材料必要性の認識


Ⅱ.戦略的製品造出のための成形品のあるべき姿
  1.製品寿命と成形品に要求される耐用年数
  2.成形品の信頼性に関する基本的概念


Ⅲ.材料初期物性値のとらえ方
  1.初期物性と経時特性の選択
  2.材料物性値と設計に使用する実用物性値
  3.経時的に物性変化の少ない性質の取り扱い方
  4.安全係数を織り込んだ信頼性設計


Ⅳ.熱環境における成形品の経時的劣化のとらえ方
  1.プラスチック成形品の劣化原因と劣化活性化エネルギー
  2.熱劣化の程度はアレニウス法で推定可能


Ⅴ.光照射環境における経時的劣化のとらえ方
  1.成形品の光酸化劣化機構
  2.光劣化環境とは


Ⅵ.成形品信頼性設計のための金言集


Ⅶ.成形品信頼性設計マニュアル

*受講料(消費税等込)
1名:52,500円                 同時複数申し込みの場合1名:47,250円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


プラスチック成形品の信頼性設計 (プログラムが変更になりました)

効果的なレビュー技法とレビュー演習 〜PC演習付〜

*概要
・ケーススタディにもとづいた 
・最良の設計・レビュー法をマスターし、バグをなくそう!

*日時
 2010年 3月  17日(水)13:00〜17:00  
           18日(木) 9:30〜16:30

*受講対象
・ソフトウェア開発経験者、ソフトウェアプロジェクト管理経験者、ソフトウェア品質、保証経験者
・以前に、井阪講師のレビューチェックリストや検証戦略関連の教育を既に受講済みの方は、1日目の講義部分が重複しますので、2日目の1日間を受講してもかまいません。
初めての方は、必ず2日間受講してください。

*予備知識
・ソフトウェア設計・製造経験が1年以上あること

*修得知識
・既存設計書のバグ発見や既存機能の改造におけるバグ発見のレビュー方法を知る
・演習によって、自らのバグ発見の弱点を知る(以前の、井阪講師のレビューチェックリストや検証戦略関連の教育に対して、今回教育は、実際にチェックリストを使ったレビューを実施して、自分たちのバグ発見の視点の弱点を知り、その改善ポイントを知ることが目的になります。)

*講師の言葉
 レビューを有効化させるには、まずアドホックなセルフチェックや関係者間での確認によって単純ミスを減らし、その上で計画的なレビューによってロジックやインタフェースのバグを取り除く方が効率がよい。また、全てのバグを一気に取り除こうとするより、レビュー毎に観点を集中化した方が効果が高い。そこで、まず演習を通じていろいろなレビューの方法やテストを組み合わせてバグを効率的に発見する仕組みを学ぶ。
 次に、単に出来上がった仕様書を読んでバグを探し出すよりも、レビューの中でいろいろな図や表を書きながらレビューしたり、仕様書の書き方を改善した方が効率が良い。また、最近の傾向として大規模な既存システムの改造が多くなり、既にある仕様書類が不明確であったり、それ自身にバグが混在しているために、障害多発につながることも多い。 そこで、仕様書からいろいろなバグを発見する演習を通して、最適な設計の書き方、レビューのやり方を学ぶ。

*プログラム
1日目(13:00〜17:00)
<講義>


Ⅰ.設計技法

   1.システム設計能力
   2.設計の技法と視点


Ⅱ.レビュー技法

   1.レビューの階層構造
   2.レビュー方式
   3.レビューのやり方
   4.レビューで利用する道具
   5.レビューの目的と最適な方法の例
   6.要件開発・要件確認時レビュー項目例
   7.レビューの効率化


Ⅲ.レビュー戦略

   1.品質特性
   2.重要品質特性絞り込み
   3.レビュー・テスト計画策定
   4.開発フェーズの考え方
   5.行程移行の考え
   6.行程移行の定量化目標の作り方例
   7.レビュー・テスト項目の選定
   8.応用事例


Ⅳ.開発フェーズ毎での品質目標設定とそのメトリックス

   1.管理サイクル
   2.レビューの効率


2日目(9:30〜16:30)

<設計レビュー演習(1日)>


Ⅴ.設計レビュー演習

   1.レビュー演習説明
   2.ウォークスルーレビューによる動作確認と設計修正演習
   3.チェックリストを使ったインスペクション演習
   4.設計ケースのバグ内容説明
   5.演習で発見したバグと実際のバグとの比較発表
   6.レビューでの強み、弱みまとめ

*受講料(消費税等込)
1名:70,350円              2日目のみご参加の場合1名:52,500円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


効果的なレビュー技法とレビュー演習 〜PC演習付〜

新事業につながる統合技術ロードマップ作成とその活用 〜演習付〜

*概要
・研究開発・企画者のための考え方と実践手法、事例紹介
・事業化戦略との統合化のためのロードマップを策定し、収益確保を確実なものにしよう!

*日時
 2010年 3月  12日(金)10:30〜17:30 

*受講対象
・製造業における大企業から中小企業の研究開発と企画を中心とする技術者を対象にしています。特に企業のなかで、で技術ロードマップについて興味と情熱を持ち、新規事業や新商品開発を考えている人、または実践している研究者、開発者、企画担当者、新事業担当の方々。さらに弁理士、会計士、弁護士、技術士、中小企業診断士などの専門家などで、新規事業のロードマップ、ビジネスプラン作成のサポートやコンサルを目指している方など。

*予備知識
・とくにありません。

*修得知識
・研究・開発者、企画者が研究開発と新規事業の技術ロードマップによる紐付けの実践が可能となる。大企業、中小企業、ベンチャー企業などの技術系経営者が新規事業のためのロードマップ、新規事業、またビジネスプラン作成へのつなぎと実践の勘所が理解でる。またこれまで、技術ロードマップが事業ロードマップとつながらない場合には、その理由がわかり、対策が打てる。

*講師の言葉
 最近研究開発部門にて必要度の増している技術ロードマップとその事業ロードマップとの統合化に関して具体的に取得できる内容です。これまでロードマップつくりの経験のない技術者、研究開発者、企画者でもわかりやすく、そのコンセプト立案からはじまり、その中で必要な技術を製品・商品に置き換えたり、市場ニーズを技術ロードマップに置き換えたりすることの基本を学びます。また、最近ニーズが増大している、事業化戦略との統合化のための必要なロードマップの作成、統合化についても詳細に解説します。なを内容については実践的な演習によりより理解を深めます。

*プログラム
はじめに:未来づくりと統合技術ロードマップ
  ・未来づくりと自己紹介
  ・統合技術ロードマップとは


Ⅰ.新事業・新商品創出の視点と基本戦略

   1.事業環境:不確定な未来にいかに対処するか
   2.日本の製造業の儲けのパラダイムシフトとイノベーションのスタイル
   3.新事業・新商品創出のためのイノベーションのマネジメントと重要性

Ⅱ.ロードマップ策定の基礎とその統合化

   1.技術を商品にするときのステージ分類・評価法
   2.企業におかる新商品・新事業開発におけるロードマップと戦略統合の必要性
   3.何のためのロードマップか、その構造と事業との関係
   4.ロードマップを作るための視点と目的の整理
   (演習1)

Ⅲ.技術ロードマップ策定の実践と活用方法、事例紹介

   1.時間軸で考えることで、未来の共通認識が起こる
   2.マーケット、ベネフィット、機能、技術のレーヤーと役割
   3.研究開発テーマを設定ためのマーケティングとロードマップ
   4.技術ロードマップの事例と活用
   (演習2)

Ⅳ.ポートフォリオ評価と研究開発テーマの絞込み事例紹介

   1.ポートフォリオの意味と内容:軸の選択とポジショニングの重要性
   2.未来のポートフォリオからビジョンを設定
   3.事業性評価マップ(TIG法)作成による実践的活用

まとめ:技術ロードマップとビジネスプランなどの違いと統合化

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                 同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


新事業につながる統合技術ロードマップ作成とその活用 〜演習付〜

レオロジーなんかこわくない!数式のないレオロジー入門(共催セミナー)

*概要
レオロジーを本当に使える道具にするための講座!

*講 師
日本ペイント(株) 情報システム部 部長 上田 隆宣 氏

*会 場
TIME24ビル 3F デジタル工房内セミナールーム 【東京・江東区】

*日 時
平成21年12月17日(木) 10:30-16:30、18日(金) 10:30-16:30

*定 員
15名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき63,000円(税込、昼食、スライド毎説明文付き資料付き)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容


※受講に際しましては, 電卓・定規 をご持参願います。

【講座趣旨】


 レオロジーは「数式が多い」「データはとったがどう見たらいいのか解らない」など, 敷居が高いというイメージがあります。 本講座を受講すると敷居が低くなり,さあ明日から取り組んでみようと思えるはずです。 講義だけにとどまらず実際のデータを描いたり,解析したりすることで, レオロジーを本当に使える道具にするための講座です。

【プログラム】


1日目 10:30-16:30


1.レオロジーとは?
    1.1 レオロジーの目的
    1.2 時間温度換算則
    1.3 剪断と引っ張り
    1.4 ニュートンの法則とフックの法則
    1.5 MaxwellとVoigt


2.静的粘弾性測定
    2.1 定常流動測定
    2.2 流動曲線(ハーシャルバークレーとキャッソン)
    2.3 チクソトロピー測定
    2.4 引っ張り試験
    2.5 応力緩和測定
    2.6 クリープ測定


3.演習(1)
    3.1 流動曲線を描いて解析しよう
    3.2 応力緩和を解析しよう
    3.3 クリープを解析しよう

[質問を皆で考えよう]


1日目終了

注:1日目終了後 講師と軽い懇親会をしませんか?(上田)
(自由参加ですので、ふるってご参加ください)



2日目 10:30-16:30


4.動的粘弾性測定
    5.1 動的測定の解析をしてみよう
    5.2 活性化エネルギーを計算しよう
    5.3 マスターカーブを描いてみよう


5.演習(2)
    6.1 塗料のたれとレベリング
    6.2 硬化過程と内部応力
    6.3 チッピング性と活性化エネルギー
    6.4 擦り傷性と弾性回復率
    6.5 塗膜の粘弾性カルテ
    6.6 剥離現象と合成波
    6.7 マヨネーズの降伏値
    6.8 澱粉の熱変性
    6.9 パンの膨張と法線力


6.実用レオロジー測定
    6.1 塗料のたれとレベリング
    6.2 硬化過程と内部応力
    6.3 チッピング性と活性化エネルギー
    6.4 擦り傷性と弾性回復率
    6.5 塗膜の粘弾性カルテ
    6.6 剥離現象と合成波
    6.7 マヨネーズの降伏値
    6.8 澱粉の熱変性
    6.9 パンの膨張と法線力


7.新しいレオロジー測定とその周辺
    7.1 硬化過程測定の工夫(FDOM,DSA)
    7.2 複層塗膜のTg測定(DSC)
    7.3 複層塗膜の架橋密度測定(硬度計)
    7.4 感性とレオロジー


8.レオロジストのプロになるために
    8.1 こんな場合はこんな測定を
    8.2 これだけあればあなたはレオロジスト
    8.3 測定の落とし穴
    8.4 ふるき知恵と新しい知恵
    8.5 物の見方と右脳の働き


9.おまけ
    7.1 二匹のかえる
    7.2 どうしたら魚は餌を食べるか?
    7.3 クマンバチの羽根
    7.4 天才・秀才・凡人
    7.5 有能な企業戦士

【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社R&D支援センター


レオロジーなんかこわくない!数式のないレオロジー入門(共催セミナー)

押出成形におけるトラブルシューティング - 経験則と理論に基づく的確なアプローチを -(共催セミナー)

*概要
トラブルシューティングの定石(原料、押出機、運転条件、制御)を、ステップを追って学習!

*講 師
井口CC技術士事務所 技術士(機械部門) 井口 勝啓 氏 元東芝機械

*会 場
江東区産業会館 第2会議室 【東京・江東区】

*日 時
平成21年12月18日(金) 10:30-16:30

*定 員
30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1口(2名まで参加可)につき49,980円(税込、昼食・資料付き)

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容


【講座趣旨】
押出成形での品質と生産性(コスト)を左右する主要因として原料、成形装置、運転条件、制御が挙げられる。複雑な押出成形に係わるトラブルシューティング(不良対策)では、人によって出来栄えに大きな差が生じやすい。最小の費用で最大の効果を狙うには、経験と理論のバランスよい的確なアプローチが必要である。
本セミナーでは、これらの要求を満足するトラブルシューティングの定石を、ステップを追って学習する。



【プログラム】


1.はじめに


2.成形不良を見分ける
  2-1.成形不良の分類と代表的不良現象
     2-1-1.フィルムシートの成形不良
        (1) 寸法・形状の不良
        (2) 外観・表面状態の不良
        (3) 物性不良
     2-1-2.特殊フィルムシート成形での不良
        (1) 発砲シートの成形不良
        (2) 多層フィルムシートの成形不良
  2-2.なぜ不良か?
     2-2-1.一次障害
     2-2-2.二次障害
     2-2-3.三次障害他


3.成形不良の実態を把握する
  3-1.成形不良の検査方法
     3-1-1.寸法・形状の検査
     3-1-2.外観・表面状態の検査
     3-1-3.物性の検査
  3-2.成形不良の評価尺度(例)
     3-2-1.厚さむらの統計処理
     3-2-2.厚さむらの周波数解析
     3-2-3.比エネルギー消費量


4.成形不良の発生原因を明らかにする
  4-1.成形不良現象と発生原因の相関
  4-2.成形不良に係わるプラスチックの性質
  4-3.プロセス量の監視と記録
  4-4.押出機でのプラスチック原料の挙動観察技術
  4-5.溶融モデルとサージングの発生原因(ソリッドベッドのブレークアップ)
  4-6.運転条件の設定と制御に係わる問題(代表例)
     4-6-1.固体輸送部のバレル温度の設定
     4-6-2.バレル・ダイ本体の制御温度の変動
     4-6-3.CD厚さプロファイル制御の問題点
  4-7.不良原因究明手段としてのコンピュータシミュレーション
     4-7-1.ミクロ的なシミュレーションプログラム
     4-7-2.マクロ的なシミュレーションプログラム
        (1)ベント式押出機でのサージングの減衰特性
        (2)ギアポンプアシスト型押出機の総合特性
        (3)スクリーンのめづまり特性
        (4)共押出での流れ特性
        (5)PID温度制御


5.成形不良をなくす/重点対策技術[1]:ハード編
  5-1.押出機関連技術
     5-1-1.二軸押出機
     5-1-2.溝付バレル
     5-1-3.バリヤフライト型スクリュ
     5-1-4.ミキシングエレメント
     5-1-5.スクリュ冷却
     5-1-6.ベント装置
  5-2.発泡シート成形用押出機関連技術
     5-2-1.スクリュのフライト形状
     5-2-2.スクリュ基部のメントシール
  5-3.アダプター・フィルター関連技術
     5-3-1.スクリュヘッド部圧力調整器
     5-3-2.ギアポンプ
     5-3-3.スクリーンチェンジャー
     5-3-4.スタティックミキサー
  5-4.Tダイ関連技術
     5-4-1.流路デザイン
     5-4-2.表面処理
     5-4-3.リップ出口(エッジ)の仕上げ
  5-5.引取装置関連技術
     5-5-1.フィルムとロールの密着性
     5-5-2.シート成形用ロールの駆動系
     5-5-3.シート成形用ロールの湾曲補正装置
  5-6.共押出成形装置
     5-6-1.フィードブロックとマルチマニフォールド
     5-6-2.端部単層化装置


6.成形不良をなくす/重点対策技術[2]:ソフト編
  6-1.原料供給量の制御
  6-2.樹脂温度制御
  6-3.樹脂圧力制御
  6-4.バレル・ダイ本体の温度制御
  6-5.フィルムシートのMD平均厚さ制御
  6-6.フィルムシートのCD厚さプロファイル制御
     6-6-1.走査式厚さ計
     6-6-2.自動Tダイ
     6-6-3.制御方法
  6-7.メルトバンクの計測制御
     6-7-1.バンクセンサー
     6-7-2.バンクプロファイルの制御


7.未来に向って
  7-1.究極の押出機
  7-2.プロセス制御の高度化/トータル監視制御システム
  7-3.その他



【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社R&D支援センター


押出成形におけるトラブルシューティング - 経験則と理論に基づく的確なアプローチを -(共催セミナー)

乾燥技術の基礎と実践的省エネ・低コスト化戦略- Excelを使ったパソコン演習付き -(共催セミナー)

*概要
一日で乾燥メカニズムを理解できます!自社で扱っている乾燥機の設計や性能評価も可能です!

*講 師
中村正秋技術事務所 代表 名古屋大学名誉教授 工学博士 中村 正秋 氏

*会 場
TIME24ビル 3F デジタル工房内セミナールーム 【東京・江東区】

*日 時
平成21年11月24日(火) 10:30-16:30

*定 員
10名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき49,980円(税込、資料付き)

※本セミナーでは、主催者側で昼食を用意しておりませんので予めご了承ください。会場にレストラン、コンビニがございますので、そちらをご利用いただきます。

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容


演習で使用するパソコン(1人1台)は、主催者側で用意させていただきます。USBメモリはご持参下さい。


【講座趣旨】


 乾燥操作は多くの分野で利用されている。しかし、大学や高校で学ぶことが多く、乾燥技術について十分な時間をかけていないのが実情である。そこで、この講習プログラムは、乾燥技術の入門者にも基礎から実践までを短時間で理解できるように組んである。
 乾燥技術の内容を表現するために、どうしても数式が多くなる。この数式の内容をより深く理解できるように、Excel(Microsoft社)を使った演習問題を作成した。参加者は演習問題のソフトを持ち帰ることができ、各自が扱っている実際の乾燥機の設計や性能評価をおこなうことができる。
 以上により
・乾燥技術の入門者にとっては基礎から分かり易く理解できる。
・すでに乾燥に携わっている技術者にとっては、Excelを使った演習問題によってより深く理解できる。
・さらに、実際の乾燥機の設計や性能評価をおこなうソフトを自分で開発できるようになる。


【プログラム】


1.乾燥の基礎知識
 1.1 乾燥はどのように進行するか
  (1) 定率乾燥期間と減率乾燥期間
  (2) 含水率の表し方 【Excel演習問題】
  (3) 乾燥速度と乾燥特性曲線
  (4) 限界含水率と平衡含水率
 1.2 湿り空気の諸性質と湿度図表
   (1) 湿度
  (2) 飽和蒸気圧 【Excel演習問題】
  (3) 関係湿度(相対湿度) 【Excel演習問題】
  (4) 絶対湿度 【Excel演習問題】
  (5) 飽和絶対湿度(飽和湿度) 【Excel演習問題】
  (6) 湿度図表
      1 湿球温度 【Excel演習問題】
      2 露 点 【Excel演習問題】
      3 湿り比熱 【Excel演習問題】
      4 湿り比体積 【Excel演習問題】
      5 湿りエンタルピー 【Excel演習問題】
      6 水滴の蒸発 【Excel演習問題】
 1.3 乾燥材料の性質と乾燥特性
  (1) 乾燥材料の性質
      1 材料形状と乾燥機
      2 材料内水分の保持形態
  (2) 乾燥特性
      1 定率乾燥速度
      2 減率乾燥速度
      3 過熱蒸気乾燥
      4 減圧乾燥


2.乾燥装置の種類・選定と設計における留意点
 2.1 乾燥機の種類と実際 <代表的な乾燥機の構造,適用例>
  (1) 対流伝熱乾燥装置
  (2) 伝導伝熱乾燥装置
  (3) 輻射伝熱乾燥装置
  (4) その他
 2.2 乾燥機の選定
  (1) 目的に合った乾燥装置の選び方
  (2) 材料形状から見た乾燥機の選び方
 2.3 乾燥機の設計における留意点
  (1) 熱収支の作り方
  (2) 伝熱容量係数の概略値
  (3) 乾燥機容積・伝熱面積の概算法
 2.4 連続式・熱風乾燥機の設計
  (1) 並流型乾燥機の所要容積の計算
      ・スケールアップ(ダウン)の例 【Excel演習問題】
      ・省エネ(低コスト化)の例 【Excel演習問題】
  (2) 向流型乾燥機の所要容積の計算
      ・スケールアップ(ダウン)の例 【Excel演習問題】
      ・省エネ(低コスト化)の例 【Excel演習問題】
  (3) 回分式乾燥機の所要容積の計算
      ・スケールアップ(ダウン)の例 【Excel演習問題】
      ・省エネ(低コスト化)の例 【Excel演習問題】


3.乾燥操作における省エネルギー対策
 3.1 前工程における対策
  (1) 機械的分離操作の併用
  (2) 材料形状の調整 - 解砕・成型 -
 3.2 エネルギー効率向上の対策
  (1) 熱風温度と湿度の調整
  (2) 排熱風量の軽減(排熱風の循環利用)
  (3) 乾燥条件の制御
 3.3 熱源の工夫による省エネルギー対策
  (1) 太陽熱利用
  (2) 低温排熱利用
 3.4 熱回収による省エネルギー対策
  (1) 排ガスからの熱回収
  (2) ヒートポンプの利用


4.乾燥操作におけるトラブル事例と対策
 4.1 乾燥機の能力に関するトラブル
 4.2 ハンドリングに関するトラブル
 4.3 製品の品質に関するトラブル
 4.4 おもな乾燥機のトラブル
 4.5 災害事例と防止
  (1) 可燃性ガスの爆発・火災
  (2) 粉じん爆発
  (3) ガス中毒、酸素欠乏
  (4) 乾燥機への巻き込み、漏電


5.質疑応答・名刺交換・個別相談など



* 主催:株式会社R&D支援センター


乾燥技術の基礎と実践的省エネ・低コスト化戦略- Excelを使ったパソコン演習付き -(共催セミナー)

電気用品安全法 基礎編(共催セミナー)

*概要
PSE法(電安法)の概要から、海外からの部品調達・製品輸入における留意点までを初心者にも分かりやすく解説!

*講 師
PSEジャパン(株) 代表取締役 櫨山 泰亮 氏

*会 場
青海フロンティアビル 2F ミーティングルーム 会議室4 【東京・江東区】

*日 時
平成21年11月20日(金) 10:30~16:30

*定 員
40名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1口(2名まで参加可)につき49,980円(税込、昼食・資料付き)

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容


【講座趣旨】
 製品の安全性に対する責任は海外メーカーではなく、輸入事業者にあります。また規制にとらわれず、最近では消費者の製品安全に対する意識の高まりから、対象外製品でも安全性を確かめる動きがあります。
 直接的に法規制下で製品の安全性に責任を持たない販売者(量販店)の皆様においても、製品安全に対する意識が高まっています。そのため、仕入先をコントロールするなど、今後は販売者における積極的な取り組みが期待されます。
 本講座では、PSE法(電気用品安全法)の概要から、海外からの部品調達・製品輸入における留意点までを初心者にも分かりやすく解説します。


【プログラム】


<第1部> 電気用品安全法概要
  ◇電気用品の定義(特定電気用品/特定電気用品以外の電気用品/対象外の製品)
  ◇対象/非対象の判定が難しいケース
  ◇電気用品リストに掲載されていない製品は法の規制を受けないのか?(電気用品リストを読む)
  ◇本体ばかりに気をとられてはいけない、付属品に目をむけろ!
  ◇届出事業者になるということ(届出事業者の責任)
  ◇電気用品安全法手続きの流れ


<第2部> 技術基準適合確認について -前編-
  ◇設計上の安全確保は誰の責任なのか?
  ◇技術基準適合確認について(規格って何?)
  ◇省令第1項と省令第2項について
  ◇J-IECとIECの差異について
  ◇海外認証CB,CE、ULと、電安法の相互性について

          -休憩- (昼休み)

<第3部> 技術基準適合確認について -後編-
  ◇製品評価試験について


<第4部> 適合性検査(特定電気用品の場合)
  ◇適合性検査とは
  ◇適合性検査の流れ
  ◇登録検査機関に申請するための準備


<第5部> 自主検査および表示義務について
  ◇自主検査とは?
  ◇自主検査項目と記録について
  ◇表示義務について(定格銘板について)

          -休憩- (15分)

<第6部> 届出義務と型式の区分について
  ◇届出書類
  ◇型式の区分について


<第7部> 海外から輸入する際の注意点
  ◇PSEマークがついた製品を輸入することはできない
  ◇決してラッキーではない!適合性検査が免除されるケース
  ◇適合証明書の副本を取り寄せただけでは安心できない
   (製品を輸入する際に気をつけなければならないこと)
  ◇型式の区分のからくり(ACアダプタを例に)


          -休憩- (15分)

<第8部> よくある質問と事例
  ◇「特定電気用品以外の電気用品」は耐圧試験だけでOKなのか?
  ◇ 丸PSEマークの証明書とは? 
  ◇ 書類の管理について
  ◇ 海外メーカーに騙されないために(実際にあったエピソードの紹介)
  ◇ 製品の安全性に対する消費者の意識(事故例など)
  ◇ 法規制だけにとらわれない、製品安全のすすめ(対象外の製品は野放しなのか?)

  ◇販売者は無関係と決め込んでいいのか?(仕入先に対するコントロール)
  ◇海外メーカー本社を動かす(日本法人の皆様に留意していただきたい点)
  ◇仕入れを決定する前に、まずは考えなければならないこと(コスト以外のファクターとは?)

  ◇輸入事業者からの相談以上に、海外メーカーからの問い合わせが多いのはなぜ?
  ◇Sマークについて
  ◇いきなり製品評価試験を受けますか?
  ◇サプライヤーと製造工場、いったい誰の言い分が正しいのか?

【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社R&D支援センター


電気用品安全法 基礎編(共催セミナー)

電気電子機器における6価クロムの分析とそのノウハウ(共催セミナー)

*概要
RoHS指令対象物質である6価クロム分析手法の概要や、有害成分分析に汎用的に用いられる蛍光X線分析法、ICP発光分析法について事例を交えて分かりやすく解説します!

*講 師
神奈川県産業技術センター 化学技術部 主任研究員 坂尾 昇治 氏

*会 場
TIME24ビル 2F 会議室B 【東京・江東区】

*日 時
平成21年11月25日(水) 13:00-16:30

*定 員
20名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき49,980円(税込、資料付き)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容

【講座趣旨】


欧州においてRoHS指令が2006年7月に発効したことを契機に、世界的に電気電子機器に含まれる有害成分規制が進みました。有害成分の含有は、消費者や取引相手先との信頼を失い、経済的な損失をもたらす可能性も大きいため、電気電子機器の有害成分含有評価は、ますます重要になっています。
本講演では6価クロム分析手法の概要に触れながら、有害成分分析に汎用的に用いられる蛍光X線分析法、ICP発光分析法についてその基礎とアプリケーションを紹介し、これから分析を始める方へ分かりやすくアドバイスします。また、6価クロムの分析法について、分析装置別、材質別に事例を紹介します。
本講演による知見の習得が、電気電子機器の信頼性向上の一助となれば幸いです。



【プログラム】


1.各国の有害元素規制について
  1.1 EUの有害元素規制
  1.2 各国の有害元素規制


2.有害元素分析法
  2.1 IEC6231の分析法について
  2.2 他の分析法について(JIS H8625,EN15205)


3.6価クロムの分析法
  3.1 スクリーニング(簡易分析法)
  3.2 精密分析法(湿式分析法)


4.6価クロム分析(スクリーニング)
  4.1 蛍光X線分析法
    4.1.1 スポット分析
    4.1.2 マッピング(面分析)
  4.2 スポットテスト
  4.3 パッチテスト


5.クロムの精密分析
  5.1 ICP発光分析法
  5.2 原子吸光分析法


6.6価クロムの精密分析
  6.1 吸光光度計・分光光度計(ジフェニルカルバジド比色試験法)


7.6価クロム分析のこつ
  7.1 全量分析と溶出試験(すべての6価クロムが溶出するのか?)
  7.2 溶出条件の注意点
  7.3 ジフェニルカルバジド比色試験法の限界


8.分析事例
  8.1 金属材料の分析事例
  8.2 高分子材料(プラスチック)の分析事例
  8.3 電子部品の分析事例


9.まとめ

【質疑応答・名刺交換】



キーワード:RoHS指令,6価クロム,六価クロム,分析,溶出,鉛


* 主催:株式会社R&D支援センター


電気電子機器における6価クロムの分析とそのノウハウ(共催セミナー)

ガラスの平滑/平坦化技術(共催セミナー)

*概要
基礎知識から最新技術までを幅広く解説!

*講 師
大阪大学大学院 工学研究科機械工学専攻 准教授 博士(工学) 榎本 俊之 氏

*会 場
江東区産業会館 第2会議室 【東京・江東区】

*日 時
平成21年11月26日(木) 12:30~16:30

*定 員
20名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき49,980円(税込、資料付き)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容
【講座趣旨】


 様々な最先端デバイス材料として使われ続けられるガラス基板の研磨加工においては、さらなる高平滑化・高平坦化、そしてコスト低減につながる高能率化が強く望まれています。これらに応えていくためには新しい技術を導入することはもちろんのこと、研磨加工を含めた砥粒加工全般に関する基礎知識がバックグラウンドとして必要になります。そこで本講座ではそれら基礎知識から最新技術までを幅広く講義することを目的としております。また講義終了時の全体質疑応答後には、個別の質疑応答時間を設けております。

【プログラム】


1.研磨加工の概要


2.ガラス研磨加工の基礎知識
  2?1.ラッピングとポリシング
  2?2.おもな加工方式・加工機械
  2?3.砥粒・工具(ラップ,研磨パッド)の種類と特徴
  2?4.周辺技術


3.ガラスの固定砥粒研磨加工
  3?1.超精密研削加工技術
  3?2.固定砥粒研磨パッド技術


4.最新の研究開発動向
  4?1.超微細凝集砥粒を用いた研磨フィルム
  4?2.構造制御形固定砥粒研磨パッド
  4?3.平坦化研磨に関する新技術
  4?4.高能率研磨に関する新技術


【質疑応答・名刺交換】



* 主催:株式会社R&D支援センター


ガラスの平滑/平坦化技術(共催セミナー)

代表的な不織布製造法の不織布特性と機能性不織布の方向性(共催セミナー)

*概要
不織布の製造法と機能性付与技術を知り、新規商品開発・市場開拓・用途開拓へ!

*講 師
旭化成せんい(株) 不織布事業部 不織布技術開発部 部長 上野 郁雄 氏 

*会 場
TIME24ビル 3F デジタル工房内セミナールーム 【東京・江東区】

*日 時
平成21年11月26日(木) 13:00~16:30

*定 員
20名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき49,980円(税込、資料付き)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容


【講座趣旨】
 各製造法による不織布の位置付けを把握し、不織布及び複合化される他素材の持つ性能・機能を充分に把握する事が、用途に合った製品開発のポイントの一つである。
 また、今後の成長市場分野が求める不織布の方向性を見出し、機能性付与技術開発が商品開発のポイントなる。本講演では、繊維自体の機能化、機能性材料の複合、新規不織布構造設計等の機能性付与例を解説し、これらを駆使した新規製造法、新規商品開発の技術革新が新規市場、新規用途開拓につながるような講演を行う。


【習得できる知識】


 各種不織布製造技術、不織布特性と用途の関係、不織布機能性発現の手段

【プログラム】


1.代表的な不織布製造法と不織布特性
  1-1 世界、日本の不織布メーカー状況と生産状況
  1-2 代表的な不織布の製造方法と今後の重点化技術
     (1)紡糸直結型:スパンボンド式、メルトブロウン式、フラッシュ紡糸式、湿式紡式、トウ開繊式
     (2)短繊維不織布:乾式、湿式
     (3)ウェブのボンディング方式
     (4)不織布製造方法別の特性と用途
  1-3 今後の重点化不織布製造技術
  1-4 最近の新規不織布製造方法技術動向


2.不織布の特性を活かした機能性発現
  2-1 機能性不織布の方向性
     (1)製造工程のおける機能化要素
     (2)機能性発現の技術視点
  2-2 不織布の機能性の発現方法(機能性付与の方法)
     (1)機能性付与の方法
  2-3 不織布の機能性発現例
     (1)機能性原料、添加剤 例  
     (2)紡糸技術 (二成分紡糸、極細紡糸)
     (3)複合(素材、プロセス)
     (4)後加工(素材、プロセス)
  2-4 市販不織布の機能化実例
     極細、複合化、嵩高、異型繊維、成型、後加工 等

【質疑応答・名刺交換・個別相談など】


* 主催:株式会社R&D支援センター


代表的な不織布製造法の不織布特性と機能性不織布の方向性(共催セミナー)

光酸化技術を利用した高透過・低反射・防汚チタニア技術と太陽電池(光・熱)・有機EL・LED照明への応用(共催セミナー)

*概要
顧客ニーズに合った表面機能化技術、チタニア水分散液、新規基体保護技術「光酸化」の紹介!

*講 師
サスティナブル・テクノロジー(株) 代表取締役(技術・研究開発担当) 緒方 四郎 氏

*会 場
TIME24ビル 3F デジタル工房内セミナールーム 【東京・江東区】

*日 時
平成21年11月26日(木) 12:30-16:30

*定 員
20名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき49,980円(税込、資料付き)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容


【講座趣旨】


 太陽(光・熱)電池、各種新技術光学機器製品の、これからの顧客ニーズに合った表面機能化技術と、それらを機能させるチタニア水分散液と、新規基体保護技術「光酸化」の紹介


キーワード:太陽電池,フェイス基材,超親水

【プログラム】


1.「光酸化」技術とは?
  1―1.「光酸化」技術原理
  1―2.「光触媒」と「光酸化」技術の違い
  1―3.「光酸化」機能を発現させる造膜チタニア液の特色
  1―4.「光酸化」技術の特色


2.高透過・低反射・防汚技術への「光酸化」技術の応用
  2―1.高透過・低反射・防汚チタニア液の特色
  2―2.各製品の製造プロセスに合わせた高温加工型、低温加工型の違い
  2―3.高温加工型、低温加工型の、特色及び現場造膜仕様
  2―4.高温加工型、低温加工型の透過率性能(片面、両面)


3.内外防汚性能とその光学特性
  3―1.「光酸化」技術の防汚性能
  3―2.外部曝露による透過率性能差
  3―3.内部曝露による透過率性能差
  3―4.外部、鳥糞除去性能


4.フェイス基板表面劣化低減技術と「光酸化」技術
  4―1.基板表面劣化低減技術としての「光酸化」技術の応用
  4―2.ガラス焼け低減方法
  4―3.ポリカ紫外線劣化低減方法


5.高反射・高透明ナノ粒子チタニア技術の応用
  5―1.高透過技術と高反射技術の組合せによる各々の性能差
  5―2.今後の透明型太陽光電池への応用

【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社R&D支援センター


光酸化技術を利用した高透過・低反射・防汚チタニア技術と太陽電池(光・熱)・有機EL・LED照明への応用(共催セミナー)

偏光・複屈折の基礎と正しい計測法および具体的な応用例(共催セミナー)

*概要
偏光・複屈折を制御するために、基礎から表記法、計測法とその原理、応用例までを学ぼう!

*講 師
筑波大学 数理物質科学研究科 教授 工学博士 伊藤 雅英 氏 

*会 場
TIME24ビル 3F デジタル工房内セミナールーム 【東京・江東区】

*日 時
平成21年11月27日(金) 10:30~16:30

*定 員
20名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき49,980円(税込、資料付き)

※本講座では昼食を用意しておりません。ビル内のレストラン等でお食事が可能です。

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容
【講座趣旨】


液晶ディスプレイや光ピックアップをはじめとする最先端光学装置において、光波の偏光状態の制御は本質的に欠くことができないものとなってきている。このような偏光状態は複屈折素子を用いることにより、計測、変換、制御することができる。
ここでは、光波における偏光と複屈折の基礎から、その表記方法、計測方法などについての講義をおこなう。また、具体的な応用例として、結像素子、液晶関連、フォトニック結晶素子他についても紹介する。

【プログラム】


1.偏光とは?
  1.1 波動と光
  1.2 直線偏光と円偏光について
  1.3 偏光表記法と計算法
     ・ジョーンズベクトル
     ・ストークスパラメーター
     ・ポアンカレ球


2.複屈折とは?
  2.1 複屈折の表記法
     ・ジョーンズマトリックス
     ・ミュラーマトリックス
     ・ポアンカレ球
  2.2 偏光素子
     ・偏光子(ポラライザー)
     ・移相子(波長板)
     ・旋光子
     ・光学活性と2色性


3.偏光、複屈折計測法の原理
  3.1 偏光計、エリプソメーター
  3.2 セナルモン法
  3.3 干渉計測法


4.複屈折材料の種類と特徴
  4.1 軸性結晶
  4.2 有機材料(ポールドポリマー)
  4.3 フォトニック結晶


5.具体的な応用例
  5.1 結像素子
  5.2 液晶関連
  5.3 生体計測関連
  5.4 顕微鏡
  5.5 フォトニック結晶素子
  5.6 近接場

【質疑応答・名刺交換・個別相談など】


* 主催:株式会社R&D支援センター


偏光・複屈折の基礎と正しい計測法および具体的な応用例(共催セミナー)

高分子材料の劣化・変色メカニズムとその安定化技術(共催セミナー)

*概要
変色原因、再現試験法、防止方法などを、約200ページのテキストを使って紹介!

*講 師
共同薬品(株) 常務取締役 大阪支店長
兼 堺化学工業(株) 樹脂添加剤事業部 副事業部長 八児 真一 氏

*会 場
TIME24ビル 3F デジタル工房内セミナールーム 【東京・江東区】

*日 時
平成21年11月27日(金) 12:30-16:30

*定 員
20名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき49,980円(税込、資料付き)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容

【講座趣旨】


 高分子材料の品質トラブルの一つに黄変やピンキングなどの変色問題がある。本講座では、高分子材料の劣化機構と安定剤の劣化防止機構、変色の原因、メカニズム、再現試験法やその防止方法などを、約200ページのテキストを使って紹介する。

【プログラム】


1.高分子材料の劣化
   1-1 劣化因子と劣化現象
   1-2 劣化機構


2.高分子材料の安定化
   2-1 安定剤の種類
   2-2 安定化機構


3.安定剤の配合設計
   3-1 一般的な留意点
   3-2 相乗効果と拮抗作用


4.高分子材料の変色トラブル
   4-1 変色原因
   4-2 変色メカニズム
   4-3 変色再現試験法
   4-4 添加剤による防止方法


5.参考資料
    5-1 1982年AATCC meeting DuPont 発表資料
    5-2 高分子材料からの安定剤の分析法
    5-3 主要安定剤

【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社R&D支援センター


高分子材料の劣化・変色メカニズムとその安定化技術(共催セミナー)

押出/塗工のためのダイの設計と欠陥・不良対策(共催セミナー)

*概要
目やにを防ぐには?ダイラインを防ぐには?リビング模様を防ぐには?

*講 師
旭化成エンジニアリング(株) 加工技術エンジニアリング部
       主幹技師 (技術士/機械部門、総合技術監理部門) 綾部 守久 氏

*会 場
TIME24ビル 2F B会議室【東京・江東区】

*日 時
平成21年11月27日(金) 10:30-16:30

*定 員
15名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき49,980円(税込、資料付き)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容


【プログラム】


1.基礎知識
    1-1 ダイの種類とそれぞれの特徴は?
    1-2 ダイに求められる機能は?


2.ダイを扱う上で必要なレオロジーの知識
    2-1 せん断速度と粘度の関係は
    2-2 流体の性質にはどんな種類があるのか?
    2-3 目的にあった粘度計の選ぶには?
    2-4 粘度測定のポイントは?
    2-5 粘度の温度依存性を明確化するには?
    2-6 ダイ内の流速分布・せん断速度分布を把握するには?


3.膜厚安定化
    3-1 温度変化と流量の関係は?
    3-2 スリット寸法変化と流量の関係は?
    3-3 ダイの平面加工精度の正しい測定法は?
    3-4 流路寸法の変形はなぜ起こる?
    3-5 膜厚調整機構にはどんな種類があるのか?
    3-6 膜厚調整機構を使い分ける基準は?
    3-7 幅方向の膜厚を高精度化するには?
    3-8 流れ方向の膜厚を高精度化するには?
    3-9 膜厚変化を計算するには?


4.流路計算、流路設計
    4-1 Tダイ内の圧力バランスを計算するには?
    4-2 最適なランド長さを計算するには?
    4-3 最適なマニホールド径を計算するには?
    4-4 流量分布を計算するには?
    4-5 流路設計をする上で把握しておかなければならない因子は?
    4-6 膜厚調整機構の要否の判断基準は?
    4-7 マニホールド形状の決定要因は?
    4-8 平面加工の精度はどこまで必要か?
    4-9 表面仕上げの種類と効果は?
    4-10 エッジ加工のポイントは?


5.トラブル対策
    5-1 目やにを防ぐには?
    5-2 ダイラインを防ぐには?
    5-3 リビング模様を防ぐには?
    5-4 ゆず肌、ベナードセルを防ぐには?
    5-5 膜張り(革張り)を防ぐには?
    5-6 ブツの発生を防ぐには?
    5-7 泡の発生を防ぐには?
    5-8 高速化へ対応するには?
    5-9 大型化へ対応するには?

【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社R&D支援センター


押出/塗工のためのダイの設計と欠陥・不良対策(共催セミナー)

材料分析のための赤外吸収スペクトルの上手な読み方(共催セミナー)

*概要
赤外吸収スペクトルによるポリマーや添加剤の定性法のコツを、長年の経験に基づき整理して解説!スペクトルの意味するところの理解力があれば、検索システムをより有効に活用できる!!

*講 師
(株)三菱化学アナリテック 分析事業部 応用分析部 技師長 高山 森 氏

*会 場
TIME24ビル 2F 会議室C【東京・江東区】

*日 時
平成21年11月27日(金) 10:30-16:30

*定 員
15名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき49,980円(税込、昼食、資料付き)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容


【講座趣旨】
 赤外吸収法は、プラスチックや添加剤の定性分析で最も一般的で有用な手法である。赤外吸収スペクトルによるポリマーや添加剤の定性法のコツを、長年の経験に基づき整理して解説する。コツさえつかめば、スペクトルによる定性は謎解きにも似て楽しい作業になる。コンピュータによる検索システムが使えればスペクトルを読む力は不要と考えられがちであるが、さにあらず、スペクトルの意味するところの理解力があれば、検索システムをより有効に活用できる。
講義では次のような実際的な説明に力点を置く。


1.特性吸収帯
ポリマーや添加剤に関係する特性吸収帯、および、これが構造の違いでどうシフトするかの紹介


2.定性のコツ
スペクトルの特徴をつかんで、候補物質を効率的に探し出すコツ
・スペクトルの全体像:全体的な特徴から、化合物タイプを推定するやり方
・ゴールデンピーク:これだけで定性の決め手になる価値あるピークの紹介
・最強吸収帯:最も強いピークの位置から候補物質を絞るやり方


3.細かい識別法
赤外吸収スペクトルには多くの情報が込められており、それを読み出せば、細かい識別も可能であり、赤外法の応用が広がる(同族体の識別。共重合とブレンドの区別等)。


4.主要ポリマーおよび添加剤個々の赤外吸収スペクトルの説明


【プログラム】


1.赤外吸収スペクトルの基礎
   1-1 主要な基準振動
   1-2 主要なグループ振動(特性吸収帯)
   1-3 構造変化による特性吸収帯のシフト
   1-4 測定法、試料の状態によるスペクトルの変化
   1-5 赤外吸収スペクトルによる定性のコツ


2.ポリマーの赤外吸収スペクトルの読み方
   2-1 主要ポリマーの赤外吸収スペクトル各論
   2-2 赤外吸収スペクトルによる識別法
     2-2-1 同族体の識別法
     2-2-2 共重合体とブレンドの識別法
   2-3 赤外吸収スペクトルによるポリマーの定性のコツ
     2-3-1 スペクトルの全体像からのタイプの推定
     2-3-2 ゴールデンピークに着目した定性の早道
     2-3-3 最強吸収帯による候補の絞込み


3.プラスチック用添加剤の赤外吸収スペクトルの読み方
   3-1 主要添加剤の赤外吸収スペクトル各論
   3-2 赤外吸収スペクトルによる同族体の識別法
   3-3 赤外スペクトルによる添加剤の定性のコツ
     3-3-1 スペクトルの全体像からのタイプの推定
     3-3-2 ゴールデンピークに着目した定性の早道
     3-3-3 最強吸収帯による候補の絞込み

【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社R&D支援センター


材料分析のための赤外吸収スペクトルの上手な読み方(共催セミナー)

PHREEQCの効果的な使い方とそのポイント 〜1人1台PC実習付〜

*概要
・安価、容易かつ迅速な省エネルギー型処理を実現するためのセミナー
・PHREEQCの効果的な使い方を修得し、環境汚染、廃水・土壌浄化処理への解析へ応用しよう!

*日時
 2010年 3月  8日(月)13:00〜17:00
            9日(火) 9:30〜16:30

*予備知識
・基礎知識は特に必要ないが、パソコンを用いた実習を行うため、ウインドウズおよびエクセルの基本的な操作に慣れていることが望ましい。

*修得知識
・「PHREEQC」を用いた解析法を修得することができる。また、「PHREEQC」で用いられている表面錯体モデル、イオン交換モデル、固溶体モデル、および移流拡散モデルの基礎を修得することができる。

*講師の言葉
 「PHREEQC」はUSGS(アメリカ地質調査所、United States Geological Survey)が一般公開している地球化学コードですが、溶液中の化学平衡計算のほかに、表面錯体モデルやイオン交換モデル、固溶体モデルも兼ね備えた大変便利なフリーソフトです。バッチテストにおける滴定や混合反応はもちろんのこと、一次元の輸送計算を行うこともできますので、地下水汚染等の環境汚染問題から廃水・土壌浄化処理に至るまで、各種の解析に用いることができます。本講座では、「PHREEQC」を初めて使用される方々を対象に、その効果的な使い方を、例題を交えながらわかりやすく説明します。

*プログラム
Ⅰ.PHREEQCとは
   1.PHREEQCのダウンロード
   2.データベースの選択
   3.PHREEQCにおける解析の流れ
   4.PHREEQCで解析できることとは


Ⅱ.SOLUTION:溶液組成を解析する

   1.SOLUTION_MASTER_SPECIES:元素をデータベースに追加する
   2.SOLUTION_SPECIES:化学種をデータベースに追加する
   3.pH Charge:溶液組成からpHを計算する
   4.酸・塩基のpH計算の例


Ⅲ.EQUILIBRIUM_PHASES:溶液と平衡している固相を解析する

   1.PHASES:固相・気相をデータベースに追加する
   2.pH一定の条件で解析を行うには
   3.海水組成の計算例


Ⅳ.GAS_PHASE:溶液と平衡している気相を解析する

   1.気液平衡の計算例


Ⅴ.SURFACE:表面錯体形成を解析する

   1.PHREEQCにおける表面錯体モデルの概要
   2.SURFACE_MASTER_SPECIES:表面サイトをデータベースに追加する
   3.SURFACE_SPECIES:表面錯体反応をデータベースに追加する
   4.水和酸化鉄への表面錯体生成の計算例
   5.表面錯体モデルに関するいくつかの考察


Ⅵ.EXCHANGE:イオン交換を解析する

   1.PHREEQCにおけるイオン交換モデルの概要
   2.EXCHANGE_MASTER_SPECIES:イオン交換サイトをデータベースに追加する
   3.EXCHANGE_SPECIES:イオン交換反応をデータベースに追加する
   4.イオン交換反応の計算例


Ⅶ.SOLID_SOLUTIONS:固溶体を解析する

   1.PHREEQCにおける固溶体モデルの概要
   2.固溶体生成の計算例


Ⅷ.REACTION:滴定を解析する

   1.中和滴定の計算例


Ⅸ.MIX:溶液の混合を解析する

   1.地下水と海水の混合の計算例


Ⅹ.RATES/KINETICS:反応速度式を解析する

   1.BASICによる反応速度式のプログラミング
   2.Fe(II)→Fe(III)酸化の計算例


ⅩⅠ.TRANSPORT:1次元の流れを解析する

   1.移流拡散方程式の基礎
   2.TRANSPORT計算に必要なパラメータ
   3.一次元流れの計算例


ⅩⅡ.INVERSE_MODELING:反応の原因物質を解析する

   1.逆解析の計算例


ⅩⅢ.解析結果を出力する方法

   1.OUTPUTシートの見方
   2.USER_GRAPH:備え付けのシートとグラフに出力する
   3.PRINT/USER_PRINT:出力ファイルに出力する
   4.SELECTED_OUTPUT/USER_PUNCH:新たに作成したファイルに出力する

*受講料(消費税等込)
1名:70,350円                  同時複数申込の場合1名:65,100円 

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


PHREEQCの効果的な使い方とそのポイント 〜1人1台PC実習付〜

モータの振動・騒音対策とそのポイント 〜デモ付〜

*概要
・電磁騒音やファン騒音を低減するための技術
・モータの振動や騒音の具体的な低減対策とそのポイントについて、事例をふまえ解説する特別セミナー!!

*日時
 2010年 3月  5日(金) 10:30〜17:30 

*予備知識
・機械工学の基礎、電気工学の基礎

*修得知識
・モータの振動と騒音の電気および機械的要因
・振動・騒音への低減対策解決へのアプローチ
・機械装置の開発において、低騒音化に考慮すべきこと

*講師の言葉
 本講義では、電気機器であるモータ(コンプレッサー)の振動や騒音、その中でも特にうるさく感じられる電磁騒音やファン騒音について、事例をまじえて判りやすく解説する。
 近年、環境意識が非常に強くなり、電気機器において騒音に対する配慮が求められるようになった。一方、身近なところで多数の電気機器が使用されるようになり、静かな機器が要求されている。このため、電気機器から発生する振動や騒音について、従来以上に、低振動・低騒音化が求められている。モータの振動や騒音は、①加振力である電磁力、②伝達系のモータの構造物、③装置への伝達、について考慮する必要がある。すなわち、モータの低振動・騒音化には、音源の発生メカニズムを理解し、伝達する構造面について取り組む必要がある。
 電磁騒音には、磁束、電磁力の大きさやその周波数について、測定、解析シミュレーション、算出方法について説明する。構造には構造物の固有特性、すなわち、機械的な固有振動数の測定、計算やシミュレーションについても解説する。さらに、これらを統合した電磁−構造の連成による振動・騒音の予測計算についても解説する。
 また、機械装置に組み込まれた振動や騒音の具体的な低減対策についても低減事例をまじえて紹介する。
 また、最後に小型モータも用いて実習を行う。運転中の振動モードと騒音を最新の計測器を用いて体験する。

*プログラム
Ⅰ.振動・騒音の基礎知識
   1.周波数、音、スペクトル
   2.身近な生活での振動・騒音問題


Ⅱ.音源である電磁騒音

   1.誘導モータの電磁騒音
     a.誘導モータの磁束と電磁力
     b.誘導モータの電磁騒音の周波数
   2.DCブラシレスモータの電磁騒音
     a.DCブラシレスモータの磁束と電磁力
     b.DCブラシレスモータの電磁騒音周波数
   3.電磁騒音のシミュレーション



Ⅲ.機械系の振動、騒音

   1.実験モーダル解析による固有振動数と固有モード
   2.有限要素法解析による固有振動数と固有モード
     ・三次元積層鉄心、巻線の影響、フレームの嵌めあい
   3.商用運転およびインバータでの運転中の振動モード



Ⅳ.モータのファン騒音の低減対策

   1.ファン騒音の要因
   2.ファン騒音の低減事例



Ⅴ.トラブル事例

   1.モータの事例
   2.コンプレッサー騒音の事例



Ⅵ.実際のモータを用いた実習

   1.小型モータを用いて運転中の振動モードを測定
   2.モータの回転速度を変えたときの騒音特性の測定

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                   同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666


モータの振動・騒音対策とそのポイント 〜デモ付〜

知的画像処理技術とその応用

*概要
・スケール変化や形状変化などに強い画像処理技術
・最近の画像処理技術で注目を浴びている不変特徴記述法を修得し、効果的な応用を急げ! 

*日時

2010年 2月  26日(金) 10:30〜17:30

*受講対象
・単に画像処理システムを利用するだけではなく、画像処理アルゴリズムの改良や開発に携わる技術者の方

*予備知識
・講演内容に導関数や確率をを含む数式が含まれるため、導関数や確率に関する基礎的な知識があることが望ましい

*修得知識
・スケール変化や形状変形などに対して強い特徴記述法の概念を理解することができると同時に、物体追跡手法、あるいは対応点決定手法の基本となる知識を修得することができる

*講師の言葉
 最近の画像処理技術において注目を浴びている不変特徴記述子の概要を理解することを目的として、その技術の基盤となっている画像のスケール空間表現、導関数に基づく画像からの特徴抽出法、さらには統計的識別法の基本である単純ベイズ分類器などについて概説する。続いて、不変特徴記述子応用の中で最もよく用いられる対応点決定問題を考え、SIFT、SURF、そしてFernsの各特徴記述法について述べる。
 そして、これらの不変特徴記述法を用いた簡単な対応点決定実験の結果をもとに、それぞれの手法の特徴を比較する。最後に、これらの記述子を用いた画像処理の新たな発展とその有効性について論じる。

*プログラム
Ⅰ.知的画像処理とは
   1.AI研究とメディア処理
   2.視覚と画像処理
   3.機械学習と画像処理


Ⅱ.画像の導関数とスケール空間

   1.画像の導関数と微分幾何
   2.画像とガウス関数
   3.画像のスケール空間


Ⅲ.画像の特徴点抽出

   1.各種の微分幾何的特徴点(エッジ、コーナ)検出
   2.LoGとDoG関数
   3.スケール不変特徴点検出


Ⅳ.各種の不変特徴量

   1.像形成モデルとカメラモデル
   2.画像の幾何学的変換
   3.各種の不変特徴記述子SIFT,SURF,FERNSにおける特徴記述


Ⅴ.不変特徴記述子SIFT,SURF,FERNSについて

   1.SIFTとは
   2.SURFとは
   3.FERNSとは
   4.それぞれの不変特徴記述子の比較


Ⅵ.不変特徴量に基づく処理の応用例

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                       同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


知的画像処理技術とその応用

ソフト品質とリスクの「見える化」&「人を動かす仕組」の構築法 〜演習付〜

*概要
・問題プロジェクトを未然に防ぐ早道
・システム開発成功の鍵となる真の見える化を修得し、QCDを達成させよう!

*日時
 2010年 2月 22日(月) 10:30〜17:30
 
*受講対象
・現場の担当者、品質管理責任者、プロマネ、品質改善に取り組んでいる方、品質改善に関心のある方など(組み込みソフト系の方も歓迎します)

*修得知識
・「品質」および「リスク」の見える化実現方法と組織的プロセス改善のコツ。人間重視の仕組み構築のポイントなど

*講師の言葉
 講師は、かつて品質問題を抱えていた組織をSI分野で日本初のCMM(注1)レベル5達成に導き、高品質を実現した経験があります(後にCMMI(注1)を達成)。
 改善活動を開始する前の組織では、プロジェクト状況が見えず、何時も納期間近に問題プロジェクトが出現して苦戦していました。改善後は、「品質の悪い箇所」、「先々の工程におけるリスク」および「プロジェクト状況」が「見える化」されて、大きな問題発生が激減し、高品質を達成することができました。
 システム開発成功の鍵は、プロジェクト状況および品質とリスクを見える化し、対応策を採ることができるかどうかに掛かっていると言えます。ところで組織における「見える化」を推進することはイコール定量化ではないのです。例えばリスク度合いを定量化してもリスクのありかや内容など「真の見える化」を実現できているとは言えないのです。
 本講座においては、「真の見える化を成功させる秘訣」や「具体的なデザイン事例」について解説すると共に、効果的なテンプレート・デザインの演習を取り入れ、現場で即、役に立つ内容にしたいと考えております。また、プロセス改善を成功させるための「人を動かす仕組み構築」法についても言及し、現場の品質改善に役立つ内容に致します。
 (注1) Capability Maturity Model and CMM /CMMI are registered in the U.S. Patent and Trademark Office.

*講師

 富士通(株)  ソリューションビジネス推進本部 
             人材開発部  シニア・レクチャラ(CMMIアドバイザー)  関 弘充 氏

 (関 弘充 氏:1945年生まれ。67年富士通入社。近年、品質改善に従事(主席部長、品質保証部長)、SI分野で日本初のCMM(R)レベル5を達成し社長賞受賞。現在、シニア・レクチャラとしてプロの育成と品質改善コンサルに従事。著書:『ソフトウェアプロセス改善と品質保証の実際』『ソフトウェアのグローバルな外注管理とその実際』共著(日本テクノセンター)『〜人間重視の品質マネージメント〜ソフトウェア品質保証システムの構築と実践』(ソフト・リサーチ・センター))


*プログラム
Ⅰ.見える化を成功させるコツ
  1.何故見える化が必要なのか
  2.見える化と定量化の違い


Ⅱ.見える化と人的側面

  1.何故品質が良好と言えるのか?
  2.突然のリスク発生を防止できないか?
  3.プロセス改善と人間


Ⅲ.人を動かす仕組みの考案

  1. 人的側面「人間力」の重視
  2. 「わくわく」感と人間力の醸成
  3. 命令によらない見える化の秘訣
  4. 人間重視の思考パターンと仕組の考案
  5. ミニ演習「人を動かすコツ」


Ⅳ.効果を上げる品質の見える化デザイン

  1.レビューによる品質の見える化
    a.何故レビューが必要なのか
    b.レビューの狙いと効果
    c.ミニ演習「レビューをしているか?」
    d.レビューによる品質の見える化
    e.レビューの種類とレビューの実施方法
  2.定量的データによる品質の見える化
    a.定量的な目標値の保有
    b.定量的品質管理の具現化
    c.見える化と定量的品質管理の仕組み
    d.品質見える化のデザイン演習
    e.統計データを扱う際の留意点


Ⅴ.効果を上げるリスクの見える化デザイン

  1.リスクの見える化とリスク管理の仕組み
  2.リスク意識の高い集団
  3.リスク管理の仕組みのデザイン
  4.リスクの見える化デザイン演習
  5.リスク見える化のコツ


Ⅵ.効果的な品質管理実践サイクルと見える化

  1.計画フェーズ(定量的管理計画&リスク管理計画)
  2.実践フェーズ(リスク見える化の罠)
  3.検証フェーズ(プロジェクト状況の見える化)
  4.改善フェーズ(改善の知恵)


Ⅶ.組織的プロセス改善成功の秘訣


Ⅷ.まとめ

 
(注)一部、演習を交えて実体験いただき、理解の促進に努めます。

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                      同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


ソフト品質とリスクの「見える化」&「人を動かす仕組」の構築法 〜演習付〜

すぐに使える業務改善の技術 実践セミナ− (共催セミナー)

*概要
管理職が、どのように現場を動機付けしながら業務改善を実現するのか、実践的な方法論を学ぶ公開セミナーです


★ セミナー内容は、業務改善の視点から、現状の業務の可視化・定量化、プロセス改善と指標、問題解決、動機付けをカバーしたものです。


★ 業務改善の手法を体系的に理解し、業務の現場に自律的な業務改善を定着させたいと考える、ビジネスリーダーにお勧めしています。

*会 場
【東京・代々木】 (お申し込みをいただいた方に地図をご送付いたします)

*日 時
平成21年11月12日(木) 10:00〜16:00

*受講料
42,000円(税込)


*講座の内容


● 仕事を計ろう━━━━━━━━━━計れないものは管理できない━━━


⇒ 1人のお客様に対して、売上代金を回収するまでのコストはいくら?
⇒ クレームは、何人に1人のお客様から寄せられるのだろう?
⇒ 注文から納品までに、何時間掛かっているのだろう?


業務改善とは、仕事をこのような視点で計ることからスタートします。
視点は3つ。「やすい、うまい、はやい」を計ることです。
この視点から計った数字がKPI(Key Performance Indicator)で改善の尺度。
業務改善とは、仕事をもっと「やすく、うまく、はやく」 変えていくことです。



● 仕事を見よう━━━━━━━━━━見えないものは理解できない━━━


業務とは、多くの関係者の間を行き交う「情報の加工のリレー」です。
一連のリレーの流れを、区切って見ていくことが分析の「目」です。


どんな切り口で、区切っていけば「よく」見えるのか?
⇒ 担当者別による仕事の棚卸方式の分割?
⇒ バリューチェーンに基づく、機能による分割?
⇒ 流れの順番によるプロセス分割?
答えはプロセス分割。その理由は・・・・(セミナーで)。


プロセスで分割された業務を「見る」技術が業務フローチャート。
従来の業務フローチャートで誰もが感じる悩みを解決する
「目から鱗が落ちる」ような、新しい手法も紹介します。

● 問題解決のプロセスを理解しよう━━━━計れて見えたら解決へ━━━


業務改善は問題解決の1つです。


一見、業務プロセスに関係ない、営業力不足か景気の問題かと思われた
「過剰在庫の積みあがり」が、生産リードタイムの短縮と受注時における
受注情報を共有するという、業務プロセス上の改善策で解決した事例もある。


一方、業務プロセス上の問題に思えた、ある半導体メーカーの「製品不良」
は分析の結果、1kmも先の鉄道を走る大型貨物列車の引き起こす振動が
原因だったという、業務プロセスに無関係な問題だったこともある。


問題に対しては、業務改善という枠にとらわれずに一般的な問題解決として
アプローチすることが正しいのです。
問題解決の手法には定石があります。定石とは、賢人たちの知恵の結集。
賢人たちの知恵を、全社で利用することで組織的に正しく動けます。

*お客様の声
 大阪市西区で開設して85年になる、医療法人 寿楽会 大野記念病院の事務部長である雪山和祐氏から、プロセス・ラボの「業務改善の技術」を教育型コンサルティングとして受講された際のお話を伺いました。


▽どのような問題意識から、今回の取り組みを考えたのですか?
 医事課として業務改善をすすめるにあたり、役職者の責任の明確化と、他部署との関わりを明確にしようと思いましたが、その前段階である業務プロセスの「見える化」が不十分で、まずはそこから着手するべきだと考えました。というのは、医事課内部での仕事の分担が縦割りで、しかも業務が属人化しており、個々の仕事は担当者に聞かないと分からないし、役職者でも医事課の業務の全体像を第三者に十分に説明しきれないという状態だったからです。


▽当社の手法に興味をお持ちになったのは、なぜですか?
 業務改善を実践する現場で働く者が、自ら考えて進めていくための技術であることに魅力を感じました。教育型であることで職員が、プログラム終了後も継続して院内で改善活動を実践できると思いました。
 また、プロラボ・メソッドで作成された業務フローチャートは、業務プロセスの「見える化」において、かつてない強力なツールであると感じました。作成された業務フローチャートは、それぞれの業務プロセスを見直すだけではなく、マニュアルや工程表として活用でき、職員の適材適所への配置に繋がるだろうと考えました。


▽今回、6ヶ月のプログラムを受けていただいたのですが、職員の意識やスキルの面でどのような変化がみえてきましたか?
 プログラムを実施している6ヶ月の間に退職者が出ました。通常は欠員をすぐに補充したいという声が現場から上がるのですが、今回はそれがありませんでしたね。プログラムの中で業務の見直しを図り、人員をやり繰りしようという意識に変わってきたのだと感じました。
 またスキルの面では、特に現場を引っ張っているリーダー達にとって良かったと思います。属人的になってしまっている業務を体系的に捉えるスキルがついたと思います。


▽今後はどのように展開していきたいですか?
 まずは、医事課内の残業時間削減と業務負荷の平準化を図っていき、来年3月末までに数字としての成果を出すことが目標です。
 そしてその後に、医事課が先頭になって、病院内の業務改善を進めていけるようにしたいですね。ドクターの繁閑時間を医事課で把握して、コメディカルスタッフとドクターの連携業務のプロセス再設計を提案したり、ドクターへの情報提供において、要求されたものだけではなく、医療の質改善につながる仮説をデータとともに提供するなど、事務の枠を超え医療分野の1つのプロフェッショナル集団になっていきたいと思います。


* 主催:株式会社プロセス・ラボ


すぐに使える業務改善の技術 実践セミナ− (共催セミナー)

撮像からの出力最適画像再現技術とその応用・例 〜1人1台PC実習付〜

*概要
・撮像機器、出力機器の最適設計のための講座 
・画像に対する人の眼・脳の特性を理解し画像システム設計に活かすための特別セミナー!

*日時
 2010年 1月 27日(水) 10:00〜17:00 

*受講対象
・画像に関わる方

*予備知識
・デジカメ、プリンタ、画像処理アプリケーションに関する一般知識
・EXCELによる表計算(積和演算) グラフ化の基礎

*修得知識
・撮像から出力までのトータルシステムにおける画像設計概要
①眼が捉える画像の特性 (階調、色、像構造の評価技術、記述法)
②入出力機器の基本特性と制御すべき画像処理特性

*講師の言葉
 デジカメ等の撮像機器で現実の映像を画像データとして切り取り、プリンタ・モニタ等の出力機器で再現する画像システムにおいて、最適画像再現を実現する技術を解説する。 画像システムは、大きく「画像設計」「システム設計」という2つの観点で考える必要がある。
 「画像設計」の観点では、人の眼の分光的な特性、感度・周波数特性等 網膜レベルの応答に加え、脳で行われている画像処理を理解する。人が現実映像世界をどのように見ているかを考慮した画像再現システムが実現されている。
 「システム設計」の観点では、コスト、演算速度、システム互換性等を考慮した技術が求められ、眼の特性を利用した情報削減が採用されている。
 本講習会では、画像の撮像、出力あるいは画像マネージメントに関わる開発者を対象に、トータル画像システムを俯瞰した上で、各機器の設計指針について解説する。特に人が画像をどう見ているかの眼・脳の特性が、画像システム設計上の鍵(画像処理で実現している)になっているがこのレベルの理解から画像技術を展開する。

*プログラム
Ⅰ.画像再現技術概要
  1.画像再現の目的 
    a.入出力機器の制約の下での人の眼の視覚特性の実現
  2.画像システムの構成
    a.システムとしての要請
    b.具体的システム例



Ⅱ.眼の視覚特性

  1.網膜レベルの視覚情報処理 
  2.色・形状の識別
    a.周波数応答
  3.眼の恒常性



Ⅲ.画像の記述法

  1.眼の特性に基づく色の記述(RGB、XYZ、Lab)
  2.機器の特性に基づく色の記述(sRGB、YMCK)
  3.像構造の記述 画像の関数表現(フーリエ変換)



Ⅳ.撮像機器

  1.光像の信号化
    a.撮像センサー(CCD、CMOS)の応答 ノイズ
    b.カラーフィルターによるカラー化
  2.信号のデジタル化
    a.サンプリング(標本化)
    b.量子化
  3.撮像機器内画像処理 具体的画像処理構成例
    a.AE、AWB 眼の恒常性の実現
    b.階調最適化 脳の視覚特性の実現



Ⅴ.出力機器

  1.階調・色再現原理
    a.ハーフトーニング、ランベルトベールの法則
    b.理想色材による色再現と現実色素の影響
    c.GAMUTマッピング
  2.プリンタ内画像処理構成例
    a.デバイス非依存色空間を利用した色変換例
    b.キャリブレーションとキャラクタリゼーション



Ⅵ.システム化技術

  1.画像ファイル標準 JPEG、EXIF
  2.カラーマネージメントシステム 
*受講料(消費税等込)
1名:49,350円                同時複数申し込みの場合1名:44,100円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


撮像からの出力最適画像再現技術とその応用・例 〜1人1台PC実習付〜

すぐに使える業務改善の技術 実践セミナ− (共催セミナー)

*概要
管理職が、どのように現場を動機付けしながら業務改善を実現するのか、実践的な方法論を学ぶ公開セミナーです


★ セミナー内容は、業務改善の視点から、現状の業務の可視化・定量化、プロセス改善と指標、問題解決、動機付けをカバーしたものです。


★ 業務改善の手法を体系的に理解し、業務の現場に自律的な業務改善を定着させたいと考える、ビジネスリーダーにお勧めしています。

*会 場
【東京・代々木】 (お申し込みをいただいた方に地図をご送付いたします)

*日 時
平成21年11月12日(木) 10:00〜16:00

*受講料
42,000円(税込)


*講座の内容


● 仕事を計ろう━━━━━━━━━━計れないものは管理できない━━━


⇒ 1人のお客様に対して、売上代金を回収するまでのコストはいくら?
⇒ クレームは、何人に1人のお客様から寄せられるのだろう?
⇒ 注文から納品までに、何時間掛かっているのだろう?


業務改善とは、仕事をこのような視点で計ることからスタートします。
視点は3つ。「やすい、うまい、はやい」を計ることです。
この視点から計った数字がKPI(Key Performance Indicator)で改善の尺度。
業務改善とは、仕事をもっと「やすく、うまく、はやく」 変えていくことです。



● 仕事を見よう━━━━━━━━━━見えないものは理解できない━━━


業務とは、多くの関係者の間を行き交う「情報の加工のリレー」です。
一連のリレーの流れを、区切って見ていくことが分析の「目」です。


どんな切り口で、区切っていけば「よく」見えるのか?
⇒ 担当者別による仕事の棚卸方式の分割?
⇒ バリューチェーンに基づく、機能による分割?
⇒ 流れの順番によるプロセス分割?
答えはプロセス分割。その理由は・・・・(セミナーで)。


プロセスで分割された業務を「見る」技術が業務フローチャート。
従来の業務フローチャートで誰もが感じる悩みを解決する
「目から鱗が落ちる」ような、新しい手法も紹介します。

● 問題解決のプロセスを理解しよう━━━━計れて見えたら解決へ━━━


業務改善は問題解決の1つです。


一見、業務プロセスに関係ない、営業力不足か景気の問題かと思われた
「過剰在庫の積みあがり」が、生産リードタイムの短縮と受注時における
受注情報を共有するという、業務プロセス上の改善策で解決した事例もある。


一方、業務プロセス上の問題に思えた、ある半導体メーカーの「製品不良」
は分析の結果、1kmも先の鉄道を走る大型貨物列車の引き起こす振動が
原因だったという、業務プロセスに無関係な問題だったこともある。


問題に対しては、業務改善という枠にとらわれずに一般的な問題解決として
アプローチすることが正しいのです。
問題解決の手法には定石があります。定石とは、賢人たちの知恵の結集。
賢人たちの知恵を、全社で利用することで組織的に正しく動けます。


* 主催:株式会社プロセス・ラボ


すぐに使える業務改善の技術 実践セミナ− (共催セミナー)

太陽光発電用パワーコンディショナの基礎と変換効率の向上

*概要
利用の急増が見込まれるパワーコンディショナの基本回路と動作原理をマスターし、応用システムの開発を急げ!

会場が変更になりました。

*日時
2010年 3月 24日 (水) 10:30〜17:30

*受講対象者
- 太陽光パネル開発者
- 太陽光パワーコンディショナ開発者

*予備知識
- 電気回路、電子回路の基礎知識

*修得知識
- パワーコンディショナの回路構成、動作原理
- パワーコンディショナの実際の構成
- MPPT (Maximum Power Point Tracker) 制御の基礎
- パワーコンディショナの関連法規と法規への対応方法
- パワーコンディショナの最新技術動向

*講師の言葉
 太陽光発電用パワーコンディショナについて、基本回路構成とその動作原理をスタートに、系統連系に必要な諸性能(関連法規)、太陽光パネルの種類と特性、ソフトスイッチングなど具体的な回路技術、パワーデバイス、トランスなど回路を構成する種々の部品に至る、パワーコンディショナを構成する上での基礎から実際までを横断的に解説する。
 特に、PV2030に代表される太陽光発電の普及活動や太陽光パネルの生産状況、SiCデバイス等の適用メリットなど、最近の話題に言及する。


*プログラム
Ⅰ. システムの概要と太陽光発電の動向
  1. システム構成
  2. PV2030について

Ⅱ. 太陽光パネルの種類と特徴
  1. 太陽電池の分類
  2. 主な太陽電池の特性
  3. 太陽電池メーカの動向

Ⅲ. 主な回路構成と特性
  1. 産業用PCS
  2. 一般家庭用PCS

Ⅳ. MPPT制御と部分影
  1. 太陽電池の電力特性
  2. 最大電力追従制御
  3. 部分影の影響
  4. ストリング方式とマイクロインバータ

Ⅴ. 関連法規と法規対応
  1. 電気設備技術基準
  2. 系統連系用件ガイドライン
  3. EMC関連

Ⅵ. 最近の技術動向
  1. ソフトスイッチング方式
  2. 階調制御方式
  3. リカバリアシスト方式
  4. SiC、GaNデバイスの可能性

*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
宮崎県東京ビル (市ヶ谷) 1階 会議室
JR総武線、東京メトロ南北線、有楽町線 市ヶ谷駅より徒歩5分
住所: 102-0074 東京都九段南4-8-2
電話番号: 03-3263-5756

太陽光発電用パワーコンディショナの基礎と変換効率の向上

システム開発におけるテストケース設計法と実践 〜演習、デモ付〜

*概要
テストケースの妥当性および網羅性を向上し、システムの品質向上に活かせ!

*日時
2010年 3月 19日 (金) 10:30〜17:30

*受講対象者
- テストエンジニア
- 開発エンジニア
- プロジェクトリーダ
- 開発部門および品質管理部門でテスト設計を実施するエンジニア
- テスト設計に関心があるマネージャ

*予備知識
- ソフトウェアテストの経験があることが望ましい。

*修得知識
- ブラックボックス技法およびホワイトボックス技法を理解できます。
- テスト設計に対する考え方およびテスト設計手順が明確になります。
- テストシナリオ/テストケース設計技法を習得できます。
- 効果的なテストシナリオ/テスト設計ができるようになります。

*講師の言葉
 効果的なテストであるかは、テストケースの妥当性および質に依存します。「よい」テストケースを設計するためには、テストエンジニアリングに基づいた技術と方法を適用することが重要です。

 テストケースの網羅性を明確にするためには、テストシナリオを設計することが鍵となります。テストシナリオ設計にはビジネスロジックの正確な理解が必要であり、フローチャート、ディシジョンテーブル等の技法が有効です。

 また、テストケース設計は一種の組合せのゲームであり、最小でかつ有効なテストデータセットを選ぶことがテスト成功の鍵です。同値分割、境界値分析等の技術はテストデータを絞り込むために有効です。

 本セミナーでは、効果的なテストシナリオ・テストケース設計の技術と方法を解説するとともに、4つのワークショップにより、実際のテストケース設計スキルを習得することができます。


*プログラム
Ⅰ. テスト設計技法

Ⅱ. ブラックボックス技法
  1. テストケース設計法
  2. テストデータ設計法
  3. テストデータの組合せ法
  4. ビジネスロジックの記述法

Ⅲ. 階層的なテスト設計法
  1. 階層的なテスト設計法
  2. テストシナリオとテストケース
  3. テストケース
  4. テスト十分性

Ⅳ. ケーススタディ (1) テストケース設計
  1. オンラインフライト予約システム

Ⅴ. ワークショップ (1) テストケース設計
  1. ログインモジュール
  2. 登録モジュール
  3. NextDay()モジュール

Ⅵ. ホワイトボックス技法
  1. コード構造
  2. 制御フローテスト
  3. データフローテスト
  4. カバレージテスト
  5. ホワイトボックス技法の有効利用

Ⅶ. ワークショップ (2) コード構造に基づくテストケース設計
  1. NextDay()モジュール

*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



システム開発におけるテストケース設計法と実践 〜演習、デモ付〜

設計漏れを防ぐ要件定義のプロセスとテクニック  〜演習付〜

*概要
要件定義手法を体系的に学ぶための特別セミナー!

*日時
2010年 2月 26日 (金) 10:30〜17:30

*受講対象者
以下のいずれかの経験をお持ちの方を前提としております。
- 2〜3年以上の業務アプリケーションの構築経験者
- 業務アプリケーションの上流工程実施経験
- 業務アプリケーションの構築時に「設計漏れ」を味わった経験

*予備知識
- 特に必要ございません。

*修得知識
- 業務アプリケーションの要件定義のプロセスへの理解
- 業務フロー、システムユースケース記述の記述方法
- 要件定義で注意すべきポイント

*講師の言葉
 業務アプリケーションの構築で、リリース直前に「設計漏れ」が発覚し、多大な苦労をすることがあります。
 では、なぜ「設計漏れ」が発生するのでしょうか?
 私は「設計漏れ」の多くは、要件定義時、特に業務要件定義時に発生すると考えています。
 そこで漏れなく要件定義するため、つまり「設計漏れ」を防ぐための“一つの解決策"として、体系だった要件定義手法を、私の実体験を交えて解説させていただきます。


*プログラム
Ⅰ. 「設計漏れ」の定義
  1. コンピュータシステムの役割
    a. 業務のツール
    b. ミスの防止装置
  2. 「設計漏れ」とは
    a. 業務を停止させてしまう「漏れ」
    b. 処理の正確性が失われてしまう「漏れ」
    c. 処理の迅速さ・耐久性が失われてしまう「漏れ」

Ⅱ. 「設計漏れ」を防ぐ要件抽出プロセス
  1. 業務要件定義
    a. 現行業務の分析
      ・ビジネスユースケース図(As-Is)
      ・業務フロー(As-Is)
      ・ビジネスルール(As-Is)
      ・帳票一覧(As-Is)
      ・業務コスト表(As-Is)
    ・課題表
    b. 業務要件定義
      ・ビジネスユースケース図(To-Be)
      ・業務フロー(To-Be)
      ・ビジネスルール(To-Be)
      ・帳票一覧(To-Be)
      ・業務コスト表(To-Be)
      ・課題解決表
    c. 演習
      ・業務フローの書き方
  2. システム要件定義
    a. システム要件定義
      ・システムユースケース一覧(To-Be)
      ・概念モデル図(To-Be)
      ・システムユースケース記述(To-Be)
      ・ビジネスルール(To-Be)
      ・状態遷移図(To-Be)
    b. 演習
      ・システムユースケース記述の書き方

Ⅲ. 質疑応答


*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



設計漏れを防ぐ要件定義のプロセスとテクニック  〜演習付〜

システム開発における非機能性テスト設計法   〜演習・デモ付〜

*概要
曖昧なシステムの非機能要件を明確化し、システムテストの品質向上に活かせ!

*日時
2010年 2月 19日 (金) 10:30〜17:30

*受講対象者
- テストマネージャ
- テストリード
- テストエンジニア
- 開発部門、品質管理部門で非機能テスト設計を担当するエンジニア
- 非機能テストに関心があるマネージャ

*予備知識
- システムテストの経験があることが望ましい。

*修得知識
- 非機能テストに関する知識を習得できます。
- システムに対する品質属性を明確化し、テスト可能な非機能要件を導き出す方法を理解できます。
- 非機能テストのテストシナリオ/テストケース設計法を理解できます。
- オペレーションプロファイルを設計できるようになります。

*講師の言葉
 実環境でシステムパフォーマンスをテストし、ソフトウェアの限界点を知ることは重要です。このためには、 実環境でのシステムの使用をモデル化し、テストシナリオ/テストケースを設計するための技術が必要です。

 本セミナーでは、テストシナリオを設計するための技法である「オペレーションプロファイル」設計法を解説します。また、システムの非機能要件は曖昧であることが多いため、システムに要求される品質属性を明確化し、テスト可能な非機能要件を導き出す方法を解説します。

 本セミナーでは、LSPSテスト(負荷、ストレス、パフォーマンス、拡張性)に焦点を当てますが、信頼性テスト、連続運転テスト、リカバリーテスト、使用性テストに関しても説明します。

 ケーススタディおよびワークショップにより、オペレーションプロファイル設計法を習得することができます。また、ワークショップで実施されるデモにより、パフォーマンス測定の実際を体験することができます。


*プログラム
Ⅰ. テスト概論
  1. 機能要件と非機能要件
  2. テストレベル、テストタイプ、テスト技法
  3. パフォーマンス、負荷、ストレス、ボリューム、信頼性テスト
  4. ISO9126ガイドライン


Ⅱ. 非機能テスト概論
  1. 非機能テスト
  2. テストプロセス
  3. 期待される品質属性の理解と明確化プロセス


Ⅲ. LSPS(負荷、ストレス、パフォーマンス、拡張性)テスト
  1. LSPSテストの目的
  2. 潜在ディフェクトと実施すべきテストタイプ
  3. LSPSテストシナリオ設計
  4. オペレーションプロファイル設計
  5. 自動化
  6. テストの実行と報告


Ⅳ. ケーススタディ (1) オペレーションプロファイル設計
  1. オンラインチケット予約システム


Ⅴ. ワークショップ (1) オペレーションプロファイル設計
  1. SugarCRM


Ⅵ. ケーススタディ (2) テスト結果と分析
  1. パフォーマンステスト結果と分析


Ⅶ. ワークショップ (2) パフォーマンス測定デモ
  1. SugarCRM


Ⅷ. パフォーマンスエンジニアリング
  1. パフォーマンスモデルリング
  2. パフォーマンスチューニング
  3. キャパシティ・プランニング


Ⅸ. 信頼性テスト
  1. 概要
  2. ソフトウェア信頼性の理論
  3. テスト設計
  4. 信頼性モデリングツールの適用


Ⅹ. その他の非機能テスト
  1. 連続運転テスト
  2. リカバリーテスト
  3. 使用性テスト
*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



システム開発における非機能性テスト設計法   〜演習・デモ付〜

ソフトウェア開発における品質マネジメント実践講座

*概要
品質を「つくりこむ」ためのマネジメント実践法を体得し、プロジェクトを成功に導け!

*日時
2010年 1月 22日 (金) 10:00〜17:00

*受講対象者
- ITプロジェクトのプロジェクトマネージャ・チームリーダ経験者
- プロジェクトで品質管理担当になったがどこから考えればよいかわからない方
- 初めてプロジェクトマネージャ・リーダを務める方

*予備知識
- ITプロジェクトの用語が、ある程度理解できる知識
- ISO9000に出てくるキーワード程度
- サブリーダ経験程度の知識

*修得知識
- ソフトウェア開発プロジェクトでの品質マネジメントの必要性と重要性
- さまざまな品質問題への対応

*講師の言葉
 ソフトウェア開発プロジェクトにおいては、その開発過程で様々な問題が発生するが、その中でも品質はキーポイントである。また、近年は、ビジネス系情報システムだけでなく、自動車・携帯電話・家電・計測機器・クレジットカードなどへの組み込みソフトウェアの範囲が拡大し、ソフトウェア品質問題が社会に及ぼす影響も大きくなり、品質に対する要求・期待も大きい。

 そこで、ソフトウェア、品質、マネジメントの3つのキーワードからもう一度ソフトウェアの品質問題を見直し、ソフトウェア品質の特徴からみて、品質を向上させるにはどういう活動をしたら良いか、具体的な事例を含めて解説しよう。

 また、何事も失敗から学ぶことが重要であるので、参加者から失敗事例または現在抱えている品質問題を話してもらいこれを元にディスカッションする時間を設けたい。


*プログラム
Ⅰ. ソフトウェア開発プロジェクトの成功とは
  1. QCDSMと顧客満足
  2. QCDSMの関係
  3. Q:品質がキーポイント
  4. 誰の満足か?

Ⅱ. 品質とは
  1. なぜ品質か
  2. 品質の定義
  3. 品質マネジメントと品質保証
    a. 品質管理
    b. 品質マネジメント
    c. 品質保証

Ⅲ. マネジメントとは
  1. 管理(コントロール)とマネジメント
  2. 開発プロジェクトのキーはマネジメント
  3. 仕事のやり方の改善
  4. マネジメントはPDCA

Ⅳ. ソフトウェア開発の特徴
  1. ソフトウェアの特徴と品質マネジメント活動
    a. 目に見えない
    b. 人が作る
    c. 実世界の写像
    d. 変化する実世界
  2. ソフトウエア開発ライフサイクルでの品質活動
    a. Vモデル
    b. 品質は作りこむもの
    c. 上流のバグを下流で発見すると手間隙(金)がかる
    d. レビューの効用
    e. バグがでないことは品質が良いか?
    f. 試験は最後の砦
    g. リワークが品質をあらわす

Ⅴ. プロジェクトマネージャは何をすべきか
  1. 事実を見るために
    a. データを取る(最初から)
    b. 制御可能領域を見定める
    c. 公開の原則
    d. お客様との対応
    e. 外注ソフトハウスへの対応
    f. ベンダ製品、オープン製品への対応
    g. ツールの導入
  2. 解析の方法
    a. QC7つ道具
    b. 新QC 7つ道具

Ⅵ. 知っておいて欲しい品質の関連知識
  1. ISO9000
  2. SWEBOK
  3. CMM/CMMI、SPA,SPI
  4. PMBOK
  5. SQuBOK
  6. 各種の国際標準 (FunctionPointなど)


*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



ソフトウェア開発における品質マネジメント実践講座

ソフトウェア技術者のための文章作成力強化講座 〜実習付〜

*概要
過不足無く、正確な成果物を記述するスキルが身に付く

*日時
2010年 1月 18日 (月) 13:00〜18:30
       1月 19日 (火)  9:30〜15:00

*受講対象者
- ソフトウェア技術者
- ソフトウェアのドキュメント作成を行う方

*予備知識
- ソフトウェア開発の経験がある事

*修得知識
- システム開発でのドキュメント作成において、最も必要となる文章力
- システム化企画書の作成
- RFP・提案書の読み方・書き方

*講師の言葉
 システムを開発する上で作成される成果物のうちソフトウェアの文章は6割以上にもなります。
これらの文章はソフトウェアの品質を高める役割はもちろんのこと、開発終了後の製品保証にも用いられる重要なものになります。
 ソフトウェア文章を間違いなく正確に作成するためには次のような能力の積み重ねが必要です。
つまり、手紙などの生活に用いる文章、次に報告書などのように仕事において作成される資料、さらに技術関連に用いられる文章、これらを積み重ねた上で初めてソフトウェア文章が作成できるようになります。
 しかしながら日本国内では、これらの順番を理解した上で基礎から教えているところはありません。
多くのソフトウェア技術者は、なんらソフトウェア文章の教育と指導を受けることなく、そのまま実践配置されているのが実情です。
 これらの状況を鑑み、2年間で1,700人に講義してきた結果をもとに最も必要となる文章力について講義します。


*プログラム
Ⅰ. オリエンテーション
  1. 研修の進め方
  2. チーム力育成
  3. 文章書力育成
  4. 仕事の仕方の基本

Ⅱ. 基礎力確認
  1. 品詞の並べかた
  2. 句の並べ方
  3. 助詞の使い方

Ⅲ. 罹患文解析
  1. 罹患文1
  2. 罹患文2
  3. 罹患文3
  4. 罹患文4
  5. 罹患文5

Ⅳ. 文章力向上の基礎
  1. 構文力
  2. 語彙力
  3. 論理力
  4. 発想力
  5. 分析力

Ⅴ. 縮約と要約
  1. 説明
  2. 実習
  3. 解説

Ⅵ. システム化企画書の作成
  1. 事例紹介
  2. UMLによる記述
  3. 実習
  4. 解説

Ⅶ. RFPと提案書
  1. RFPの目的
  2. 実例
  3. 書き方
  4. 提案書の要点
  5. 提案書の読み方

Ⅷ. まとめ


*受講料
1名:65,100円
同時複数申し込みの場合1名:59,850円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



ソフトウェア技術者のための文章作成力強化講座 〜実習付〜

集光型太陽電池の開発と応用

*概要
大規模太陽光発電として有望な集光型太陽電池
2030年には40GWの年生産量と、太陽電池生産の約1/3を占めることが期待されている、集光型太陽電池を先取り、応用を急げ!

*日時
2010年 1月 15日 (金) 10:00〜17:00

*受講対象者
- 太陽電池・太陽光発電関連の技術者、研究者、開発者
- 太陽電池・太陽光発電関連の企画担当
- 太陽電池・太陽光発電関連のマーケティング担当

*予備知識
- 特に必要ございません。

*修得知識
- 太陽電池全般の動向
- 集光型太陽電池の高効率化の可能性
- 集光型太陽電池の低コスト化の可能性
- 集光型太陽電池の要素技術の概要
- 集光型太陽電池の応用分野

*講師の言葉
 2008年7月に北海道・洞爺湖で開催されたG8サミットでも議論されたように、地球温暖化は確実に進行しかつ深刻になりつつある。こうした中、太陽電池を用いた太陽光発電システムは、深刻化する地球環境問題やエネルギー問題を解決する手段として、世界中から大きな期待が寄せられている。ドイツの気候変動諮問会議がまとめた「2100年の世界エネルギービジョン」によれば、2100年には、世界のエネルギーの7割が太陽(光)発電で賄われるだろうと予想されている。

 こうした大きな期待や人類文明の維持発展への貢献のためには、太陽光発電に関するさらなる研究開発を含めて色々な努力が必要なことは言うまでもない。

 本セミナーでは、将来の大規模太陽光発電として有望で、2030年には40GWの年生産量と太陽電池生産の約1/3を占めることが期待されている集光型太陽電池の現状を述べると共に、将来展望について私見を述べさせていただく。


*プログラム
Ⅰ.太陽電池全般の動向と将来展望
  1. 太陽電池の必要性
  2. 太陽電池の導入状況
  3. 太陽電池の原理
  4. 各種太陽電池の特徴、適用分野、研究開発動向
    a. 結晶シリコン太陽電池
    b. 薄膜シリコン太陽電池
    c. II−VI族、CIS系太陽電池
    d. III−V族太陽電池
    e. 色素増感・有機太陽電池
    f. 新概念・量子ナノ構造太陽電池
  5. 将来展望

Ⅱ.多接合太陽電池の高効率化の可能性と動向
  1. 太陽電池の高効率化の必要性
  2. 多接合太陽電池の高効率化の可能性
  3. 多接合太陽電池の高効率化の動向
  4. 宇宙用太陽電池応用
  5. 今後の展望

Ⅲ.集光型太陽電池の低コスト化の可能性と動向
  1. 集光型太陽電池の低コスト化の可能性
  2. 集光型太陽電池の高効率化の動向
  3. 集光型モジュールの要素技術
    a. 光学系
    b. 放熱設計
    c. モジュール化
    d. 追尾系
  4. 集光式太陽光発電の現状
  5. 集光型太陽電池の応用分野
    a. 大規模発電
    b. 農業応用
    c. 自動車応用
  6. 今後の展望


*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666

集光型太陽電池の開発と応用

ソフトウェア文章記述の基本と要求仕様書の作成のポイント

*概要
・システムの開発の要となる
・企画書作成のポイントとソフトウェア文章を確実にマスターし、開発におけるトラブルをなくそう!

*日時
 2010年 3月  9日(火) 10:30〜17:30
 
*受講対象
・システム開発の経験はあるが、要求仕様書を最初から書き下ろす仕事はまだ任されていない情報技術者。ユーザー部門で要求仕様を作れと言われたが何をして良いのかわからない担当者。

*予備知識
・システム開発についての基本的な常識を持っていること(企画、設計、開発、テスト、運用というシステム開発の流れがおおよそ理解できる)

*修得知識
・ ソフトウエア開発文章の難しさについて理解できる
・ 要求仕様書の目的、ねらい、その難しさが理解でき、仕様書の基本的な作り方の知識が得られる。
・ それぞれの難しさを克服する手段、方向が明らかになる

*講師の言葉
 日本人の文章力の低下が問題になっていますが、システム開発の現場はもっと深刻です。まともな仕様書を渡さなかったために、多額の開発投資が無駄になったり、仕様変更のおかげで会社に大きな損失を与えたりする例があとをたちません。本講座は、システム開発の要(かなめ)となる要求仕様書を書くために、そのツールである日本語そのものの理解を深めるとともに、要求仕様書の基本的な考え方、書き方を学びます。

*プログラム
Ⅰ.ソフトウエア文章記述の基本
   1.ソフトウエア文章の難しさはどこから来るか
      ・ロジックは目に見えないので説明できない、理解してもらえない
      ・本当はとんでもなく大規模なしかけなのだが簡単そうに見える
   2.日本語は表現力のある豊かな言語だが
      ・語順が自由で細やかな表現ができる
      ・助詞が豊富で言外の意味がこめられる
      ・主語と述語が離れて修飾が容易にできる
   3.美しい、正確な日本語ではなく、正しく理解できる日本語
      ・現在の日本語教育は文芸志向で実務的でない
   4.軽視されてきた文章力のとがめが来ている
      ・職場で文章を鍛えられる機会が少なくなった
   5.ソフトウエア文章を記述するときの守るべきポイント
      ・いくつかの原則を守れば、そう難しくない



Ⅱ.要求仕様書作成のポイント

   1. 要求仕様書とは
      ・本来はユーザーが作るものだが、素人には無理
   2.大きく変貌した要求仕様書をとりまく環境
      ・ITの驚異的な発達が、これまでのシステム開発の仕様書を無用にした
   3.要求工学はベストプラクティスに過ぎない。実践は至難の業
     ・構造的にはこのとおりだが、現実の作業現場と隔たりがありすぎる
   4.実態、制約条件に合った要求仕様書を書くのは熟練が必要
     ・文章力、問題解決力、技術力、どれをとっても経験がものを言う
   5.要求仕様の本質とは何か
     ・抽象から具体物へ、具体物から抽象化へ、この繰り返し
   6.ではどうしたら良いか
     ・常に考えること。手段と目的を間違えないこと。想像力を豊かにすること

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                     同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


ソフトウェア文章記述の基本と要求仕様書の作成のポイント

バグの発見の効果的な検証手法(レビュー・テストの効率化)

*概要
・効率良く品質を上げ、短納期を実現するための講座
・検証コストをおさえ、他社に勝つための方法を修得するための特別セミナー!


*日時
 2010年 4月  14日(水)13:00〜17:00
            15日(木) 9:30〜16:30

*受講対象
・レビュー・検証担当者やリーダ

*予備知識
・ある程度基礎的なソフト開発の知識あるいは2年以上のシステム開発経験がある方

*修得知識
・効率的なレビューとテストの進め方

*講師の言葉
 今日、ソフトウェア規模は急激に大きくなり、複雑さも増しています。しかも、予算内で他社よりも早く出荷するといった制約の中で開発する必要もあります。ここで最大の問題が検証コストで、この効率化が他社との競争力に大きく貢献します。ところが、教科書や標準などにある開発モデルはウォーターフォールモデルを基礎とした検証方法が中心で、品質向上については有効でも、「他社との競争に勝つ」という観点からは不十分な所がありました。当教育の目的は、他社に勝る短納期実現等の現実の課題への対応について、事例ベースで教育し、自分たちに合ったやり方を考えて頂くことにあります。
 教育ではまず、開発中での要件変更・追加が激しい場合での効果的な管理方法について述べます。また、ウォーターフォールモデルにとらわれないで、要件の決定状況に合わせた開発モデルの選択方法や戦略的な開発方法についても解説します。レビューでは、目的に合わせて最適なレビュー方法を選択し、さらにいろいろなレビュー方法を組み合わせて効率良く品質を上げる方法を解説します。
 テストにおいては、網羅性の高いブラックボックステスト項目の作成方法と、設計レビューとテスト項目作成を兼用して開発効率を上げる方法を解説します。また、考えられる障害からテスト項目を設定する方法や、多量のテスト項目から有効なテスト項目を選定した事例を解説します。またテストの工数や期間短縮するためのノウハウも解説します。

*プログラム
Ⅰ.要件の明確化と開発プロセスの設計
   1.要件の確立とレビュー
   2.要件実現に合った計画・進捗管理



Ⅱ.バグの発見しやすい仕様書の書き方

   1.要件との首尾一貫性
   2.品質特性と開発方針の設定
   3.応用事例
   4.要件と機能・モジュールの関連把握
   5.仕様書作成の注意事項
   6.ソフトウェア設計の技法と視点
   7.障害処理設計
   8.機能変更・改造
   9.ドキュメントのレビュー



Ⅲ.効率を上げるレビュー計画と管理法

   1.技術レビューの実施観点
   2.レビューの階層構造
   3.レビュー方式
   4.レビューのやり方
   5.レビューレビューで利用する道具
   6.レビューの時期
   7.レビューの方法全体まとめ
   8.レビューの目的と最適な方法の例
   9.レビュー計画表の作成
  10.レビューの管理
  11.レビューの効率化
  12.レビューの評価



Ⅳ.テストの効率化

   1.目的
   2.テストフェーズ
   3.機能網羅テスト
   4.制御網羅テスト
   5.mutation based testing
   6.静的テスト
   7.テスト項目選択のノウハウ
   8.テスト手順とノウハウ
   9.テスト工程でのレビュー項目
  10.テストの自動化
  11.ソフトウェア信頼性評価技法



Ⅴ.要件や機能の変更に対する検証へのフィードバック

   1.変更管理の目的
   2.変更管理の内容
   3.変更管理方法
   4.変更管理手順例

*受講料(消費税等込)
1名:65,100円                  同時複数申込の場合1名:59,850円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



バグの発見の効果的な検証手法(レビュー・テストの効率化)

車載ECU・半導体の耐環境性と信頼性向上策

*概要
・安全・信頼性確保のための講座
・人の安全を確保するために不可欠な車載半導体の信頼性を確保するための特別セミナー!!

*日時
 2010年 2月 10日(水) 10:30〜17:30 
※時間が変更になりました。
*予備知識
・半導体デバイスの基礎知識

*修得知識
・車載ECU、半導体の耐環境性、信頼性向上のためのチェックポイント

*講師の言葉
 メカトロニクス化された自動車には1台に多数のECU(電子制御ユニット)が搭載されるようになり、ECUが自動車の品質を左右する要因の一つとなる。ECUの品質はそれを構成する電子部品、中でもマイコンを中心とした半導体の使い方や選び方に依存し、電子信頼性技術の核となっている。
 電磁環境の厳しいECUは半導体が、車両で発生する通常の電気ストレスでは決して壊れないように設計される。半導体の使い方を誤らないためにはその耐環境性を把握し品質を評価することが重要である。この評価には半導体の作り方(工程)が含まれる。半導体の市場品質は流出する欠陥数に依存するためである。本講演ではこうした半導体の耐環境機能と市場品質についての知見と共にそれらの最近の傾向について報告する。

*プログラム
Ⅰ.車載システムの動向と半導体
  1.パワートレーン制御  車両運動制御
  2.コクピットモジュール 電波機器
  3.ITS  HMI



Ⅱ.車載環境とECUの信頼性開発

  1.電磁環境と耐環境試験
  2.温湿度環境
  3.認定試験と限界試験  限界試験の必要性
  4.ECUの耐久性



Ⅲ.欠陥の流出防止

  1.市場品質と欠陥  スクリーニング
  2.検査率・欠陥検出



Ⅳ.半導体の耐環境性

  1.ESD耐量と伝搬経路
  2.電波ノイズ ロジックレベル
  3.電源変動とパワーオンリセット
  4.エミッションノイズと発振回路
  5.ハーネス故障とパワーIC
  6.半田耐熱性・パワーSMD・チップLED

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                      同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666


車載ECU・半導体の耐環境性と信頼性向上策

パターン認識の基礎と応用 〜1人1台PC実習付〜

*概要
・視聴覚認識の統計的アプローチにおける識別の高精度化・高速化のためのパターン認識 
・視聴覚認識の原理的な枠組みや具体的手法を学び、音声や画像システムへ応用しよう!

*日時
 2010年 2月 9日(火) 13:00〜17:00
           10日(水)  9:30〜16:30 

*受講対象
・開発、技術、研究部署の若手担当者

*予備知識
・線形代数の基礎、確率・統計の基礎

*修得知識
・パターン認識システムの基本的な構成法
・データからの識別部の学習法
・パターン認識フリーソフトウェアの基本的な使用法

*講師の言葉】
 パターン認識技術は、人間が音声を理解したり、文字を読み取ったり、人の顔を見分けたりする能力を、コンピュータに持たせるための技術である。データの前処理や特徴を抽出するプロセスは画像・音声・各種時系列データなどの認識対象によって異なるが、最も重要な識別プロセス対象に依存せず、統計をベースにしてあざやかに理論化されている。
 本講義では、講師の「フリーソフトウェアでつくる音声認識システム」の前半部(パターン認識の基礎理論)を中心に、パターン認識のプロセスを要領よく解説するとともに、随所でフリーソフトウェアを用いた実演を交えて、理論と実践の橋渡しを行う。
 また、応用事例として音声認識・画像認識の定番であるフリーソフトウェアの基本的な使い方解説する。

*プログラム
Ⅰ.パターン認識とは
  1.パターン認識システムの構成
  2.パターン認識の基本的な手順



Ⅱ.前処理

  1.信号の取り込み
  2.ノイズ除去



Ⅲ.特徴抽出

  1.パターンの変動に強い特徴とは
  2.画像情報の特徴
  3.音声情報の特徴



Ⅳ.パーセプトロンの学習規則

  1.パターンの境界を発見する方法
  2.機械学習の基本的な手順について



Ⅴ.誤差評価に基づく学習

  1.パーセプトロンの学習規則が使えない場合
  2.誤差評価関数を最小にする学習法



Ⅵ.サポートベクトルマシン

  1.サポートベクトルマシンの概要
  2.サポートベクトルマシンの適用事例
  3.フリーソフトウェアによる動作例(実習)



Ⅶ.ニューラルネットワーク

  1.ニューラルネットワークの概要
  2.ニューラルネットワークの適用事例
  3.フリーソフトウェアによる動作例(実習)



Ⅷ.ベイズ識別

  1.統計的パターン認識の基礎理論
  2.最尤推定法
  3.ベイズ識別の適用事例



Ⅸ.評価と再構成

  1.構成したパターン認識システムを評価する方法
  2.パターン認識システムをチューニングする方法



Ⅹ.応用事例

  1.音声認識の基礎理論
  2.音声認識フリーソフトウェアの動作例
  3.画像認識用ライブラリの紹介

*受講料(消費税等込)
1名:71,400円            同時複数申し込みの場合1名:66,150円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


パターン認識の基礎と応用 〜1人1台PC実習付〜

説得効果を高める提案書の作り方・プレゼンの仕方

*概要
実践的な提案力、表現力、文章力、論理的思考力が身に付く特別セミナー!
ライティング、プレゼンテーション、ロジカルシンキングの基本スキルを底上げし、魅力的な提案、効率的な設計に活かせる!

*講座の趣旨
- 技術者に必要な論理的思考力の養成をベースとした、ライティングやプレゼンテーションの基本的なスキルを演習を交えて体験学習します。
- 講師や参加者同士のフィードバックにより自分自身の強み・弱みを把握。現状からのレベルアップを目指して、気付きを振返ることにより、今後の行動を改善するヒントを掴みます。

*日時
2009年 11月 16日 (月) 10:00〜17:00

*受講対象
- ソフトウェアの要件定義、基本設計を含め、顧客との折衝を業務とする担当者
- 技術営業、営業支援を業務とする担当者、管理者
- 効果的な提案、プレゼンテーションを行いたい方
- 部下の提案、プレゼンを指導するためのノウハウを習得されたい方
- 社内での企画、提案を通すためのスキルを習得されたい方。

*予備知識
- 特に必要ございません。

*修得知識
- ドキュメンテーション、文書力の基本を習得できる。
- プレゼンテーション技術の基本を習得する。
- 目的に応じたストーリー設計ができる。
- 効果的な提案書、プレゼンテーション資料の作成方法を習得する。
- 説得できる提案、プレゼンテーションが実施できる。
- 提案、プレゼンテーションの評価のポイントが理解できる

*講師の言葉
 業績改善のために、技術部門の果たす役割は大きくなっています。
 顧客のゴールに合致した企画提案、よりレベルの高いシステム提案など多様化する顧客ニーズをグリップするために必要なテクニックを身につける必要があります。
 効果的な伝え方が出来なくて、お客様及び社内のコミュニケーションが悪くなった経験はありませんか?
 本講座では、効果的な伝え方である「ロジカルプレゼンテーション技術」について、基本の考え方から実践的な技術まで、実習を通して総合的に習得し、実践的なスキルアップを技術者のために提供します。

*プログラム
Ⅰ. ロジカルライティング&プレゼンの仕方とは
  1. 本講座のゴール設定
  2. ロジカルライティング&プレゼンの重要性

Ⅱ. ロジカルシンキング4つの基本ポイント
  1. 演習1「エレベータトーク」
  2. ロジックツリーの基本
  3. Grouping(情報集約)
  4. So What?(メッセージ抽出)
  5. MECE(ヌケモレチェック)
  6. Why so?(根拠提示)

Ⅲ. プロフェッショナルな提案書の作り方
  1. 演習2「ロジカルライティング」
  2. 個人ワークと発表
  3. 提案書についての講義と解説
  4. フィードバック

Ⅳ. プロフェッショナルなプレゼンテーション
  1. 演習3「ロジカルプレゼンテーション」
  2. 非言語メッセージの技術
  3. 言語メッセージの技術
  4. 比喩の技術
  5. 相手視点の技術
  6. 上手い質問の受け方応え方

Ⅴ. 演習4 総合演習「勝てる提案書とプレゼン」
  1. 個人ワークと発表
  2. フィードバック
  3. 今後のアクションプラン作成

*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



説得効果を高める提案書の作り方・プレゼンの仕方

技術者のための提案書の作り方・プレゼンの仕方 〜演習付〜

*概要
実践的な提案力、表現力、文章力、論理的思考力が身に付く特別セミナー!
ライティング、プレゼンテーション、ロジカルシンキングの基本スキルを底上げし、魅力的な提案、効率的な設計に活かせる!

*講座の趣旨
- 技術者に必要な論理的思考力の養成をベースとした、ライティングやプレゼンテーションの基本的なスキルを演習を交えて体験学習します。
- 講師や参加者同士のフィードバックにより自分自身の強み・弱みを把握。現状からのレベルアップを目指して、気付きを振返ることにより、今後の行動を改善するヒントを掴みます。

*日時
2009年 11月 16日 (月) 10:00〜17:00

*受講対象
- ソフトウェアの要件定義、基本設計を含め、顧客との折衝を業務とする担当者
- 技術営業、営業支援を業務とする担当者、管理者
- 効果的な提案、プレゼンテーションを行いたい方
- 部下の提案、プレゼンを指導するためのノウハウを習得されたい方
- 社内での企画、提案を通すためのスキルを習得されたい方。

*予備知識
- 特に必要ございません。

*修得知識
- ドキュメンテーション、文書力の基本を習得できる。
- プレゼンテーション技術の基本を習得する。
- 目的に応じたストーリー設計ができる。
- 効果的な提案書、プレゼンテーション資料の作成方法を習得する。
- 説得できる提案、プレゼンテーションが実施できる。
- 提案、プレゼンテーションの評価のポイントが理解できる

*講師の言葉
 業績改善のために、技術部門の果たす役割は大きくなっています。
 顧客のゴールに合致した企画提案、よりレベルの高いシステム提案など多様化する顧客ニーズをグリップするために必要なテクニックを身につける必要があります。
 効果的な伝え方が出来なくて、お客様及び社内のコミュニケーションが悪くなった経験はありませんか?
 本講座では、効果的な伝え方である「ロジカルプレゼンテーション技術」について、基本の考え方から実践的な技術まで、実習を通して総合的に習得し、実践的なスキルアップを技術者のために提供します。

*プログラム
Ⅰ. ロジカルライティング&プレゼンの仕方とは
  1. 本講座のゴール設定
  2. ロジカルライティング&プレゼンの重要性

Ⅱ. ロジカルシンキング4つの基本ポイント
  1. 演習1「エレベータトーク」
  2. ロジックツリーの基本
  3. Grouping(情報集約)
  4. So What?(メッセージ抽出)
  5. MECE(ヌケモレチェック)
  6. Why so?(根拠提示)

Ⅲ. プロフェッショナルな提案書の作り方
  1. 演習2「ロジカルライティング」
  2. 個人ワークと発表
  3. 提案書についての講義と解説
  4. フィードバック

Ⅳ. プロフェッショナルなプレゼンテーション
  1. 演習3「ロジカルプレゼンテーション」
  2. 非言語メッセージの技術
  3. 言語メッセージの技術
  4. 比喩の技術
  5. 相手視点の技術
  6. 上手い質問の受け方応え方

Ⅴ. 演習4 総合演習「勝てる提案書とプレゼン」
  1. 個人ワークと発表
  2. フィードバック
  3. 今後のアクションプラン作成

*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



技術者のための提案書の作り方・プレゼンの仕方 〜演習付〜

バグを出さない効果的なレビュー計画およびチェックリスト作成演習 〜1人1台PC実習付〜

*概要
開発効率を上げるための ソフトウェアレビュー 計画、チェックリスト、チェック方法作成のノウハウを公開!

*日時
2010年1月 12日 (火) 13:00〜17:00
      1月 13日 (水)  9:30〜16:30

*受講対象者
- ソフトウェア開発経験者
- ソフトウェアプロジェクト管理経験者
- ソフトウェア品質保証経験者

*予備知識
- ソフトウェア設計・製造経験が1年以上あること

*修得知識
- 既存設計書のバグ発見や既存機能の改造におけるバグ発見のレビュー方法を知る
- 演習によって、自らのバグ発見の弱点を知る

*講師の言葉
 効率的な レビュー をしたり、テストをするには、項目の網羅性を上げ漏れを防ぐだけでなく、限られ工数での実施のために、重点を絞った実施をしなければなりません。この方法として、JIS X0129-1994 の品質特性の表を活用する方法がありますが、これをさらに使いやすくし、さらに運用を体系化する必要があります。
 本講座では、これに従った レビュー 項目重点化方法や、それに従った レビュー 計画策定方法を教育するだけでなく、そのためのツールを提供し、具体的に レビュー 計画や レビュー 項目を設定して使い方を修得していただきます。
さらに、 レビュー 時に図や表を作成して レビュー を確実にする方法を説明し、チェックリストに対する具体的な レビュー 方法も検討して頂きます。
 テスト項目の重点化のためにも、当方法が有効です。
 工程移行判定や外注先の受け入れ検査などにおいても、その レビュー 観点やテスト観点を事前に設定し、これに従って審査することも必要です。
この場合にも利用できます。
 さらに、これを使った品質メトリックスについても演習を中心に教育します。

*プログラム
■講義
Ⅰ. 設計の技法と視点 (講義)
Ⅱ. レビュー技法 (講義)
  1. レビューの階層構造
  2. レビュー方式
  3. レビューのやり方
  4. レビューで利用する道具
  5. レビューの目的と最適な方法の例
  6. レビューの効率化

■個人演習
Ⅲ. レビューの重点化と計画作成演習 (個人演習)
  1. 品質特性
  2. 重要品質特性絞り込み (重要度ランク付け演習)
  3. レビュー・テスト計画策定 (レビュー計画策定演習)
  4. 開発フェーズの考え方
  5. 行程移行の考え方
  6. 行程移行の定量化目標の作り方例 (開発フェーズ定義から行程移行レビュー観点策定演習)
Ⅳ. レビューチェックリストとレビュー方法検討演習 (個人演習)
  1. デザインレビュー項目・レビュー方法策定
<講義>
  2. 応用事例(講義)
Ⅴ. 開発フェーズ毎での品質目標設定とそのメトリックス(講義)
  1. 管理サイクル
  2. レビューの効率計測
  3. レビュー管理表の利用方法

*受講料
1名:70,350円
同時複数申し込みの場合1名:65,100円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



バグを出さない効果的なレビュー計画およびチェックリスト作成演習 〜1人1台PC実習付〜

設計漏れを防ぐ要件定義のプロセスとテクニック

*概要
・業務アプリケーションの構築における方法
・要件定義手法を体系的に学ぶための特別セミナー!

*日時
 2010年  2月 5日(金)  10:00〜17:00

*受講対象
・以下のいずれかの経験をお持ちの方を前提としております。
・2〜3年以上の業務アプリケーションの構築経験者
・業務アプリケーションの上流工程実施経験
・業務アプリケーションの構築時に「設計漏れ」を味わった経験

*予備知識
・特に必要ございません。

*修得知識
・業務アプリケーションの要件定義のプロセスへの理解
・業務フロー、システムユースケース記述の記述方法
・要件定義で注意すべきポイント

*講師の言葉】
 業務アプリケーションの構築で、リリース直前に「設計漏れ」が発覚し、多大な苦労をすることがあります。
 では、なぜ「設計漏れ」が発生するのでしょうか?
 私は「設計漏れ」の多くは、要件定義時、特に業務要件定義時に発生すると考えています。
 そこで漏れなく要件定義するため、つまり「設計漏れ」を防ぐための“一つの解決策"として、体系だった要件定義手法を、私の実体験を交えて解説させていただきます。

*プログラム
Ⅰ.「設計漏れ」の定義
  1. コンピュータシステムの役割
    a. 業務のツール
    b. ミスの防止装置
  2. 「設計漏れ」とは
    a. 業務を停止させてしまう「漏れ」
    b. 処理の正確性が失われてしまう「漏れ」
    c. 処理の迅速さ・耐久性が失われてしまう「漏れ」



Ⅱ.「設計漏れ」を防ぐ要件抽出プロセス

  1. 業務要件定義
    a. 現行業務の分析
      ・ビジネスユースケース図(As-Is)
      ・業務フロー(As-Is)
      ・ビジネスルール(As-Is)
      ・帳票一覧(As-Is)
      ・業務コスト表(As-Is)
    ・課題表
    b. 業務要件定義
      ・ビジネスユースケース図(To-Be)
      ・業務フロー(To-Be)
      ・ビジネスルール(To-Be)
      ・帳票一覧(To-Be)
      ・業務コスト表(To-Be)
      ・課題解決表
    c. 演習
      ・業務フローの書き方
  2. システム要件定義
    a. システム要件定義
      ・システムユースケース一覧(To-Be)
      ・概念モデル図(To-Be)
      ・システムユースケース記述(To-Be)
      ・ビジネスルール(To-Be)
      ・状態遷移図(To-Be)
    b. 演習
      ・システムユースケース記述の書き方


Ⅲ. 質疑応答

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                     同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666


設計漏れを防ぐ要件定義のプロセスとテクニック

人間中心設計と電子政府ユーザビリティ

*概要
・Web2.0時代の公共システム・ウェブサイトの開発手法
・「電子政府ユーザビリティガイドライン」を修得し、ユーザビリティを保証できる開発プロセスの構築を急げ!

*日時
 2010年 1月  26日(火) 10:00〜18:00 

*修得知識
・人間中心設計の概要と、電子政府ユーザビリティガイドラインに則した開発体制構築の要点が習得できる

*講師の言葉
 2009年7月に各府省の情報化統括責任者(CIO)連絡会議において『電子政府ユーザビリティガイドライン』が決定・公表されました。その名のとおり、これは行政機関の電子申請システムやそのウェブサイトのユーザビリティ向上を図った日本政府による公式な規定です。行政機関だけでなく、地方自治体や独立行政法人、国立大学法人その他公的な活動を行う民間法人もこのガイドラインを参考にすることが推奨されています。
 このガイドラインの最大の特徴は、ユーザーインターフェースの設計基準を示した「デザインガイドライン」ではなく、開発プロセスを定義した「プロセスガイドライン」であるという点です。そのため公的なシステムやウェブサイトの開発・改修に係わる業務を受注するベンダーには、ユーザビリティを保証できる開発プロセスを構築することが求められます。
 このセミナーでは、まずガイドラインの理論的な基盤となった「人間中心設計(HCD)」について解説します。そして、電子政府ユーザビリティガイドラインの原文を読み解きながら、ガイドラインに準拠した新たな開発体制を議論します。

*プログラム
Ⅰ.ユーザビリティと人間中心設計
   1.ユーザビリティ≠使いやすさ
   2.ユーザビリティ3要素
   3.失敗の原因
     a.ゴムのユーザ
     b.コンテキスト
     c.点と線のユーザ体験
   4.人間中心設計(HCD)プロセス
   5.ISO 13407(ISO 9241-210)
   6.HCDの事例


Ⅱ.人間中心設計手法

   1.ユーザ調査法
     a.インタビュー
     b.シナリオ
     c.ペルソナ
   2.プロトタイピング手法
     a.ペーパープロトタイプ
     b.デジタルプロトタイプ
     c.専用ツール
   3.ユーザビリティ評価法
     a.インスペクション
     b.ユーザビリティテスト


Ⅲ.電子政府ユーザビリティガイドライン

   1.ガイドラインの背景
     a.誰も使わないシステム
     b.電子政府ガイドライン作成検討会
   2.ユーザビリティガイドライン概要
     a.PDCAサイクル
     b.ユーザビリティ向上計画
     c.利用品質目標


Ⅳ.ガイドラインとシステム開発

   1.HCDとシステム開発
     a.ウォーターフォール開発
     b.アジャイル開発
   2.ガイドライン準拠の要点
     a.ユーザビリティ
     b.アクセシビリティ
     c.組織(HCD専門家チーム)


Ⅴ.エピローグ

   1.国内ユーザビリティ専門機関
     a.公的団体
     b.大学
     c.コンサルティングファーム
   2.Q&A

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                  同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


人間中心設計と電子政府ユーザビリティ

プラズマ表面処理技術と評価

*概要
・高度な親水化状態が得られるプラズマ表面処理
・接着性、耐磨耗性、帯電性、防曇性、撥水性、生体適合性などの機能を付与することで樹脂や医療材料への応用が期待されるプラズマ表面処理技術の修得を急げ!

*日時
 2010年 2月  5日(金) 10:30〜17:30

*受講対象
・企業で働く研究者、技術者、管理職の方で、社内にプラズマ処理技術を導入しようと考えておられる方、コロナ放電処理では性能不足と考えて折られる方、今後の新しいプラズマ処理技術に触れてみたいと思われる方を対象としています。

*予備知識
・特に必要ではありませんが、内容に高度なものも含まれていますので、プラズマ処理に興味のある方が好ましいと思います。

*修得知識
・プラズマ処理とコロナ放電処理の違いが分かります。また、大気圧プラズマ処理についても知識が得られます。表面解析に用いる分析技術も知ることができます。最も重要なことは、プラズマによる高分子の表面処理の本質が分かります。

*講師の言葉
 プラズマはガスを励起活性化させ反応性の高いガス雰囲気を形成します。プラズマを高分子表面を処理することにより、高度な親水化状態が得られることは良く知られています。最近、プラズマを制御し、高分子表面に選択的にOH基やNH2基などの化学官能基を選択的に形成しようとする試みがなされており、それなりの成果が得られるようになってきました。接着性の向上はプラズマ処理における重要な用途であり、このような選択的な官能基形成技術は極めて有用な技術であることが分かっています。但し、官能基が形成される厚みはせいぜい5nm程度であり、その解析には高度な分析技術が必要になります。
 講義の中では、高分子の表面物性、プラズマの基礎をできるだけ平易に解説するとともに、プラズマ処理表面の解析に用いられる分析手法を含めた処理技術を説明させて頂きます。さらに、選択的官能基形成技術などの最近の話題についても解説する予定です。

*プログラム
Ⅰ.プラズマ処理の観点からみた高分子の表面構造
   1.工業化されている表面処理技術
   2.プラズマ処理の競合技術
   3.濡れ性と接着性の関係について
   4.高分子表面の構造
   5.プラズマ処理は何を目指すべきか



Ⅱ.高分子プラズマ処理の一般的な特性

   1.ナノサイズ加工技術としてのプラズマ処理
   2.選択ガスによる表面処理効果の違い
   3.エッチングとインプランテーションの同時進行
   4.リモートプラズマの重要性
   5.選択的な表面改質技術に関して



Ⅲ.選択的官能基形成技術

   1.選択的官能基形成とはどういうことか
   2.NH2基修飾の試み
   3.OH基修飾の試み
   4.COOH基修飾の試み
   5.Br基修飾の試み



Ⅳ.プラズマ処理 真空から大気圧へ

   1.大気圧グロー放電プラズマについて
   2.ヘリウム以外のガスを用いた大気圧プラズマ処理
   3.コロナ放電処理との違い
   4.大気圧プラズマを用いた特殊な表面処理の例



Ⅴ.プラズマ処理表面の観察手法

   1.表面観察手法の概要
   2.XPS分析
   3.ATR-FTIR分析
   4.和周波分光(SFG)
   5.走査プローブ顕微鏡
   6.SIMS分析



Ⅵ.選択的官能基形成のための課題

   1.プラズマによって誘起される表面反応
   2.プラズマによる酸化反応はdown-hill反応
   3.選択的官能基形成のための課題

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円             同時複数申込の場合1名:42,000円 

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



プラズマ表面処理技術と評価

ZigBeeの規格と応用開発事例

*概要

・省電力、低コスト、規格の標準化により関心を集める
・さらに用途が広まるZigbeeについて学び、ワイヤレス時代をリードしよう!

*日時
2009年 11月 6日 (金) 10:00〜17:00

*予備知識
・ワイヤレス通信に関する簡単な予備知識

*受講対象
・通信、アプリケーション関係の技術者

*修得知識
・IEEE802.15.4、ZigBee規格の基本、特性、応用分野

*講師の言葉
 ZigBeeはワイヤレスパーソナルエリアネットワークの新しい低速通信方式で、格安で消費電力の低いチップが流通しており、商用利用の気運が高まっている。IEEE規格の分類ではBluetoothやHomeRF等と同じIEEE802.15系に属しており、ワイヤレスパーソナルエリア通信の低速モードを規格化するIEEE802.15.4で標準化された。

 特徴としてはBluetoothよりも低速(20〜250Kbps)ではあるものの、通信距離は数十m確保でき、省電力化も重視されており電池駆動で数年の動作を目指している。また、最大255の端末を同時に接続でき、動的なアドレッシングも可能であるため、様々なネットワーク形態が実現できる。世界共通の16チャネル(ISM帯域)に加えて、各国の近距離通信帯域でもチャネルの確保が可能である。(例えば米国では915MHz帯で10チャネル追加)またBluetoothと比較して、レイヤ構造がシンプルで接続時間も非常に速いので、これまでにない利用方法に期待が集まっている。

 本講では、ZigBeeの特徴,規格内容,商品例やIEEEの動向について解説する。

*プログラム
Ⅰ.ZigBeeの概要

  1.ZigBeeの歴史・組織

  2.ZigBeeの目的

  3.ZigBeeの特徴

  4.ZigBeeとIEEE規格

  5.ZigBeeとISM帯域



Ⅱ.ZigBeeの規格化

  1.ZigBeeのレイヤ構造

  2.ZigBeeのスペクトル拡散

  3.ZigBeeのベースバンド処理

  4.ZigBeeのネットワーク接続

  5.ZigBeeの実用化



Ⅲ.ZigBeeの応用事例

  1.ZigBeeのアプリケーション

  2.ZigBeeの開発キット

  3.ZigBeeを用いた研究・開発事例

*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
弊社研修室 (西新宿)


ZigBeeの規格と応用開発事例

ゴム・樹脂部品における信頼性試験と故障解析および寿命予測

*概要

・故障・事故の未然防止に向けて

・実際の樹脂・ゴム部品の事例を中心に故障解析やデータ解析のノウハウを詳解!

*日時
2009年 10月 27日(火)10:00〜17:00 
 
*受講対象
・製品設計や信頼性・故障解析に携わっている技術者の方
 
*予備知識
・特にありませんが、できれば、品質、信頼性に関する基礎的な知識

*修得知識
・信頼性に関する考え方や試験、故障解析のやり方が理解できます。また、現在悩んでいる「限られた期間で、どう評価を行うのか」等の解決のヒントが得られます

*講師の言葉
 複写機やプリンタには、種々の樹脂・ゴム部品が使用されており、それらを商品開発段階において評価することや、実際の市場で問題が発生したときに故障解析を行なう事は、非常に重要な業務になっています。
 本講座では、実際の樹脂・ゴム部品の事例を中心に、製品開発の各ステップで行われている、故障解析や評価のやり方、データ解析等をそれらの留意点を含めながら、紹介していきます。

*プログラム
Ⅰ.信頼性の基本と信頼性設計に関する考え方
  1.信頼性の基本的な考え方
  2.信頼性設計技



Ⅱ.信頼性試験の進め方

  1.信頼性試験の考えた/進め方
  2.具体的な信頼性試験事例


Ⅲ.故障解析の進め方

  1.故障解析の基本的な考え方
  2.信頼性データ収集と解析
  3.ゴム・樹脂部品の故障解析事例


Ⅳ.故障物理と寿命予測

  1.故障物理モデルと寿命予測
  2.ゴム・樹脂部品を中心とした寿命予測事例


Ⅴ.再発防止/未然防止による信頼性造り込み/信頼性向上

  1.故障解析と再発防止/信頼性改善
  2.商品開発における信頼性造り込み活動


*受講料(消費税等込)
1名:47,250円            同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
宮崎県東京ビル (東京・市ヶ谷)
JR総武線、東京メトロ南北線、有楽町線 市ヶ谷駅より徒歩5分
住所: 102-0074 東京都九段南4-8-2
電話番号: 03-3263-5756


ゴム・樹脂部品における信頼性試験と故障解析および寿命予測

人を動かすプレゼン資料の作り方とプレゼンの仕方

*概要
・ビジネスの成果を決めるプレゼン
・説得できるシナリオ作成方法とスピーチ型プレゼンテーションを習得し、実践力を身につけよう!

*日時
2010年 1月  26日(火) 10:00〜17:00

*受講対象
・効果的なプレゼンテーションを行いたい方
・部下のプレゼンを指導するためのノウハウを習得されたい方

*修得知識
・プレゼンテーション技術の基本を習得する
・目的に応じたストーリー設計ができる
・効果的なパワーポイント作成方法を習得する
・説得できるプレゼンテーションが実施できる
・プレゼンテーションの評価のポイントが理解できる

*講師の言葉
 「ビジネスの成果を決める最大の能力はプレゼンテーション能力である!」と言っても過言ではありません。本講習会では、皆様の苦手意識を克服し、説得できるプレゼンテーション「成果を上げるプレゼンテーション」の極意を習得していただきます。経験やノウハウは不要です。やる気のみをご持参ください。

*今回は、プレゼンの基本技術の習得から、説得できるシナリオ作成方法とスピーチ型のプレゼンテーションを習得しますが、パワーポイントを活用したビジュアルプレゼンテーションの習得を希望される方は「人を動かすプレゼンテーション(パワーポイント資料の実践的作成方法)」(2月24日)を是非ご受講下さい。

*プログラム
Ⅰ.プレゼンテーションと現状認識
   1.プレゼン演習Ⅰ
   2.フィードバック




Ⅱ.プレゼンテーションの極意

   1.プレゼンテーションの構成要素
   2.プレゼンテーションの目的
   3.マルチメディアプレゼンテーションの効果



Ⅲ.発表スキルを身に付けよう!

   1. シナリオ作成と実施準備
   2.音声と話し方のポイント
   3.言葉の選択に関するポイント
   4.表情と視線のコントロール
   5.指示棒の操作と活用方法
   6.シナリオ設計とストーリー展開
   7.質疑応答実施のポイント



Ⅳ.コミュニケーション演習



Ⅴ.プレゼンテーション演習Ⅱ



Ⅵ.プレゼンテーションと評価のポイント



まとめ

*受講料(消費税等込)
1名:49,350円
2/24(水)「パワーポイント資料の実践的作成法」と同時申込みの場合1名:89,250円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666

人を動かすプレゼン資料の作り方とプレゼンの仕方

高品質達成のための人を活かす協力会社マネージメント法 〜演習付〜

*概要
・成功の鍵は協力会社にあり
・人間重視の品質改善実践法を修得し、品質問題を解決しよう!
・採算性向上のためのリスクの見える化

*日時
2010年 1月 25日(月)10:00〜17:00  

*受講対象
・ソフト開発、システム開発、システム運用などに携わっている担当者、リーダ、マネージャー、品質管理担当者、品質改善の推進者、人材育成担当者など(組み込みソフト系の方も歓迎)

*修得知識
・「協力会社マネージメント」プロセス、「協力会社マネージメント」の実践ポイント、具体的な品質改善実践方法、改善活動へ動機付けする方法など

*講師の言葉
 情報システムのソフトウェア開発は、自社開発する要員不足起因あるいは効率的な開発を実現するために、大半の開発を協力会社に依存しているのが現状です。従って、システム開発の成功確率は協力会社に照準を合わせたマネージメントの良し悪しに左右されることになります。かつて、納品された協力会社の品質の悪さに苦戦を強いられたことが多々ありましたが、その時は協力会社に完全にお任せの状況であり、協力会社マネージメントが不在だったのです。仮に、協力会社さんに対して高品質を要求し続けた場合、相手の品質管理についての成熟度が高くなるまで品質は改善されません。品質効果を早く得るためには相手に要求し続けるよりも、相手の立場に立ち、連携し、動機付けする「協力会社マネージメント」を組織的に展開しなければならないのです。
 本講座においては、品質問題を抱えていた組織をSI分野で日本初のCMM ®(注1)レベル5達成(後にCMMI(注1)を達成)及び高品質達成に導いた実績を背景に、協力会社さんと連携して実践し、効果を上げた人間重視の品質改善の実践事例及び協力会社マネージメントのポイント等について丁寧に解説いたします。
 (注1)CMM® :Capability Maturity Model and CMM /CMMI are registered in the U.S. Patent and Trademark Office.

*講師
富士通(株)  ソリューション事業推進本部  人材開発部
  シニア・レクチャラ(CMMIアドバイザー)上級教育士(工学・技術)JSEE認定  関 弘充 氏

 (関 弘充 氏:1945年生まれ。67年富士通入社。近年、品質改善に従事(主席部長、品質保証部長)、SI分野で日本初のCMM(R)レベル5を達成し社長賞受賞。現在、シニア・レクチャラとしてプロの育成と品質改善コンサルに従事。著書:『ソフトウェアプロセス改善と品質保証の実際』『ソフトウェアのグローバルな外注管理とその実際』共著(日本テクノセンター)『〜人間重視の品質マネージメント〜ソフトウェア品質保証システムの構築と実践』(ソフト・リサーチ・センター))


*プログラム
Ⅰ. 力がないから力を貸してもらう

  1. 協力会社マネージメントの基本理念
  2. 「お任せ蓋開け方式」は駄目



Ⅱ. 品質カルチャーの不在

  1. お金重視のカルチャー
  2. 未成熟なマネージメントと人材育成の不在
  3. オフショア開発とカルチャーの壁
  4. 人的側面を重視した協力会社マネージメント 


Ⅲ. 「人間力」を生かした協力会社マネージメント

  1. 協力会社マネージメントにおける問題
  2. 問題解決の際の思考パターン
  3. 協力会社マネージメントと人間力


Ⅳ. 協力会社と連携した品質管理のデザイン事例

  1. 品質を良くするのは誰か
  2. 上流工程からの品質の作り込み
  3. 品質保証・改善グループへの役割付与


Ⅴ. 品質保証計画の策定

  1. 品質保証計画策定の目的
  2. 品質保証計画に盛り込むもの


Ⅵ. 品質改善活動のデザイン方法

  1. 高品質達成のための第三者検証・監査
  2. 定量的品質管理
  3. リスク管理
  4. 欠陥予防


Ⅶ. 協力会社と連携した組織的改善活動

  1. 組織的なプロセス改善とは
  2. 「不具合を生成しない」全員参加型改善提案活動
  3. 協力会社マネージメントのポイント


Ⅷ. まとめ

[一部演習付き]

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円               同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


高品質達成のための人を活かす協力会社マネージメント法 〜演習付〜

精密位置決めと防振対策

*概要
・数式ベースの制御系とは異なる、講師経験に基づいた実務的な泥臭い技術を詳解する
・ナノの精度で高速位置決めを可能とする制御テクニック、コストダウンを含めた最適化手法を修得できる特別セミナー!

*日時
  2010年 1月 25日(月) 13:00〜17:00
            26日(火)  9:30〜16:30

*予備知識
・大学学部程度の制御工学および機械工学

*修得知識
・位置決めと防振に関する基礎と応用
・使用パーツによる効果的なコストダウン手法

*講師の言葉
 先端技術の分野では、「超」あるいは「ナノ」を冠にいただく用語を多用する。位置決め分野でも「超精密位置決め技術」あるいは「ナノメータ位置決め技術」と称しており、後者の場合、文字どおりナノの精度で高速位置決めがなされる。しかし、意外にオーソドックスな制御系が組まれている。そして、最近の開発の場面では、コストダウンを強烈に意識する必要に迫られている。制御系の構造、最適化手法、そして位置決め時の現象を捉えた制御系再構築など、数式ベースの制御系とは異なる泥臭い技術を紹介するとともに、採用しているコストダウンの手法についても言及する。

*プログラム
Ⅰ.精密位置決めと防振との関係



Ⅱ. 精密位置決め  
  1.位置決め装置の例
    a.構造例
    b.主要パーツとコストダウン
  2.仕様
  3.制御系
    a.伝統的な3重ループの構成
    b.多用するノッチフィルタ
  5.アドバンスド制御の適用性
    a.外乱オブザーバ
    b.H無限大制御
    c.学習制御
  6.防振の必要性
  7.技術開発動向
    a.低固有値化の方向性
    b.多重防振の動向


Ⅲ.防振技術
  1.基礎
    a.空気ばねの防振
    b.空気ばねとVCM併用の防振
    c.ピエゾ素子を用いた防振
  2.使用するパーツとコストダウン
  3.制御系
    a.基本原理
    b.コストダウンの事例
    c.独立制御からモード制御へ
    d.フィードバックとフィードフォワード
    e.剛体制御から柔軟モードの制御へ
  4.位置決めに資する制御テクニックの搭載
    a.カウンタフォース方式
    b.傾斜補正
    c.床振動フィードフォワード
  5.技術開発動向


Ⅳ.総括


*受講料(消費税等込)
1名:65,100円             同時複数申し込みの場合1名:59,850円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666

精密位置決めと防振対策

ポリ乳酸技術とその応用

*概要
・特性が向上し、CO2削減、石油資源の節約に一段と重要性を増している
・ノートパソコン、AV機器、携帯電話の筐体、自動車部品などで使用が活発化しているポリ乳酸技術を修得し、応用を急げ!

*日時
 2009年 1月 20日(水) 10:00〜17:00 

*受講対象
・バイオマスプラスチックの関連技術者
・バイオマスプラスチックを利用した製品開発を考えておられる企画担当者、技術者

*予備知識
・高分子に関する基礎知識(大学低学年レベル)
・バイオマスに関する基礎知識(一般教養程度)

*修得知識
・バイオマスプラスチックに関する基礎知識
・ポリ乳酸に関する基礎〜応用知識、最近の技術トレンド

*講師の言葉
 21世紀になり、地球温暖化問題が社会的にクローズアップされるにつれ、循環型社会構築に向けた取組みとして、バイオマスを利用したエネルギー生産が注目されるようになった。これはバイオマスが二酸化炭素を固定化したものであり、バイオマスから作ったエネルギーを使用して二酸化炭素を排出したとしても、地球上の二酸化炭素濃度が上昇しないためである。バイオマスエネルギーはカーボンニュートラルと捉えられ、バイオマスエネルギーの利用は化石資源の枯渇対策としても重要である。オイルリファイナリーの中でエネルギー利用と並んで重要なプラスチックについても、バイオリファイナリーへのシフトが社会的に強く求められている。
 本セミナーではバイオマスから作られるプラスチックの代表格であるポリ乳酸を取り上げ、その基礎から応用・技術トレンドまでを幅広く紹介します。

*プログラム
Ⅰ.バイオマス利用技術


Ⅱ.バイオマスプラスチックと生分解性プラスチック


Ⅲ.ポリ乳酸の開発動向

   1.製造方法・基本物性
   2.成形加工技術
   3.応用・用途開発例
   4.ブレンド・複合化技術
   5.ポリ乳酸関連ポリマーの開発
   6.今後の用途開発に向けて必要なテクノロジー
     a. 製造プロセス数の短縮による低コスト化
     b. 耐熱性向上(ステレオコンプレックスなど)
     c. 射出成型技術(結晶核剤の開発)
     d. 可塑化技術

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                 同時複数申込の場合1名:42,000円 

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


ポリ乳酸技術とその応用

米国特許にみるパワーエレクトロニクスのスナバ・クランプ回路技術

●内容
 このレポートでは、調査対象といたしました約4000件の米国特許の中から、注目すべき特許を抽出しました。これからの開発方向の指針やヒントを得る技術資料として、また、開発路線を展開する際の事前調査の初期段階として、権利網の分布を推察するための基礎的特許調査資料としてお使いいただければ幸いです。

1-1.調査対象
 本調査では、通常の先行技術特許調査とは異なり、下位分類を用いない広範囲な米国特許分類指定と普遍的なキーワ・一ドによる検索を掛け合わせる手法を用いることにより、網羅的な調査対象の設定を行いました。
 また、対象期間の設定も17年間とすることにより、スナバ・クランプ回路技術の時代的な変遷を浮かび上がらせるとともに、権利的側面からの基礎的特許調査資料としての性格も備えるものといたしました。
 対象設定の詳細は以下をご覧ください。なお、正確な対象件数は3896件です。
a)対象期間発行日が1979年9月以降1996年8月6日までを対象としました。
b)米国特許分類
 スイッチング電源から各種インバータ、UPS、モータドライバ、電気自動車制御などに共通する下記の7つの米国特許分類としました(オリジナルクラスが次ののいずれかに該当するものを対象とします)。
307…ELECTRICAL TRANSMISSION OR lNTERCONNECTION SYSTEMS
315…ELECTRIC LAMP AND DISCHARGE DEVICES:SYSTEMS
318…ELECTRlClTY, MOTlVE POWER SYSTEMS
323…ELECTRICITY,POWER SUPPLY OR REGULATlON SYSTEMS
361…ELECTRICITY,ELECTRICAL SYSTEMS AND DEVICES(ただし、下位600~837=HOUSING OR MOUNTING ASSEMBLIES WITH DIVERSE ELECTRICAL COMPONENTSを除く)
363…ELECTRlC POWER CONVERSlON SYSTEMS
388…ELECTRICITY, MOTOR CONTROL SYSTEMS
c)キーワード
 米国特許のタイトル、アブストラクト、クレームのいずれかに、次の8つのキーワードのうち少なくとも一つを含んでいるものを対象といたします。
・"SNUB"、"CLAMP"、"CLlP"のうち少なくともひとっが含まれている(スナバ回路、クランプ回路構成を主体とした観点より)
・"RECYCL"、"REGEN"、"RETURN"のうち少なくともひとつが含まれている(リセット回路、回生回路構成を主体とした観点より)
・"LOSS"、"STRESS"のうち少なくともひとっが含まれている(スナバ回路、クランプ回路、リセット回路等の効果を主体とした観点より)

●体裁
 A4ファイル綴じ 214ページ

●価格
 定価 207,900円(本体198,000円)

●発刊
1996年 11月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

 会社名:
 所在地:
 部署名:
 氏 名:
 TEL:
 FAX:
 E-mail:

非接触ICカードの通信制御方式

●内容
 非接触ICカードは、交通機関の電子乗車券、コンビニ・キオスクなどでの買い物に支払いをする電子マネー、クレジットカードそして身分を証明する住民基本台帳カード、電子パスポートなどに採用され、日常生活に欠かせないものになってきました。これらに関する仕様の標準化も進み、それに基づく製品開発も盛んになっています。このため、非接触ICカード関連の特許出願も急激に多くなっています。
 そこで、2002年以降に出願された特許情報からノイズを削除し、主要技術別に分類しました。①回路技術に関するもの、②アンテナを主として構造に関するもの、③通信制御に関するものなどで大分類し、さらに要素ごとに再分類してまとめています。これにより、設計・開発に当たる担当分野ごとに参照しやすく、最近の技術開発の動向を知る資料として役立ちます。
 本書では、③通信制御に関するものについて下記のような観点でまとめています。
◆ 非接触ICカードとそのリーダ/ライタ間の通信方式等に関するソフトウエアによる制御に関する事例を抽出する。例えば、一つの動作磁界に複数の非接触ICカードとリーダ/ライタ間で通信方式の確立、メモリの読み書きの制御など。

●体裁
 A4判 99頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 6月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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 部署名:
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 FAX:
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非接触ICカードとリーダ/ライタの回路技術

●内容
 非接触ICカードは、交通機関の電子乗車券、コンビニ・キオスクなどでの買い物に支払いをする電子マネー、クレジットカードそして身分を証明する住民基本台帳カード、電子パスポートなどに採用され、日常生活に欠かせないものになってきました。これらに関する仕様の標準化も進み、それに基づく製品開発も盛んになっています。このため、非接触ICカード関連の特許出願も急激に多くなっています。
 そこで、2002年以降に出願された特許情報からノイズを削除し、主要技術別に分類しました。①回路技術に関するもの、②アンテナを主として構造に関するもの、③通信制御に関するものなどで大分類し、さらに要素ごとに再分類してまとめています。これにより、設計・開発に当たる担当分野ごとに参照しやすく、最近の技術開発の動向を知る資料として役立ちます。
 本書では、①回路技術に関するものについて、下記のような観点でまとめています。
◆ 非接触ICカード又はそのリーダ/ライタの回路構成に工夫を加える。
◆ リーダ/ライタにおいては、電力と信号伝達のための搬送波信号の発生、アンテナの
インピーダンス整合・共振、送信信号の変調、受信信号の検波・復調等の回路設計のヒントを提供する。
◆ 非接触ICカードにおいては、受信アンテナの共振、整流・電源安定化、クロック再生、コマンド信号の復調、応答信号の負荷変調、メモリの読み・書き等に関する回路設計のヒントを提供する。

●体裁
 A4判  112頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 6月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
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非接触ICカードとリーダ/ライタのアンテナ技術

●内容
 非接触ICカードは、交通機関の電子乗車券、コンビニ・キオスクなどでの買い物に支払いをする電子マネー、クレジットカードそして身分を証明する住民基本台帳カード、電子パスポートなどに採用され、日常生活に欠かせないものになってきました。これらに関する仕様の標準化も進み、それに基づく製品開発も盛んになっています。このため、非接触ICカード関連の特許出願も急激に多くなっています。
 そこで、2002年以降に出願された特許情報からノイズを削除し、主要技術別に分類しました。①回路技術に関するもの、②アンテナを主として構造に関するもの、③通信制御に関するものなどで大分類し、さらに要素ごとに再分類してまとめています。これにより、設計・開発に当たる担当分野ごとに参照しやすく、最近の技術開発の動向を知る資料として役立ちます。
 本書では②アンテナを主として構造に関するものについて下記のような観点でまとめています。
◆ 非接触ICカードに搭載されるアンテナパターン、共振キャパシタのトリミング、アンテナコイルと
ICチップとの接続方法等についての工夫、構造、製造方法のヒントを提供する。
◆ リーダ/ライタ側に関してもアンテナの構造、アンテナの配置、カードの搬送等についての事例を
集める。

●体裁
 A4判 104頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年6月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
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特許動向調査レポート インプリント技術でナノスケールに切り込む

●内容
1. 本書の目的
 この調査レポート「インプリント技術でナノスケールに切り込む」では、ナノを活かしたインプリント技術(以下、ナノインプリント技術 または NIP)を取り上げます。
 近年、微細加工へのニーズが急速に高まっています。しかしながら、従来技術の延長で対応することは不可能です。たとえば、半導体デバイスの微細化ツールとしては各種露光装置が提案されていますが、その手法は光源の短波長化と光学系の高口径化(解像度を上げる技術)によるものであり、装置の高価格化を招いているのが現状です。
 これに対して、最近、ナノインプリント技術が新たなブレイクスルーとして注目されています。この技術は簡単にいってしまえば“押し付ける”という単純な原理(等倍の転写)です。それだけに低価格装置で微細化を達成しようとするチャレンジブルな技術であるといえます。それを反映して、まだまだ他の先端技術に比べて出願件数も少ないのですが、ここ数年でナノインプリント技術の出願が倍増しています。新規にナノインプリント技術に参入する企業も増えており、この傾向はさらに加速するものと思われます。
 特許情報を、たとえばマップ化し分析することで、ある特定の技術分野について技術者の取り組みを知ることができます。関連する分野の出願動向を知っておくことは、半導体関係の事業に携わる企業のみならず、記録メディア、ディスプレイ、センサー、バイオなどのジャンルで高付加価値化をねらうあらゆる企業にとっては非常に重要なことといえるでしょう。

■ いま、特許情報から新しいテクノロジーのダイナミズムを解明する■

 私たちネオテクノロジーは、ナノテクノロジーという新しい技術とインプリントという旧来の技術が接触して生まれる創造の渦が、数年間にどう変化し、どのようにマーケットに働きかけようとしているか、2000年以後に出願され、2006年3月までに発行された特許情報から見ていきます。
 スピードを追うすさまじい競争が技術革新のダイナミズムを生み、技術が数年という短期間に急激に変革していく激変のありさまを特許情報で探ります。
 別個に体系化された異質な技術が接触し、新しい技術を創出するとき、そこには、どのような技術的な視点や取り組みが生まれるのか、どのようなボトルネックが課題になり、新たな技術変革をもたらすのか、
具体例を取り上げます。

●体裁
 A4判 100頁

●価格
 定価 157,500円(本体150,000円)

●発刊
2006年 4月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
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特許調査報告書 米国代表企業モレキュラーインプリンツ社のナノインプリント特許

●内容
<はじめに>
 半導体デバイス、ディスプレイ、記憶媒体、MEMS、マイクロレンズ、バイオ分野などにナノインプリント技術が拡がっています。戦略的な知的財産攻勢の風潮が高まる米国特許の事前調査を怠ると、侵害が明らかになったときは開発投資が無駄になり、経済的に大きな痛手を受けます。本調査報告書では、米国のナノインプリント・システムの代表的企業であるMolecular Imprints社(モレキュラーインプリンツ社)の米国特許を調査しています。University of Texas System のChoiや
Sreenivasanらが主な発明者となっているMolecular Imprints社の米国のナノインプリント関連特許を調査し、同社のナノインプリント技術の展開と戦略的な出願動向を分析しました。
 インプリント装置のアライメント調整や均一加圧制御など、ナノインプリント技術の展開や材料などの広範囲な技術が含まれ、2004~2005年に集中的に出願されています。最近は、インプリント材料の挙動や分散状態、ダブルサイドパターンニングなど、注目すべき技術観点の新たな特許が出願公開されています。
 実際の特許情報に基づくナノインプリント技術の米国特許の俯瞰資料は、①既存の特許権を知って侵害を防止し、②ワールドワイドな開発戦略や戦略的知財構築に役立ちます。
 わが国の企業は材料技術や金型製造技術、市場密着型の技術開発力などに優れ、これらを積極的に発展させることで、失地を挽回できるものと思われます。どの分野に、どの企業が、どのような技術で特許取得しているかを学び、他社の技術開発動向を調査して自社の位置付けを明確にして研究開発路線の策定や、侵害の防止、あるいは、無駄な重複投資を避ける資料として本調査報告書をご利用ください。
<本調査報告書の特徴と利用方法>
(1)モレキュラーインプリンツ社の米国特許
 本報告書は、モレキュラーインプリンツ社のナノインプリント技術に関する米国特許(登録39件、公開80件)を調査しています。公開特許については、すでに拒絶されていたり、今後のアクションで権利内容が大幅に変わったりする可能性があるため、クレームは判断材料とせず、フロントページの査読によって分析しています。なお、登録特許39件のもとになる公開公報36件については後述する調査対象から除外しました。
(2)和文タイトルと和文「発明のポイント」
 タイトルは直訳を避け、発明の内容を表す和文タイトルを付与しています。登録特許は、1件で見開き2ページ構成とし、左ページに日本語タイトルのほか「発明のポイント」欄を設け、さらに第1クレームを記載し、右ページはフロントページを掲載ました。発明の要点を和文で見て米国特許明細書を精査する必要があるかを判断する上での目安として活用いただけます。公開特許は、1件1ページ構成でフロントページに和文タイトルを付しています。
(3)権利内容を重視
 権利侵害を避けるには、開発段階から他社特許に注意を払い、権利抵触や侵害問題の発生を避けなければなりません。注意すべきは権利内容、すなわちクレーム(claim)です。本調査報告書では、権利が確定している登録公報については、基本的に第1クレームを掲載しています。「何が、保護を求めるべき技術的思想なのか」(特許化する対象)を学ぶ上で、この調査報告書を役立ててください。
(4)米国特許固有の制度のガイド
 特許出願して権利を取得することは大事な防衛策です。特許出願を進める上では、競合他社の関連特許が、いつごろ出願されたのかを知ることが重要です。その後の技術の進み具合いを見込み、自社の発明の位置付けや重要性を確認することができます。米国特許のフロントページには、権利譲受人(企業や大学)のほか、現実の出願日、優先権の基礎となったアメリカ以外の国の出願日(優先日)、継続出願(CP、CIP)の履歴や、米国特許を調べる上で重要な米国特許分類(USC)などが記載されています。さらに、審査に引用された先行特許文献(cited情報)などから基本特許や関連特許を探り、反駁資料の調査や出願戦略などを検討する有益な情報を得ることができます。

<技術分類>
 本調査報告書ではモレキュラーインプリンツ社のナノインプリント関連の米国特許を、ナノインプリントの装置技術に関する発明群、プロセス技術に関する発明群、基板特性の評価技術に関する発明群、ナノインプリント用の材料や部材などの副次的な技術に関する発明群、ナノインプリントを応用や用途に関連する発明群の5つの技術に分類しました。

(1)ナノインプリント装置技術
 ナノインプリント装置を主体とするハードウェア関連の特許をまとめています。たとえば、基板のチャッキングシステムやテンプレートのアライメント、各種制御方法、ステップアンドリピートプロセスなどに関する技術を含みます。

(2)ナノインプリントプロセス技術
 装置に関連する生産プロセスや周辺および将来の応用可能性があるナノインプリントプロセス全般に関する特許をまとめています。たとえば、基板の平坦化方法、多層構造、剥離方法などに関する技術を含みます。

(3)ナノインプリント基板特性の評価技術
 基板の特性評価技術は、ナノインプリントプロセスの重要な要素技術のひとつです。この技術分類では、ナノインプリント技術固有の基板やテンプレート、膜などの特性の評価技術や検査方法などに関する技術を
含みます。

(4)ナノインプリント材料・部材技術
 ナノインプリント技術に必要な材料や部材などの特許をまとめています。たとえば、マスク材料、インプリント材料、テンプレートの構成、剥離材料などに関する技術を含みます。

(5)ナノインプリント応用・用途、その他
 ナノインプリント技術を応用する用途に関する特許をまとめています。半導体デバイスやディスプレイ、記録材料、バイオ・メディカルなど様々な応用展開の可能性が考えられます。


●体裁
 A4判バインダー綴じ190頁+付属CD-ROM(一覧表、全文明細書PDFデータ)

●価格
 定価 189,000円(本体180,000円)

●発刊
2007年 8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
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特許調査報告書 電力用半導体集積回路 最近のパワーモジュール技術

●内容
<はじめに>
 スイッチング電源は小型・薄型化、高効率化に従い民生・産機へと用途が拡がっています。生産量も年々、一割強の増加傾向です。しかし、現実には生産額は厳しく微減が続いており、スイッチング電源は技術的に成熟段階に至ったと言われています。確かに、スイッチ素子のMOS化、低ストレス共振回路、大電流同期整流回路、汎用デジタル制御などの技術革新を経て、いま、スイッチング電源はSiCのような新しい半導体素子の技術革新待ちと言えそうです。それまでの間は、標準設計や使用部品の共通化、部品点数の削減、慣用回路の適用設計などに代表される短納期、低コストを軸にした作りやすく、使いやすい電源設計で凌いでいくことになりそうです。
 当面、大型の技術革新は期待できず、日常の現場での生産性改善にも限界があるとなると、パワー半導体と制御回路を集積化した電力用半導体集積回路パワーモジュールを使用する流れは極めて自然な成り行きのように思われます。事実、家電機器や電気自動車などのスイッチング電源やインバータには、この電力用半導体集積回路パワーモジュールがインテリジェントパワーモジュールIPM(Intelligent Power Module)と呼ばれて急速に浸透し始めています。
 そこには、どのような電源回路技術と半導体集積回路技術の潮合があるのでしょうか。本調査報告書では、2000年以後に特許出願された最近の電力用半導体集積回路パワーモジュール技術(以下、本件技術)にターゲットを絞り、電力スイッチング素子(MOS-FETやIGBT)と駆動回路、制御回路や保護回路を集積回路に一体化したことを特徴にする国内特許情報を取り上げています。IC化によるメリットとデメリットに着目した実に多様な特許事例があります。ここから、技術と特許をつなぐいろいろなヒントが学べます。主な技術動向と企業動向もまとめましたので、電源装置の開発だけでなく半導体開発や出願事前調査資料としてご活用ください。
<この調査報告書の目的>
 本調査報告書では、2000年1月1日以後に特許出願され、2007年6月30日までに発行(公開・公表)された比較的に新しい電力用半導体集積回路パワーモジュール技術に関する国内特許情報を調査しています。そして、今後の電力用半導体集積回路発展の好例となる強電の電力デバイスと弱電の制御回路の集積化パワーモジュール技術について、特許の面から見た主要な技術動向と企業動向を整理し、目を通しておくべき特許情報を資料として綴じ込みました。
 今後この分野に進出する、あるいはこの技術を利用する上で、特許侵害の防止に欠かせない情報です。さらに他社の取り組みの現状、あるいは特許からみた技術の現状を把握することにも役立ちます。また製品開発の参考資料としても有用です。

<調査範囲>

●調査対象とした技術
 電力用半導体集積回路パワーモジュール技術を対象としています。いわゆるインテリジェントパワーモジュール(IPM)を含み、電力用スイッチング素子と駆動回路、制御回路などを一体化した電力用集積回路を主な対象としています。
 なお、本報告書には、電力用スイッチ素子を内蔵せずに前段の駆動回路と制御回路だけを一体化した集積回路も取り上げています。
 しかし、電力スイッチング素子だけの回路技術や制御回路のみの集積回路技術、駆動回路のみの回路技術はノイズ情報として除去しています。

●調査対象とした特許情報
 本書に示す検索式によって抽出された国内特許文献(公開・公表・公告・登録:総計1,528件)を調査いたしました(3項「検索式」を参照)。なお、実用新案は調査していません。
 本件技術に関する特許情報は、国際特許分類(IPC)ではもちろん、Fタームや用語検索では絞り込めません。
 本調査では、試行錯誤の結果、上記検索式による特許情報を専門家が一件一件目視して判断するマニュアル検索方式を適用しています。

●調査対象とした公報発行期間
・公開・公表・再公表特許:出願日遡及7年に相当する2000年以後の出願分を対象にしています。
・登録特許:2000年以後の出願であって2007年6月末までに発行された登録分については調査対象としています。


<技術分類>

 この調査では、抽出された特許情報の内容を精査した上で、個々の特許情報の技術的な特徴がもつ共通性に着目して分類し、公開、登録(合計257件)の特許情報を下記のような技術的な分類(以下、技術分類)に従って類別し、収録しています。
 このように分類してみることによって、電力用スイッチング素子と駆動回路、制御回路などを一体化した電力用集積回路である電力用半導体集積回路パワーモジュール技術と特許の状況を整理でき、全体像として俯瞰ができ、個々の技術動向や各出願企業の特徴を明確にすることができます。

 なお、本調査報告書では、本来は一つの出願による発明であっても、公開段階での特許情報に掲載される発明内容と、その後に審査を受けて補正するなどを経た登録後の特許情報に掲載される発明とを別個に取り扱いました。そして、個々に内容を精査して分類をいたしました。そのため、各論ページに掲載されている特許情報では、登録されているものでは公開段階での分類と登録段階での分類が夫々に付与されています。分類不要時基本的に調査報告書では、次のような技術分類を適用しています。また、

【分類】パワーモジュール 集積回路化
 半導体集積回路のデバイスプロセスと表裏一体となった内容を特徴とする発明を取り上げました。
主スイッチの製造プロセスと同時に(同一プロセスで)、主スイッチと並列な電流検出用FETを作りこむ例や、あるいは、半導体の温度依存性を利用する保護素子を集積化の過程で組み込むなどの例が含まれています。


【分類】パワーモジュール 回路構成・構造
 回路構成を工夫した発明を取り上げました。外部端子を削減する例など、集積化を考える際に、回路構成や構造に工夫を加えた例が含まれています。

【分類】パワーモジュール 付加機能付与
 集積化の過程で主機能の他に表示機能や、負荷や周辺装置との通信機能など、付加機能を追加して連携性を高める発明を取り上げました。

【分類】パワーモジュール 周辺機能の集積周辺機能の集積化をねらう発明を取り上げました。主スイッチと駆動回路の集積化のほか、主スイッチとその他のスイッチング電源に必要な機能を一体化した集積回路などが含まれています。

【分類】その他
全体が集積化されているかは判然としないが、各構成要素を集めれば十分にひとつに集積化が可能と思われる発明、制御回路のみであっても主スイッチを組み込み、他の集積回路と複合が可能と思われるものなどを取り上げています。

●体裁
A4判バインダー綴じ518頁+付属CD-ROM(一覧表、全文明細書PDFデータ)

●価格
 定価 189,000円(本体180,000円)

●発刊
2007年 8月


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特許データ集-ナノテクノロジーを生かす液晶ディスプレイの光学フィルム

●内容
 産業界で注目を集めている技術分野、つまり技術開発の活発な分野は、ひときわ多数の、しかも多様な観点の技術が特許出願されています。注目テーマの特許情報を網羅的に一覧できれば、技術の広がりと分布はもちろん、参入企業の関心分野や開発戦略の概略を知ることができます。いま、ナノテクノロジーを光学フィルムに取り込むことは、液晶ディスプレイの性能を飛躍的に向上させるものとして大きな期待が寄せられています。本データ集では、「ナノテクノロジーを生かす液晶ディスプレイの光学フィルム」について、2000年以降2005年9月までに公開された特許情報1,119件を調査。ノイズを除去し、1件ごとに分類フラグを付与して、公開番号、出願人、発明の名称などのデータとともに構成した一覧表を作成しました。
①どのような技術分野があるか。
②参入企業はどこか。
③どの企業が、どの分野に注力しているか。
④どの分野に特許出願が集中しているか。 などを、的確に容易に把握できます。電子データをCSV形式でCD-ROMに収録しています。表計算ソフトなどで表を組み換えて詳細な分析も容易です。最近の技術と企業をすばやく調べるためにぜひご活用ください。

主な企業
 アルプス電気/カシオ計算機/キヤノン/コニカ/シチズン時計/シャープ/スタンレー電気/セイコーエプソン/ソニー/エンプラス/リコー/日立製作所/半導体エネルギー研究所/京セラ/恵和/三井化学/三菱化学/三洋電機/住友化学工業/松下電器産業/積水化学工業/大日本インキ化学工業/大日本印刷/帝人/東ソー/東レ/東洋紡績/凸版印刷/日東電工/日本電気/日本放送協会/富士写真フイルム/富士通化成/富士通 など

Ⅰ.調査概要
Ⅱ.技術分類の定義
Ⅲ.技術分類別特許一覧
  1.偏光板
  2.カラーフィルタ
  3.機能性フィルム
  4.導光板
  5.リフレクター
  6.液晶
  7.その他のパーツ(スペーサ、シール剤etc)
  8.液晶FPDを使用したほかのもの など

●体裁
 A4判 46頁

●価格
 定価24,990円(本体23,800円)

●発刊
2005年12月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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特許から見るテクノロジー情報ガイドブック 液晶ディスプレイのバックライト用インバータ回路

●内容
 バックライト用インバータ回路には、液晶ディスプレイの大画面、高精細化とともに、低コストで、省エネであることが求められています。部品点数が少なく、回路がシンプルで高効率なインバータ回路がCCFL/EEFLのLCDバックライトの主流となっています。本書は、2000年以後に出願された最近の特許情報から、設計の参考になる回路図を中心に見やすくまとめました。実戦的、即効的な技術資料として、お役立てください。

●調査対象
 国際特許分類(IPC)H02M電力変換回路、H05B照明用インバータ回路からバックライト用インバータ回路の特許情報約120件を抽出し図面中心に掲載

●対象企業(順不同)
 松下電器産業、サムソン、フィリップス、日立グループ、NECグループ、シャープ、ハリソン東芝ライティング、TDK、牛嶋昌和、ソニー、タムラ製作所、太平洋セメント、イーヤマ、ミネベア、三洋電機(鳥取三洋)、LG、ミツミ、村田製作所、O2マイクロなど

Ⅰ.はじめに
 液晶ディスプレイのバックライト用インバータ回路の特許出願では、大画面化、画質改善への対応をはじめ、低コスト化、省エネなど実にさまざまな課題の解決がはかられています。部品点数が少なく、回路がシンプルで高効率なインバータ回路がCCFL/EEFLのLCDバックライトの主流となっています。本書は、2000年以後に出願された最近の特許情報から、ノイズを除き、技術内容をもとに、①回路トポロジー、②制御、③安全保護、④調光技術、⑤圧電方式、⑥応用用途、⑦その他、に分類。回路図を中心に見やすくまとめました。回路設計の実戦的・即効的なヒントとなり、また最近の技術開発の方向を知る具体的資料として役立ちます。

●この資料集に取り上げた発明が解決しようとしているインバータ回路の課題には次のようなものがあります。
・画質に関連する課題:大画面化、画質改善、外部電極蛍光管による動画表示品質の向上、周囲の明るさ対策、高速動画対応、漏れ電流による輝度ムラ対策、一定輝度保持、平面蛍光ランプの調光、自動輝度調整、カーナビ視認性
・低コスト化に関連する課題:部品点数削減、ストロボとインバータの共用化
・小型化に関連する課題:薄型化、薄型トランス、構造のモジュール化によるコンパクト化
・寿命に関連する課題:長寿命化、ランプ寿命と交換、寿命末期検出、寿命低下の防止
・省エネに関連する課題:自励でのロスの低減、低入力電圧で高出力電圧、ちらつき防止と低消費電力化の両立、負荷とのインピーダンスマッチングによる効率アップ、ソフトオン・ソフトオフによる効率改善
・信頼性に関連する課題:無負荷異常、放電防止、確実な異常検出、過電流保護、コロナ放電の危険防止、アーク放電対策、漏電防止、投射型故障時対策、突入電流低減、クロスレギュレーション対策
・ノイズに関連する課題:低ノイズ化、高調波ノイズ対策、ビート不良対策、高出力化とノイズ対策、
リップルの低減

他に、1トランス2灯点灯、EEFL、多品種対応、複数独立点灯制御、電界輻射の人体への影響対策、
などがあります。

●体裁
 A4判 148頁

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年2月


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特許から見るテクノロジー情報ガイドブック 半導体製造プロセスシリーズ CMP(化学機械研磨)プロセスと装置編

●内容
Ⅰ.はじめに
 CMPは、一口でいうと平坦化を行うプロセスです。高集積化され、多層配線を有する先端シリコンULSIでは欠かせない技術になっております。微細パターンを形成するためのリソグラフィーのマージンを生み出すためです。
 本書ではそのようなCMPプロセス装置をとりあげて、2003年6月以後に出願された特許から重要と思われるものをピックアップし、技術内容を①CMP装置構成、②CMPコンポーネンツ(ヘッド、コンディショナーなど)、③CMPプロセス、④ポストCMPプロセス(後処理など)、⑤終点検出・評価(insituモニタリングなど)、⑥その他、に分類。実例をもとに分かりやすくまとめました。
 CMPプロセスや装置に関する新しい技術開発を行っている方の実戦的・即効的なヒントになり、また全体の技術の流れを捉えようとしている方に役立つ資料集です。

●この資料集に取り上げた発明が解決しようとしているCMPの課題には次のようなものがあります。
・高スループット、低ランニングコスト
・高い面内均一性
・エッジ効果の低減
・ディシング、エロージョンなどを防止
・膜剥れなど機械的ダメージの低減
・スラリーの付着やコンタミの防止
・オーバーCMPの防止、正確な終点判定
・CMPプロセスの的確な評価
・シリコンULSI以外への応用
各例の図と文を照らし合わせてご覧ください

●体裁
 A4判  176頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 5月


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特許から見るテクノロジー情報ガイドブック 電源機器と電力線通信PLC技術

●内容
 デジタル家電の先に電力線通信PLC技術が見えるといわれています。すでに、システム電源や無停電電源UPSだけでなく、急速に普及している照明や白物家電のインバータ機器にはデジタル通信機能が盛り込まれています。新しいPLC技術が電源機器にどのように係わるのか、最新の特許情報はテクノロジー情報として有用なガイドになります。本書は、2000年以降に出願された最近の公開特許情報から電源、コンバータ、インバータに関わる電力線通信技術を選び、ノイズを除き、技術内容をもとに、①通信方式、②電力側機器、③監視・警報システム、④照明システム、⑤電源制御・UPS、⑥フィルタ、⑦家庭内機器、⑧屋内配線、⑨その他、に分類。回路図を中心に見やすくまとめました。
 商用AC電源機器と宅内電力線通信の将来展望の参考資料となり、またデジタル家電と電力線搬送通信の技術的課題を知り、電源機器と通信機能の可能性を探る具体的資料として役立ちます。

●この資料集が取り上げた電力線通信PLC技術には次のようなものがあります。

1.通信方式:PLCを行うための方式やシステム
2.電力側機器:送電/配電側に近い技術
3.監視・警報システム:カメラなどで状態を監視し、警報を出すもの
4.照明システム:PLCにより照明(ランプ)を制御するもの
5.電源制御・UPS:PLCを行う電源装置やUPS
6.フィルタ:PLCの信頼性や品質を改善するフィルタ
7.家庭内機器:家電機器を中心としたPLC
8.屋内配線:PLCを行うための配線方法など
9.その他:これらに分類できないもの

●体裁
 A4判 153頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2006年 3月


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特許から見た放熱設計図面集 第3巻 ファンの騒音低減と放熱効率の向上

●内容
 「壊れてはいけない」電源装置やCPU の放熱に、「有限寿命」のファンを使うという、相反する条件をいかに折り合わせるか。しかも多くの場合、コストダウンを前提として、騒音や振動がつきもののファンを、どのように使うのかが、課題になっています。従来にない発想からの技術開発が求められています。背反的かつ多様な技術的要請に対して、実際の技術者は、どう工夫し、
課題を解決しているか。現在直面している「今の技術」に役立つよう、実用的で参考になる技術を、その道のベテランが厳選しています。

●本書の特徴●
①ファンを使った電源装置やCPU の放熱技術を対象
②発明の着眼点ごとに専門家の目で分類
③全ての注目特許に専門家が丁寧にコメント

●調査対象●
2000 年以後に発明された「ファンを使った放熱技術」の国内公開特許

●対象企業(順不同)●
 NECビューテクノロジー/TDK/IBM/ソニー/デノン/ピーエフユー/ミノルタ/リコー/
ローヤル電機/三洋電機/松下電器産業/船井電機/東芝/日本電気/日本電産/日立国際電気/
日立製作所/日立電線/富士通ゼネラル/和泉精機 など

●体裁
 A4判 120頁

●価格
 定価31,500円(本体30,000円)

●発刊
2005年11月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
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導電性粘着剤の用途特許50

●内容
 エレクトロニクス分野では電子デバイス、電子部品、電子機器などの小型化、軽量化、さらに省力化、工数削減を支える重要な材料として注目の導電性粘着剤。ICカード、太陽電池、表示装置(液晶テレビ、ブラウン管)などにその例を見ることが出来るほか、導電性粘着シート、導電性粘着テープの製造に原材料として使用され、さらに静電気防止用、電磁波シールド用、医療関連分野等に活用されています。導電性粘着剤は民生用、工業用として利用範囲が広くかつ有効であるため、その新用途に関する開発競争が極めて激しい分野であり、今後さらに激化するものと考えられます。
 このヒントブックでは、導電性粘着剤を使用して作られる導電性粘着テープ、導電性シート、或いは導電性粘着剤を直接塗布する方法を用いた用途に基づいて分類しています。とりあげた発明は、実にさまざまな技術的課題を、導電性粘着剤の使い方を工夫することで解決しています。
 導電性粘着剤で何ができるのか知っておくことは、これからの技術者にとって基本的な素養です。貴方が今取り組んでいる課題を解決するためのヒント集として、また導電性粘着剤の射程を知るために、ぜひご活用ください。
  
●調査対象
・2000年01月~2004年10月までの国内公開特許
・導電性粘着技術、導電性粘着剤の応用技術

●対象企業(順不同)
 京セラ、トッパン・フォームズ、NTT、東芝ケミカル、東レエンジニアリング、信越ポリマー、三菱電機、三井化学、日立、日東電工、キャノン、富士電機画像デバイス、積水化学、ブリヂストン、富士電機、イトーキ、清水建設、大日本インキ、アルプス、旭化成、東洋インキ、ソニー、東陶、ハリソン東芝ライティング、その他

●体裁
 A4判 131ページ

●価格
 定価31,500円(本体30,000円)

●発刊
2005年2月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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電子機器への異方導電性接着の応用特許100

●内容
 本書のねらい
 本書は技術者が視野を広げ、独創的な着想を得て、新しい技術をはぐくむきっかけとなる着想のヒントを特許情報から提供することを意図したヒントブックです。最近の特許情報をみると、「異方導電性接着」について、さまざまな観点から研究開発に取り組む多くの技術者の工夫を学ぶことができます。
 本書では、2001年以降に出願された約224件の最新の「異方導電性接着」に関する特許情報を調べ、これからの研究開発技術者の参考になり、新たな着想を生む上でヒントになると思われる事例106件を厳選。新たな着想を生み出す手がかりになる独自の着眼点を抜き出して体系化し、直感的に把握しやすい図面を中心に掲載しています。
 新しい創造を生み出すヒントとしてお役立てください。
 また発明を特許という権利として主張するための表現例として【請求項1】を掲載しています。クレーム表現の参考にしてください。

Ⅰ.はじめに
 1973年9月、液晶表示デジタル腕時計が諏訪精工舎(現 セイコー社)より発売されてから30年余りが経過しました。この間、液晶ディスプレイは携帯機器、OA機器、家電製品、自動車、医療機器等々様々な分野で実用化され、発展してきました。この発展の基礎としてエレクトロニクスの進歩に加え、各種の電子機器をコンパクトにまとめる実装技術の進歩も忘れてはならないことです。また、最近はプラズマディスプレイ等の新しいディスプレイが登場し、実装技術の重要性が益々認識されています。そうして高精細化、高密度化、軽量化等を図る実装技術のうち、異方導電性接着剤をはじめとして異方導電性フィルム、シート等の特殊な用途材料が果たした役割にも注目する必要があります。そこで、今回のヒントブックでは、最近の公開特許公報から、この異方性導電性接着の世界を探ることを企画しました。このヒントブックは2部構成です。第1部は表示装置、半導体装置、接続構造体等の電子回路における異方性導電性接着の活用状況を探ります。第2部では異方導電性接着剤をはじめとして異方導電性フィルム、シート等に関する特許を探ります。異方導電性接着の素材寄りの技術への知見を持つことは、その応用展開に広い視野をもつことにつながります。
 本書で取り上げた発明は、エレクトロニクス実装の分野で、実に様々な技術課題の解決に、異方性導電性接着が有効、あるいは不可欠であることを示しています。これらの発明の考え方を、あなたが今取り組んでいる課題を解決するためのヒントとしてお役立てください。

●体裁
 A4判 204頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2005年 11月 


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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電子機器(電源)の力率改善・高調波対策 米国特許編<2005年版>

●内容
1.この調査報告書の目的
 この調査報告書では、1996年5月以後に発行された最近約10年間のPFC回路に関する米国特許情報を調査し、今後の力率改善・高調波対策回路を考える際に、特許対策として、どのような回路に気をつけるべきか、どのような回路の改良方向が検討可能なのか、特許上での具体的な指針を供するだけでなく、これから自社のPFC回路設計に対する特許戦略を検討する上で役立つ資料を整備することを目的にしました。
 なお、1996年4月末までの特許情報については、既刊の「電源機器の力率改善・高調波対策<米国特許編>」(改訂版1996年5月刊行)をご利用ください。


2.調査範囲

● 調査対象とした回路技術
 いわゆる商用ACラインに接続される75W~、20A/φ以下の電子機器のAC入力部に係わる高調波抑制対策技術を調査の対象にしました。この技術対象には、汎用的なスイッチング電源のPFC回路だけでなく、例えば、TV用電源、あるいは、照明用インバータやエアコン用インバータ、パソコン、複写機・事務機、一部の無停電電源(UPS)などを含んでいます。

● 調査対象とした特許情報
 本件技術に関する米国特許文献(登録)を対象にしており、先の「電源機器の力率改善・高調波対策<米国特許編>」(改訂版1996年5月刊行)との整合を確保するために、1996年5月以後に発行された特許情報(503件)を調査対象にいたしました。
*既刊報告書では1996年4月末までに発行された米国特許公報を調査対象にしています。

● 調査対象とした公報発行期間
1996年5月1日以降、2005年7月末までに発表された公報。
注)先の「電源機器の力率改善・高調波対策<米国特許編>」(改訂版1996年5月刊行)との整合確保のため

3.調査方法(検索式)

1)米国特許分類(USC)を基軸として用いました。
 USCは、315$(ELECTRIC LAMP AND DISCHARGE DEVICES: SYSTEMS:照明)、323$(ELECTRICITY: POWER SUPPLY OR REGULATION SYSTEMS:電源制御技術)、363$(ELECTRIC POWER CONVERSION SYSTEMS:電源技術)を用い、これらの論理ORを基本検索式といたしました。ここで、記号$は前方一致の意味です。

2)一般用語(キーワード)を用いた用語限定を行っています。
上記USC基本検索式に加えて、キーワードによる絞込みを行っています。なお、この調査では抽出漏れを防ぐために、公報明細書テキスト全文を対象にして用語“power factor”による論理AND検索を行い、該当フロントページを査読して明らかなノイズ情報を除去し、明細書全文を精査するというマニュアル査読方式を採用いたしました。


4.技術分類
 基本的に姉妹編「電子機器(電源)の力率改善・高調波対策 国内特許編《2005年版》」との整合を確保する技術分類構造を取りました。先の既刊報告書「電源機器の力率改善・高調波対策<米国特許編>」(改訂版1996年5月刊行)では、技術分類構造の「大区分」を、汎用、照明、電子レンジなどの用途、その他に区分けしました。また、「中区分」を、コンバータ、インバータ等、さらには、「小区分」を、制御方法によって全体制御、個別制御等に細かく区分けしました。
 しかし、第一に、先の分類方式によると構造細分が過ぎて使い難い点があり、第二に、国内特許情報との整合が取り難い点などの欠点がありました。そこで、2005年版のこの機会に、2コンバータ、あるいは、1コンバータ、三相、用途などに大きく
分けるだけの次のような技術分類を適用しています。

● 回路構成による技術分類
1.単相入力を対象にしたもの
(1)アクティブフィルタによるもの
(1-1) 2コンバータ方式によるもの(記号:2コンバータ)
 PFC回路の後段にDC-DCコンバータ等の出力安定用高速応答回路が従属することを前提としました。なお、前段PFC回路が低速動作であっても、いわゆる2ステージコンバータ構成である場合には、この技術分類に含めています。また、チョッパの形態(昇圧、降圧、昇降圧等)で限定する分類方法は取っていません。
(1-2) 1コンバータ方式によるもの(記号:1コンバータ)
 PFCと出力安定の両方を同時に単一の制御回路で行う、いわゆる電力変換ステージが1ステージのものを対象にしました。
(2)パッシブフィルタによるもの(記号:パッシブ)
 パッシブ部品のみによるPFC動作をするものを対象にしました。チョークによるもの、コンデンサによるもの(進相コンデンサ等)を対象にしています。
2.三相(3φ)入力を対象にしたもの(記号:3φ)
特許請求の範囲や明細書要部に「三相」と記述があるものすべてを含みます。
3.照明用インバータに関するもの(記号:照明)
照明用、ランプ用と記述があるもので、効果がその特定用途に限定されるものを対象にしました。
なお、負荷が「照明」に特定されず、一般的(汎用性が高い)ものは、「照明」には分類していません。
4.汎用スイッチング電源以外の特別な用途に限定したもの、または、上記分類外の特徴があるもの(記号:用途)
空調用インバータ、無停電電源(UPS)、その他の特定用途の記述があるもので、効果がその特定用途に
限定されるものを対象にしました。なお、負荷が用途特定されず、一般的(汎用性が高い)ものは、
「用途」には分類していません。
5.その他(記号:その他)
一部のPFC回路、PFC回路に用いる部品、その他の関連する特許情報を対象にしました。

ノイズ:
 明らかに電子機器とは関係ないもの、電源機器(電子機器)であってもテーマ「力率改善・高調波対策」と無関係なものは、ノイズとしてこの調査報告書では取り上げず、排除しました。

●体裁
 A4判  ファイル綴じ 約380頁

●価格
 定価 178,500円(本体170,000円)

●発刊
2005年9月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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電源(電子機器)の力率改善・高調波対策 米国特許編

●内容
 著名電源メーカの専門家が、設計者の立場から、1976年以降のすべての米国特許明細書を調査し、約80件の要注意特許を選定した初版を全面改定。
 権利存続期間の切れたものはその旨表示、その後1996年4月末までに新たに特許権が成立した130件を追加。書誌的事項を充実し、要注意特許の表示も見やすく変更しました。分類体系も国内編とできるだけ対比させています。

※1996年5月以降発行分は<2005年版>に収録しております。

●体裁
 A4ファイル綴じ 約200ぺージ

●価格
 定価 399,000円(本体380,000円)

●発刊
1996年 1月


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電源(電子機器)の力率改善・高調波対策 国内特許編

●内容
 侵害防止対策、出願戦略策定にはもちろん、製品開発、設計の実戦的な参考資料となる図面中心の調査レポート。
第一線の設計技術者と特許専門家により、技術と特許の両方向から調査・分析。

さらに、回路方式により体系的に分類されています。重要なものには専門家がコメントしています。

◆調査対象期間◆
1976年1月1以降1995年10月末までに公開・公告された特許および1981年1月1日以降
1995年10月末までに公開(公告)された実用新案。
※1995年11月以降発行分は<2005年版>に収録しております。

●体裁
 A4ファイル綴じ 約350ぺージ<3分冊>

●価格
 定価 567,000円(本体 540,000円)

●発刊
1996年 1月


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電気二重層キャパシタの最新特許100

●内容
 本書は技術者が視野を広げ、独創的な着想を得て、新しい技術をはぐくむきっかけとなる着想のヒントを特許情報から提供することを意図したヒントブックです。
 最近の特許情報を見ると、「電気二重層キャパシタ」について、素材から応用まで、さまざまな観点で研究開発に取り組む多くの技術者の工夫を学ぶことができます。
 本書では、2004年以降に出願された約382件の最新の「電気二重層キャパシタ」に関する特許情報を調べ、これからの研究開発技術者の参考になり、新たな着想を生む上でヒントになると思われる事例として約100件を厳選。着想を生み出す手がかりになる独自の着眼点を抜き出して体系化し、直感的に把握しやすい図面を中心に掲載しています。
 新しい創造を生み出すヒントとしてお役立てください。

●体裁
 A4判 約173頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年 9月


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低コストと高性能をねらう最新特許から学ぶ放熱設計と、攻めのヒント

●内容
 コスト低減と高性能化は、つねに放熱設計のキーポイントです。このヒントブックでは、最近の国内特許文献から、低コストと高性能をねらう放熱設計の「攻めのヒント」となるような情報を選んで紹介しています。放熱技術のベテランの目で見て、実際の設計に役立つ具体的ヒントとなる特許情報を、方法やねらいで分類して図面を中心にまとめています。技術者必携の参考書としてぜひご活用ください。

●本書の特徴
(1)最近の注目すべき放熱設計技術と、その動向がわかる!
(2)実際の特許情報から選んだR&Dのヒント満載!

●体裁
 A4判 121ページ

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2005年8月


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調査報告書 米国特許にみるナノインプリント技術の最新動向

●内容
 半導体やディスプレイ、記録ディスク、マイクロレンズなどにナノインプリント技術が拡がっています。米国特許の事前調査を怠ると、侵害が明らかになったときは開発投資が無駄になり、経済的に大きな痛手を受けます。
 このレポートは2000 年以後のナノインプリント技術に注目、世界の重要発明が集まる米国特許を調査し、インプリント装置のアライメント調整や均一加圧制御など、新たなナノインプリントの用途展開や高分子材料など、最近の技術動向と企業動向を特許情報から分析します。実際の特許情報に基づくナノインプリント技術の米国特許の俯瞰資料は、①既存の特許権を知って侵害を防止し、②ワールドワイドな開発戦略や戦略的知財構築に役立ちます。

● 調査内容
・ 2000 年以後発行の米国特許約2,000 件を技術者が全件精査し、約220 件を厳選して収録
・ 米国特許分類(USC)とキーワードで特許情報を検索
<U S C> 249(STATIC MOLDS)、425(PLASTIC SHAPING)、264(PLASTIC SHAPING)、101(PRINTING)など
<キーワード> ”nanoimprint”だけでなくimprint lithography, micro contact, stamp(-er),
mold(-ing, mould),template など

●体裁
① 調査報告書:A4版レポート(約430ページ)
② 特許マップ:ナノインプリントの技術イメージ図(技術俯瞰図)、米国特許にみるナノインプリント技術の米国特許分類(マインドマップ)
③ 付属CD-ROM(一覧表、全文明細書PDFデータ)

●価格
 定価 189,000円(本体180,000円)

●発刊
2007年 6月


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多出力電源回路

●内容
 多出力電源回路は、少ない部品数で出力間の相互干渉や過電流保護などの異常対策や安定制御に技術課題があり、最近の特許情報からは、トランス結合や出力間クロスレギュレーション、待機時の消費電力低減や削減、低負荷時の省エネルギー化など、多出力電源回路の実際の設計に役立つ改良や工夫のポイントを学ぶことができます。
 本書は「特許情報を実際の回路設計に活用しよう」という視点で制作された技術資料集です。多出力電源回路の制御技術を開発するためのヒント、スイッチング電源の回路検討や技術開発、設計の参考書としてご活用いただきたい1冊です。

●本書の特徴
(1)多出力電源回路の設計に欠かせない重要ポイント別に回路掲載
(2)最近の類例をベンチマークに独自な回路を組み立てるアイデア集
(3)実際の設計開発に役立つ教科書として専門家が抽出

●体裁
 A4判 107ページ

●価格
 定価31,500円(本体30,000円)

●発刊
2005年6月


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創造的特許出願戦略のケーススタディ- 半導体エネルギー研究所のアモルファス太陽電池にみる特許戦略-

●内容
 創造的出願戦略とは、どのような例をいうのでしょうか?

 ここでは、特許収入で企業成長をつづける半導体エネルギー研究所の一連の出願に焦点をあて、弁理士と技術士が分析。
製品技術をとりまく環境と出願群の技術的な位置づけを豊富な図表で説明。利用されている分割出願制度についても丁寧に解説しています。
 とりあげた出願の公開、公告公報をすべて巻末に綴じ込みまれており、文章表現を確認できます。


●体裁
 本編 A4 95ぺージ 資料編 A4ファイル綴じ 325ぺージ

●価格
 定価 176,400円(本体168,000円)

●発刊
1996年 5月


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静電駆動型マイクロマシンの技術動向

●内容
 21世紀をリードする次世代技術として期待されているマイクロマシンは、製造法などが確立されつつあり、今後ますます用途開発、実用化が進むことが予想されます。
 本レポートでは、静電駆動型マイクロマシンの技術動向を分析し、流れ図や特許図面を中心にまとめています。さらに主要9社の出願性格チャートやグラフ、一覧表で企業戦略を分析。国内公開特許の一覧表も掲載しました。

●体裁
 A4ファイル綴じ 223ページ

●価格
 定価 78,750円(本体75,000円)

●発刊
1995年 9月


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新しい生産技術を追う動向調査レポート有機ELの最新特許情報から学ぶ導電性有機材料を使う生産技術

●内容
特許情報で新しい生産技術の変革シナリオを展望
①マテリアルはエレクトロニクスの生産技術を変える
②有機材料だからこそ可能な生産技術がある
③ナノ、バイオと融合する将来ビジョン

導電性有機材料(導電性ポリマー)が新しいエレクトロニクス・マテリアルとして注目され、モノづくりに大きな変革をもたらしつつあります。このレーポートでは、最新の有機EL特許情報に注目し、塗布・転写・界面などの導電性有機材料を使うエレクトロニクス生産技術のフロンティアを俯瞰し、生産技術の変革シナリオを展望します。


<ネオテクノロジー 新しい生産技術を追う動向調査レポートシリーズ>
● モノづくりの新たな生産技術におきているダイナミックな変化を特許情報から取り上げます。
● 最近の特許情報を独自の手法・視点で分析し、これからの技術変革の可能性を探ります。
①特許情報に基づいて、技術と特許の専門分析チームが技術変革シナリオを組み立てます。
②特許情報解析にマインドマップ手法などを取り入れ、量的・質的に分析します。
③特許情報を技術者の見方でテクノロジー情報としてレポートしています。

特許情報を自社の研究開発に生かすベンチマークとしてこの特許レポートをご活用ください
例えば・・・
・特許情報から開発のヒントとポイントを掴む
・新しいマテリアルに取り組む生産技術の動向を知る
・自社の得意技を生かす勘所が分かる
・ボトルネックと攻めの方向付けを探る
・自社技術を活かすビジネスポイントがわかる
・自分なりの分析を展開するキッカケになる
・柔軟な発想で今後の特許戦略を考える

●体裁
 A4リング綴じ 約120ページ 特許資料データCD-ROM 付属

●価格
 定価 157,500円(本体150,000円)

●発刊
2006年 8月


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新・スイッチング電源の回路図集 共振回路

●内容
Ⅰ.はじめに
 「新・スイッチング電源の回路図集」シリーズは、電源メーカーの第一線で活躍されている設計者や著名な専門家が、それぞれの専門的な経験に基づいていろいろな活用場面を思い描き、技術者が設計や課題解決、先行特許の予備的な調査などに用いる技術資料としてまとめた図面集です。
 いま、技術者の創造性が問われています。従来は特許情報を権利侵害防止や抵触判断などの権利側面から見ていました。しかし、技術者が専門的な技術観点から公報明細書を見直すと、特許には技術者の創造性を高めるテクノロジー情報としての重要なヒントやカギが秘められています。
 本書は、課題に直面した技術者がヒントをつかむ回路、設計変更や改良の検討に役立つ回路、基本的な見直しに参考になる回路などを、特許情報から集めた技術資料集です。発想のヒントということを念頭において選んでいますので、特許図面なりの要部のみの記載が、かえって新たな発想のじゃまにならず、社内教育の教科書、知識整理用の参考書としても利用できるようです。
 同時に、最近は、回路設計にも高付加価値化や知的財産重視の波が押し寄せています。生まれた発明の文章化や特許性(新規性)の目安、抵触注意の指針など、いわゆる知財的な視点の重要性も高まっています。そこで本書では、公報明細書の「特許請求の範囲」の「請求項1」を掲載しています。
 本書を、発想を生み、着想を飛躍させるジャンピングボード、ひらめきを呼び寄せる糸口、連想を活発に働かせる触媒、ブレークスルーの手がかり、課題解決のトリガーなどの即効的・具体的なヒント集として、一歩進んだソリューションを得るためのキッカケに、どうぞお役立てください。

Ⅱ.共振型スイッチング電源の着眼点

 本書では、共振を利用する電源技術として、共振型スイッチング電源回路を第一主題に取り上げます。そして第一主題の延長として、共振型スイッチング電源の実用ヒント技術と名をうって、種々の共振型コンバータだけでなく、一部はインバータや圧電トランス、超伝導までを含め、実用的な電源設計を考える上で技術者の参考になると思われる電源回路の発明を選んで掲載しています。
 また、特許からみたテクノロジー情報を技術者に提供し、新しいビジネスの展開や発明着想の材料に役立てて頂きたいと考える珍しい試みとして、本書では、第二の主題として、非接触電力伝送技術と照明用インバータ回路を取り上げて合本しています。
 これらの共振型スイッチング電源と非接触電力伝送技術、あるいは、照明用インバータ回路は、それぞれ異なる電源回路技術ではありますが、スイッチングやインダクタ要素、LC共振などを積極的に利用して電力を供給する電源回路技術として共通点が秘められており、異分野間のシナジー対象として電源技術者の関心も高まっており、また、照明用インバータ回路ではシンプルと低コストの代表として、これからの電源回路設計を工夫する上でヒントになり、新たな着想のキッカケになると考えたからです。
 本書で取り上げる発明は、2000(平成12)年以後に特許出願された電源回路(国際特許分類IPC の分類記号H02Mに該当し、【特許請求の範囲】にZVS、ゼロボルトスイッチング、ゼロ電圧スイッチングを含むもの)に関する公開特許、約1000件を第一線の電源メーカーで活躍する専門技術者が査読し、特に、これからの電源技術者が知っておくと実践展開を図る上で役立つと思われる回路発明だけを厳選し、テクノロジー情報として掲載しています。ここに取り上げた様々な公開特許の特許性などを問うものではありませんが、これから生まれる発明の特許性については、本書が参考になると思います。

●体裁
 A4判 262頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 4月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
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最近の技術と企業をすばやく調べる特許データ集-色素増感型太陽電池の最新特許

●内容
 太陽光発電は、シリコン半導体太陽電池が開発・実用化を先導してきましたが、近年では、有機半導体や色素を光電変換材料とする次世代太陽電池の実用化へ向けた技術開発が注目されています。
 本書は2000年~2008年6月末までに発行された国内公開特許を調査して色素増感型太陽電池に関連する約1,852件を抽出、主要な技術要素ごとに分類して各種特許マップと併せて特許情報を収録しています。
 さらに全件の一覧表データ、特許マップ、全文明細書PDFの電子データを収録しており、戦略検討材料としてご活用いただけます。
 最近の色素増感型太陽電池に関する特許情報から、技術と企業の取組みを探り、企画立案や戦略策定の基礎資料としてお役立てください。
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●すばやく調査・報告!

 ◆どのような技術分野があるか
 ◆参入企業はどこか
 ◆どの企業がどの分野に注力しているか
 ◆どの分野に出願が集中しているか

●体裁
 特許データCD-ROM(一覧表、特許マップ、全文明細書PDF) および 小冊子(A4判 111頁)

●価格
 定価 84,000円(本体80,000円)

●発刊
2008年 11月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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現役の開発技術者が選ぶスイッチング電源特許100 第15巻 カレントモード制御

●内容
 近年、環境問題が話題になる事が多くCO2排出量の削減に関していろいろなところで議論されています。スイッチング電源においても高効率化による省電力化をはじめとして小型化による省資源化、生産エネルギー削減等様々な方法でCO2排出量削減に貢献しなければなりません。
 カレントモード制御は電圧モードに比べて位相余裕度が取りやすく高周波ゲインを高く設定可能な制御方式です。この利点を利用し出力コンデンサ等フィルタ回路を小型化する事が可能になります。
 しかしながらカレントモード制御の場合ノイズの影響を受けやすく誤動作防止も重要課題となります。カレントモード制御を高速応答、安定性、誤動作、電流検出の項目に分類し最近の特許情報を掲載しております。
 尚、関連技術として「第9巻 高速応答」「第12巻 デジタル制御」もご用意していますのでそちらもぜひご一読ください。

●体裁
 A4判 102頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2008年 9月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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現役の開発技術者が選ぶスイッチング電源特許100 第9巻 高速応答

●内容
 近年、環境問題が話題になる事が多くCO2排出量の削減に関していろいろなところで議論されています。電子機器の多くは常にフル稼働しているわけではなく、待機状態となっている時間が多く存在しています。待機時の電力を削減することによって省エネルギー化、ひいてはCO2排出量の削減につながると考えられています。
 しかしながら待機状態からフル稼働に移行する際は電源の出力電流は急激に増加します。反対にフル稼働から待機状態に移行する際は電流が急減します。このとき電源の出力電圧にはアンダーシュートやオーバーシュートが発生します。電源の出力電圧精度は機器が要求する電圧範囲内に制御される必要があるため負荷電流の変化に追従し出力電圧を安定化する高速応答化技術が求められています。
 本巻ではこの高速応答化技術を主回路、制御回路に大別し最近の特許情報を掲載しています。尚、本巻の関連技術として「第13巻 省電力/待機電力」「第12巻 デジタル制御」 「第15巻 カレントモード制御」もご用意していますのでそちらもぜひご一読ください。

●体裁
 A4版 128頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2008年 9月


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共振型スイッチング電源の技術動向 米国特許編

●内容
1.はじめに
1.米国特許に見る共振型スイッチング電源
…共振型スイッチング電源米国特許調査グループによる総括
(1)調査範囲としての共振型スイッチング電源と共振技術
 当初、この調査では、「共振」技術を狭くとらえ、LC共振回路を用いてスイッチングノイズとロスの低減を図る共振型スイッチング電源技術だけに対象を限っていた。
 しかし、技術者にとって重要なことは、回路方式に係わらずスイッチングノイズとロスの少ないスイッチング電源を実現することである。上記のような狭い共振技術だけに調査対象を絞ってしまうと、例えば、必ずしもLC共振によらないアクティブスナバやゼロクロス等に関する米国特許が抽出されないことが判ってきた。
 幸い、スイッチング電源メーカの第一線技術者による当調査グループは、スイッチング電源の今後の方向を探るうえで技術者に役立つ良質な資料を提供しようという点で意見が一致している。そこで、企画当初からの検索対象である米国特許分類(USC)363に新たにUSC323を加え(両クラスともに、電源装置の観点である)、この2クラスを調査対象範囲とした。また、当初の狭い共振技術に限らず、必ずしも共振によらないアクティブクランプ、アクティブスナバ、ゼロクロスに関する米国特許も、同時に抽出することにした。
 しかしながら、特許調査の専門的観点からは、上記のように調査グループが良心的意図により拡張した調査結果が、あたかもアクティブクランプ、アクティブスナバ、ゼロクロスに関して網羅的に調査した結果であるかのように誤解されて受け取られることだけは避けたい。
 アクティブクランプ、アクティブスナバ、ゼロクロス等に関する網羅的な特許調査は、この調査とは別にあらためて行う必要がある。例えば、上記2クラス以外にも、電子回路的観点から他のUSCが付与される可能性もある。あらかじめ、読者の皆様に、上記の背景をご承知いただきたい。

●体裁
 A4ファイル綴じ 全5冊

●価格
 定価 945,000円(本体 900,000円)

●発刊
1995年 10月


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共振型スイッチング電源の技術動向 国内特許編

●内容
 ロスやノイズの少ないクリーン電源として注目されている共振型スイッチング電源の調査レポート。1975年4月以降1995年3月末までに公開・公告された特許および実用新案約1,100件を、技術と権利の両面から調査・分析。重要な約500件を抽出しました。一目で内容がわかるよう図面と解説コメントを中心に配置。公告分には特許請求の範囲も載せて
います。

●体裁
 A4ファイル綴じ 約250ぺージ

●価格
 定価 207,900円(本体 198,000円)

●発刊
1995年 5月


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技術者・研究者のためのヒントブック インクジェットは生産技術を変える

●内容
 生産技術からみたとき、インクジェットには多くのアドバンテージがあります。対象物の自由度、非接触加工、材料のロスレス、加工の省エネ、設備コスト、多品種柔軟生産(FMS)、常温常圧などで大きなメリットがあり、微細加工性、大画面対応、インク材料の自由度などでも技術向上に著しいものがあります。もの造りの現場でインクジェット技術を取り入れる流れが広がっていますが、技術上の勢力版図はまだ固まってはおらず、あらゆる企業に参入のチャンスが開かれています。
 分野によっては、生産現場や産業構造が根底から変わる可能性があります。
 このヒントブックでは、最近の特許情報から、インクジェットを生産技術に応用する上で参考やヒントになるもの、方向性を示唆するもの60件を厳選。利用分野によりディスプレイ、回路配線パターンニング、マスクレスパターンニングの3つに分け、発明の着眼点別にまとめています。

●体裁
 A4判 138頁

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年2月


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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ 最近の特許情報からみた昇圧チョッパー型スイッチング電源回路

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 シャープに絞り込んだ技術テーマを特許情報でクローズアップ、技術の現状がクリアーになります。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

昇圧チョッパー型スイッチング電源回路
●関連キーワード 
 昇降圧の双方向電圧制御、軽負荷出力電圧上昇抑制、定電圧/電流の共用昇圧制御、出力電流の検出方法、電流モード、主スイッチと同期スイッチに休止時間、一つのコイルで昇圧、反転電圧を制御、ディジタル制御、双方向コンバーター、HIDランプ駆動、ほか

●掲載企業 
 松下電器産業、ローム、トヨタ自動車、三洋電機、ダイヤモンド電機、セイコーインスツル、東芝、京三製作所、日産自動車 ほか

●体裁
 A4判 約40頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2007年 4月


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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ 最近の特許情報からみた降圧チョッパー型スイッチング電源回路

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 シャープに絞り込んだ技術テーマを特許情報でクローズアップ、技術の現状がクリアーになります。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

降圧チョッパー型スイッチング電源回路

●関連キーワード 
 チョッパーとシリーズレギュレーターの直列回路、電流共振インダクタの共用、電流共振インダクタの共用、マルチフェーズ電流共振、広範囲入出力対応、制御方式の切替、出力オーバーシュート防止、制御電源の供給方法、昇降圧型制御、軽負荷時の効率改善、同期整流、軽負荷時のゲート電流低減、スイッチングとリニアの切替、集積半導体電力回路、ほか

●掲載企業 
 ローム、松下電器産業、リコー、ミツミ電機、日産自動車、東芝、アドバンテスト、村田製作所、京三製作所,日産自動車、富士電機ホールディングス、ルネサステクノロジ、ミネベアほか

●体裁
 A4判 約 40頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2007年 4月


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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ 最近の特許情報からみたMEMS ミラー光スイッチ 編

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 シャープに絞り込んだ技術テーマを特許情報でクローズアップ、技術の現状がクリアーになります。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

MEMS ミラー光スイッチ 編
●関連キーワード
 摩擦損失を低減、M×Nマトリクス、MEMSアクチュエータ、アド・ドロップ光スイッチ、クロス型の光スイッチ、スイッチ/可変光減衰器(SVOA)、スティクションの発生を抑制、ストッパ、ずれを補正、デバイスの良否判定、トーションバネ、ドライエッチング、プルイン状態の発生を防止、ミラー角度のドリフト、ミラー面の荒れ、リバウンド現象、位置合わせ基準、異方性エッチング、犠牲層、屈折率分布型光ファイバ、光クロスコネクト、光スイッチの小型化、光の入出射角度、光ファイバー切替機構、剛性、三次元光スイッチ、残留異物による動作不良解消、振動に強いミラー、正確なミラー動作、多チャネル光スイッチ、帯電性高分子ゲル、大幅な精度緩和、弾性表面波アクチュエータ、中空光導波路、部品点数の低減、偏向方向自由度、片持ち梁構造、泡駆動型光スイッチ、など

●掲載企業
 ニコン、松下電工、沖電線、日立電線、エヌティティエレクトロニクス、シチズンミヨタ、富士通、シャープ、日立金属、日本電信電話、三星電機、オプトハブ、ソニー、ムーグ コンポーネンツ グループ インコーポレイテッド、東北大学、ミヨタ、住友電気工業、松下電器産業、シチズン時計、村田製作所、東芝、日本ビクター、日本電産サンキョー、フジクラ、アンリツ、オムロン、富士ゼロックス、など

●体裁
 A4判 約65頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2007年 4月


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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ 最近の特許情報からみたMEMS ミラースキャナ 編

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 シャープに絞り込んだ技術テーマを特許情報でクローズアップ、技術の現状がクリアーになります。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

MEMS ミラースキャナ 編
●関連キーワード 
 共振周波数、反射面の反り、弾性係数、復元トルク、メニスカス調節、残留振動波、ミラー速度を高速、振動型ティルティング、SOI構造、振れ角増大、たわみ量低減、低電圧駆動、波長可変フィルタ、光学キャビティ、台座製造コスト、機械的変形、低コスト、犠牲層、プルイン状態の発生防止、固着を制御、ブラッグ反射フィルタ、起動不良を確実に防止、光スキャナパッケージ、一括工程で製造、レーザースキャンユニット、マトリクス型光スイッチ、共振周波数の設計、櫛歯電極、形状可変ミラー、反射角度のばらつき、2 次元配列光変調素子アレイ、振動鎮静化時間短縮、誘電体多層膜、回転変位型光変調素子、など

●掲載企業 
 セイコーエプソン、松下電工、アンリツ、富士フイルム、リコー、マイクロプレシジョン、富士フイルムホールディングス、船井電機、三星電子、サムソン エレクトロ-メカニックス、キネティック、コニカミノルタホールディングス、コミツサリア、コニカミノルタエムジー、シオプティカル、ニコン、ヒューレット-パッカード、ブラザー工業、オリンパス、エロップ エレクトロ-オプティクス、
テクニオン リサーチ アンドディベロップメント、リフレクティヴィティー、京セラミタ、コーニンクレッカ フィリップス、松下電器産業、アドヴァンスド ニュ-マイクロ システムズ、キヤノン、大日本スクリーン製造、日立金属、など

●体裁
 A4判 約55頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2007年 4月


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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ 最近の特許情報からみたMEMS トーションバー 編

●掲載企業
  リコー、シチズンミヨタ、日本信号、セイコーエプソン、富士フイルム、日本電信電話、三星電子、ルーセント テクノロジーズ、ブラザー工業、ニコン、キヤノン、ソニー、クアンタム プレシジョン インスツルメント、ハネウェル・インターナショナル、シャープ、ミラディア、メトコネックス、メムステクノロジー、アオイ電子、アンリツ、ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト、東北大学、サンテック、住友精密工業、松下電器産業、村田製作所、東芝、独立行政法人産業技術総合研究所、エルジー エレクトロニクス、コニカミノルタホールディングス、半導体エネルギー研究所、富士ゼロックス、など

●体裁
 A4判 約 55頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2007年 4月


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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ フライバック型スイッチング電源回路

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 シャープに絞り込んだ技術テーマを特許情報でクローズアップ、技術の現状がクリアーになります。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

フライバック型スイッチング電源回路

●関連キーワード
 定電流/定電圧充電、ヒステリシス比較器、補助電圧変換部による応答改善、電気エネルギー貯蔵デバイス、同期整流素子の安定駆動、発熱量の平均化、トランス励磁電流循環、回生動作、サージ電圧阻止回路、双方向フォワードコンバーター、コンデンサーの高精度充電、高耐圧が不要な構成、ヒステリシス特性をもつ比較手段、電圧クランプ素子の寄生容量で共振、
オーバーシュート低減、複巻線平滑回路、出力保持時間の延長、過電流防止機能、インターリーブ形マルチフェーズコンバーター、入力電圧の常時検出、主スイッチ停止後即同期整流停止、可飽和リアクトル、DSP処理、補助電力開閉器、ほか

●掲載企業
 ソニー、松下電器産業、東芝、デンセイ・ラムダ、サンケン電気、コーセル、日本テキサス・インスツルメンツ、村田製作所、コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ ほか

●体裁
 A4判 約50頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2007年 3月


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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ フォワード型スイッチング電源回路

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 シャープに絞り込んだ技術テーマを特許情報でクローズアップ、技術の現状がクリアーになります。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

フォワード型スイッチング電源回路
●関連キーワード
  定電流/定電圧充電、ヒステリシス比較器、補助電圧変換部による応答改善、電気エネルギー貯蔵デバイス、同期整流素子の安定駆動、発熱量の平均化、トランス励磁電流循環、回生動作、サージ電圧阻止回路、双方向フォワードコンバーター、コンデンサーの高精度充電、高耐圧が不要な構成、ヒステリシス特性をもつ比較手段、電圧クランプ素子の寄生容量で共振、
オーバーシュート低減、複巻線平滑回路、出力保持時間の延長、過電流防止機能、インターリーブ形マルチフェーズコンバーター、入力電圧の常時検出、主スイッチ停止後即同期整流停止、可飽和リアクトル、DSP処理、補助電力開閉器、共通のコア、フィードフォワード制御、同期整流、軽負荷時電力低減、ラッチ付過電流保護回路、補助巻線不要、出力耐電圧向上、無電流期間検出手段、時差検出手段、出力保持時間の延長、両方向導通防止機関の設定、コンデンサー寿命判断、ほか

●掲載企業
 ソニー、松下電器産業、東芝、デンセイ・ラムダ、サンケン電気、コーセル、日本テキサス・
インスツルメンツ、村田製作所、コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ ほか

●体裁
 A4判 約50頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2007年 3月


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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ スイッチング電源の同期整流回路

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 シャープに絞り込んだ技術テーマを特許情報でクローズアップ、技術の現状がクリアーになります。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

スイッチング電源の同期整流回路
●関連キーワード
 プッシュプルDC/DCコンバータ、出力電圧のオーバーシュートの防止、高精度な逆流電流の検出並びに遮断、軽負荷時の変換効率の改善、軽負荷時の変換効率の改善、インダクタに流れる電流の反転防止、軽負荷時の無駄な電流を低減した降圧型スイッチ、軽負荷モード検出、インダクタンス電流の向きの反転検出、ヒステリシスコンパレータ、昇降圧動作の停止時に流れる電流を遮断、閉遅延回路、第1と第2の補助変圧器、変圧器の出力異常、広範囲な入力電圧、電流の逆流防止、同期整流方式とダイオード整流方式の切り替え、スイッチング素子への電流の逆流検出、デッドタイムの短縮化、軽負荷時に逆流を検出、軽負荷時に逆流を検出コイルを流れる逆流の防止、軽負荷時に逆流を検出コイルを流れる逆流の防止、ほか

●掲載企業
 ローム、サンケン電気、松下電器産業、富士通、新電元工業、ルネサステクノロジ、コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ、三星電機、トヨタ自動車、村田製作所、リコー、タムラ製作所、デンセイ・ラムダ、インターナショナル レクティファイアー コーポレイション、コーセル ほか

●体裁
 A4判 約70頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2007年 3月


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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ スイッチング電源デジタル制御シリーズ デジタル制御と高効率、低ノイズ電源 編

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

デジタル制御と高効率、低ノイズ電源 編

●概 要 
 スイッチング電源のトポロジー、共ZVS などの振電源、並列スイッチング方式、マルチフェーズ電源、同期整流のほか、チョッパ回路(力率改善PFC)や一部のノイズフィルタ回路なども取り上げます。

●掲載企業 
 マーベル、TDK、IR、フィリップス、トムソン、松下電器産業、BAE、セミコンダクター・コンポーネンツ、方虎堂など

●体裁
 A4判 50~100頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2006年 8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ スイッチング電源デジタル制御シリーズ デジタル制御と運転モード 編

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

デジタル制御と運転モード 編
●概 要
 電源投入時の起動(ソフトスタート対応)モードや待機時の省エネ運転モード、負荷に応じた最適動作、バーストモード制御、通信リンクを用いた運転モードの切替制御、運転停止への移行などを取り上げます。

●掲載企業
 フィリップス、O2 マイクロ、新電元、ローム、ルネサステクノロジ、セイコーエプソン、富士電機、ダイヤモンド電機、東芝マイクロエレクトロニクス、オリオン電機など

●体裁
 A4判 50~100頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2006年 8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップスイッチング電源デジタル制御シリーズ デジタル制御と安定化 編

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

デジタル制御と安定化 編
●概 要 
 PWM、PFM などの高精度フィードバック制御やループゲインの最適化、高速応答のほか、保護特性の実現など、出力安定化制御に活かすデジタル制御技術を取り上げます。

●掲載企業 
TDK、デンセイ・ラムダ゙、フィリップス、サンケン電気、新電元、O2マイクロ、富士ゼロックス、マーベルダイヤモンド電機、松下電器産業、富士電機など

●体裁
 A4判 50~100頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2006年 8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ スイッチング電源デジタル制御シリーズ デジタル制御とシステム 編

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

デジタル制御とシステム 編
●概 要 画像機器などの電源システム制御、システム負荷への電力管理、並列運転冗長対応、UPS やバッテリー電力制御などのほか、電源自体の異常・故障検出、誤動作の回避など、シーケンスを含めた電源システムの制御管理技術を取り上げます。

●掲載企業
キャノン、O2 マイクロ、デンセイ・ラムダ、デンソー、リコー、松下電器産業、ファイアーストーム、富士電機、三星電子、横河電機、神鋼電機、ラティスセミコンなど

●体裁
 A4判 50~100頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2006年 8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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技術者・研究者のための テクノロジー情報クローズアップ スイッチング電源デジタル制御シリーズ デジタル制御とインバータ回路 編

●内容
◆テクノロジー情報クローズアップシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

デジタル制御とインバータ回路 編
●概 要
 PWM デッドタイム制御や位相制御、モータの回転制御、ノイズキャンセルフィードバック制御、アナログ-デジタルハイブリッド制御、系統連系と電力制御、パワー素子の発熱温度管理、インバータの異常対策のほか、一部のバラスト制御も取り上げます。

●掲載企業
フィリップス、日立H&L、キャノン、トヨタ自動車、日立製作所、IR、国産電機、松下電器産業、サンケン電気など

●体裁
 A4判 50~100頁

●価格
 定価 31,500円(本体30,000円)

●発刊
2006年 8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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液晶ディスプレイのバックライト用インバータ回路 Part2

●内容
 バックライト用インバータ回路は液晶ディスプレイの面光源に欠かせない放電灯点灯回路であり、国際競争に牽引される液晶テレビの急激な大画面化、予想を越える低コスト化、しかも、環境対応の省エネ要請など、相反する厳しい市場ニーズに耐え抜く各社電源技術がバックライトインバータ回路に投入されています。
 特許から見るテクノロジー情報ガイドブックシリーズでは、2006年2月に、主に2001年~2005年の間に発行されたバックライト用インバータ回路の公開特許を調べ、その中から代表的な回路例を集めた「液晶ディスプレイのバックライト用インバータ回路」を発刊いたしました。本書は続刊として2006年以後、2007年9月末までに発行されたバックライト用インバータ回路の公開特許を引き続き調べ、参考になる回路例を集めた資料集です。
 2006年以後の公開特許でみると、液晶ディスプレイの大画面化を反映した多灯点灯回路が最近の技術動向を象徴しているようです。その中で、当然の技術課題として電力効率、輝度均一化、調光範囲の拡大などが取り上げられており、底流基調は飽くなき低コスト化への挑戦だと見ることができそうです。
 本書では、前回のガイドブックとしての発刊主旨に加えて、最近の特許と技術の状況をひと目で全体俯瞰できるように、「ガイドマップ」を設けました。ガイドマップに取り上げた特許情報は特許性や技術の重要性を示すものではありませんが、図を見て全貌を俯瞰する上で便利、しかも、それぞれの分類見出しで取り上げる技術内容を示す代表例を掲載しています。
 なお、本書では、前回の「制御」を「回路トポロジー」、「多灯点灯」、「安全保護」に振り分け、外部電極放電灯EEFLなどの動向に対応して「各種の放電灯点灯回路」を設けました。また、圧電方式は抽出件数も少ないので「トランス」の中にまとめています。さらに、技術の成熟化の反映か「応用用途」は廃止に至りました。

●調査対象
 2006年から2007年10月24日までに発行された国内公開特許から、バックライト用インバータ回路の特許情報97件を抽出し図面中心に掲載

●対象企業 
(順不同)シャープ、松下電器産業、三星電子、ミネベア、船井電機、ローム、エルジー.フィリップス エルシーデー、オーツー マイクロ、東芝松下ディスプレイテクノロジー、松下電工、ナナオ、ソニー、サムスン、太平洋セメント、セイックス テクノロジーズ、富士電機機器制御ほか

●本書Part2の特許情報に見る技術課題
 液晶の大画面化にともなって省エネが重視され、インバータの高効率化と損失低減による電力効率の改善、低消費電力化などがクローズアップされています。大画面化を多灯並列点灯にする場合は、管電流の均等化や管球ごとの輝度ムラ、チラツキのほか、管球の接続オープン対策や異常故障なども重要課題になってきます。放電管を長尺化する場合には管球での輝度ムラやノイズ対策などが技術課題です。 組み立て時間の短縮などのコスト低減だけでなく、マルチフェイズ方式の輝度調整機能、寿命予測機能、外光やリモコン機能などとの係わりも大事な課題だといえそうです。

●体裁
 A4版 121頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 12月


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マイクロマシンの微細加工技術 特許50

●内容
 本書は、技術者が視野を広げ、独創的な着想を得て、新しい技術をはぐくむきっかけとなるヒントを、特許情報から提供することを意図したヒントブックです。研究開発の第一線で活躍する専門家が独自の感性で、2001年以後に出願されたマイクロマシンの微細加工に関する最新の特許情報約200件を査読し、これからの研究開発技術者の参考になり、新たな着想を生む上でヒントになると思われる事例として、50件の発明を厳選。さらに、着想を生み出すために役立つ独自の着眼点を抜き出して体系化し、見やすく図面中心に掲載しています。

●調査対象
・2001年出願以降のマイクロマシンの微細加工技術に関する国内公開特許

●対象企業(順不同)
産業技術総合研究所/科学技術振興事業団/松下電器産業/ソニー/科学技術振興機構/松下電工/住友電気工業/ヒューレット・パッカード/ユニチカ/ローベルト ボツシユ/旭化成エレクトロニクス/アジレント・テクノロジーズ/東海大学/アイ・エイチ・アイ・エアロスペース/ピーアイ技術研究所/フジクラ/沖センサデバイス/日立ハイテクノロジーズ/日立製作所/日立超エル・エス・アイ・システムズ/半導体エネルギー研究所/新産業創造研究機構/大阪産業振興機構/ダルサ セミコンダクター など

●体裁
 A4判 126ページ

●価格
 定価31,500円(本体30,000円)

●発刊
2005年3月


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マイクロマシンセンサの特許100

●内容
 マイクロマシンセンサを研究開発するための貴重なヒントになると思われる特許情報をコンパクトにまとめています。関連する特許から、連想を誘発し、またイメージをふくらませる力がとくにつよい特許を厳選。さらに、マイクロマシンセンサの研究開発に関するあらゆる切り口が反映される特許情報を、着眼点別に、
(1)センサ要素、(2)アプリケーション、(3)マイクロマシンプロセス、(4)表面処理、(5)接合・パッケージング、(6)その他、
に分類。直感的に把握しやすい図面を中心に構成しています。これらの図面が、あなたが現に持っている課題解決への潜在意識を顕在化させる触媒として働きます。マイクロマシンセンサ開発の課題解決へのヒント集として、またライバルたちがどのような着眼で問題に取り組んでいるか知っておくために、ぜひこのヒントブックをご活用ください。
   
●調査対象
・2000年01月~2004年11月までのマイクロマシンセンサに係わる技術に関する国内公開特許

●対象企業(順不同)
NTT、アイシン精機、シーメンス、TI、東海理化電機製作所、セイコーエプソン、三洋電機、ボールセミコンダクター、ニコン、堀場製作所、ボツシユ、太平洋セメント、村田製作所、富士電機、豊田中央研究所、日本航空電子工業、アネルバ、ソニー、デンソー、カリフォルニア大学、オリンパス光学工業、大日本印刷、科学技術振興事業団、シーエムシー技術開発、アルプス電気、曙ブレーキ工業、産業技術総合研究所、ゼロックス、日本道路公団、日立製作所、日立超エル・エス・アイ・システムズ、ハネウエル、インフィネオン・テクノロジース、マサチューセッツ工科大学、エア・エナジー、カリフォルニア工科大学、本田技研工業、ノキア、東芝、松下電器産業、臼井国際産業、カーネギー・メロン大学、マイクロマシーンズ、インテル、ミシガン大学、ルネサステクノロジ、東京エレクトロン、ローム、大阪瓦斯、三星電子、キヤノン、宇宙開発事業団、大日電子、大阪産業振興機構、日本宇宙フォーラム、IBM、新光電気工業、ミヨタ、グラビトン、P&G、バクスター・インターナショナル、シュルンベルジェ、先端科学技術インキュベーションセンター、その他

●体裁
 A4判 131ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2005年2月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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プラスチック成形の特許図面集 第1巻 容器(フィルム、紙含む)

●内容
 1999年10月~12月に公開された特許および実用新案の中から、プラスチック成形品に係わるもの約1300件を抽出し、設計する際に役立つ例・参考になる例を専門家が選んで形状・用途別に分類。個々の課題に対する解決手段とそれぞれの工夫ポイントを記述しました。
 本書では、廃棄物が問題となる容器・包装に範囲を絞ったうえで、特にリターナブルまたは
リサイクルに注目し、公害問題および環境ホルモン問題に対応する事例を集めました。

●体裁
 A4判 190頁

●価格
 定価21,000円(本体20,000円)

●発刊
2000年8月


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ナノテクを生かす液晶ディスプレイ用光学フィルムの技術展開

●内容
 特許で何がわかる?!と疑問をもつ技術者に。新しい特許の見方や、技術を知っておきたい知財担当者に。特許情報を特許としてみない、テクノロジー情報として利用した新しい形のレポートです。
 二つの技術が接触して生まれる創造の渦このレポートで取り上げた「ナノテクノロジーを生かす液晶ディスプレイ用光学フィルム」技術は、いまの社会背景を反映する二つの代表的な位相の異なる潮流が激しく接触して、新たな創造の渦を
巻き起こしています。ナノテクノロジー技術は、バイオ分野などにも広く使われている最先端の高度なプロセスであり、それが従来の光学フィルム技術に新た加わり、大きな進化をもたらそうとしています。
 このように大きく展開すると思われる「ナノテクノロジーを生かす液晶ディスプレイ用光学フィルム」に関して、特許情報に基づいて、今後の可能性を展望しました。

●本書の特徴
◎弊社オリジナルの3種類の分類を付与
◎量的分析&質的分析の2つの視点から技術動向を検討

●調査範囲
2001年1月以降の出願で、2005年9月までの公開特許

●概要
1.過去の特許データから、大きく4つの仮説をたてました
①フィルムにナノテクノロジーのメスをいれる
②プロセスに知恵も盛り込む
③秩序に美を求めるか、無秩序に美を求めるか
④材料設計と機能設計を結びつける
ランダムに抽出した抄録特許情報をすばやく読み解き大胆とも言える仮説を立てました。

2.仮説を元に検証しました総数で586件の特許情報を調べました
精査した特許情報のうち注目に値する特許は、発明を最も良く表わす図や分析者のコメントを一件毎に採用しました。
仮説を検証するために、仮説検証マインドマップにより精査した特許情報を俯瞰します。

3.仮説検証マインドマップから気になる情報を見つけたら、詳細ページで
・この工夫は今まで考えつかなかった
・ここの企業は競合として注目しておかないと! というような読み解き方も可能! さらに詳細には、収録PDFで全文の情報が見られます

4.最後に・・・
このようにして検証を進めていったところ、いくつかの提言が見えてきました。

提言①「中空微粒子は新しいナノ構造と言える。」
提言②「ナノロール転写もあり得る。」

さらに多くの提言と言えるものが生まれたので、是非、お買い求めの上、直接お確かめください。

●試読頂いた方々の感想
※知財部と技術部には未だに大きな隔たりがある企業も多い。知財部門の立場からは技術を、技術者の立場からは特許を学べる良い教科書代わりになると思う。
※読み物としても意外に面白い。柔軟な思考を忘れていたことに気づかされた。
※今まで特許情報というと権利の侵害問題などの防衛目的の用途しか使い道がないと思っていた。
このレポートでは既存特許から新たな思考を生み出そうという姿勢が感じられ、特許を敬遠しがちな
技術者にでも楽しめる内容だと思う。

●体裁
 A4判 約120頁

●価格
 定価157,500円(本体150,000円)

●発刊
2006年2月


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センサ分野でのナノ技術の新機能 特許100

●内容
 いま、ナノ技術が、センシングの次なる地平を拓くものと期待されています。
 本書では、2000年以降に特許出願された国内特許にもとづいて、最近の技術の流れを探り、新たな着想を生むヒントになると思われる事例101件を厳選。さらに、この分野の技術を客観的に捉えるのに役立つ着眼点を抜き出し分類。感覚的に理解でき連想が働きやすい図面を中心に掲載しています。
 「ナノ技術とセンシング機能の関わりの中で課題を解決する」具体的な発想が、このヒントブックにはつまっています。ソリューションへの新たなルートを発見するきっかけとしてお役立てください。

●調査対象
・2000年出願以降のナノテクノロジーを使ったセンシング技術に関する国内公開特許

●対象企業(順不同)
ソニー/科学技術振興事業団/IBM/HP/日立/富士写真フイルム/豊田中央研究所/産業技術総合研究所/日本電子/カリフォルニア大学/ライス大学/ハーバードカレッジ/名古屋大学/東京薬科大学/シャープ/日立ソフトウエアエンジニアリング/物質・材料研究機構/三菱重工 など


●体裁
 A4判 124ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2005年3月


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スイッチング電源米国特許総集編 スイッチング電源のデジタル制御

●内容
◆はじめに◆
 2006年の春に幕張でスイッチング電源システム展が開催されました。その会場に参会された技術者の皆様にアンケート調査を行ないました際に、今年のトップトピックスとして選ばれたのが、デジタル制御技術です。
 この資料集は、スイッチング電源のデジタル制御技術に関する2003年以後に発行されて権利化された米国特許を調査した資料集です。米国はデジタル制御に関連の強い半導体プロセッサ技術の先進国であり、経験的に欧米、アジアの各国の優れた特許が集まります。米国特許をみれば、世界のデジタル制御技術の流れを知ることができます。
 ここで、第一に注意するべきことは、この資料集に取り上げられたデジタル制御技術を実施すると、米国特許の侵害をする可能性があるという点です。この点では2003年以前の発行分も大いに気がかりであり、当社でも、遡及分の資料収集と編集作業が済み次第、できるだけ早い時点での発刊を予定しています。
 第二に注意するべきことは、この資料集に取り上げられたデジタル制御技術に関しては、すでに先行技術として公知文献になっているという点です。文献公知は世界を対象にしています。国内での知財係争傾向の高まりとともに、出願時の先行特許調査や特許庁に対する中間処理対応であれ、進歩性の判断資料や、成立した特許に対する無効審判請求の判断資料などとして、この資料集の利用価値は高いという点です。
 上記のような背景から、この資料集は、スイッチング電源の特許と技術の両方に習熟した技術分析者が、スイッチング電源のデジタル制御技術に関して、電源回路技術者の参考になると考える米国特許を選び、制作しました。

◆本資料集の構成◆
本資料集は、冊子本体とCD-ROMから構成されています。

(1) 冊子本体
①各論
各論は、見開き2ページで1件を掲載しており、左ページには技術的な説明を、右ページにはフロントページを掲載しています。公報番号順(降順)で収録しています。

●日本語タイトル発明の内容にふさわしい和文タイトルを付与しています。
●発明のポイントデジタル制御技術として発明の特徴を解説しています。
●キーワード発明の要素をキーワードとして掲載しています。添付のCD-ROMに収録のExcelでソートしてご活用いただけます。
●Claim.1英語の原文で掲載しています。
●発明相応図(または、対応する国内公開特許)右のフロントページの代表図では足りない場合には、適切な図面を掲載しています。対応する国内公開特許がある場合には、要約と代表図を掲載しています(複数ある場合は出願日の古い方を掲載していあます)。
●フロントページフロントページを掲載しています。掲載されている要約文(ABSTRACT)や代表図は、必ずしも権利範囲を代表するとは限らないので注意が必要です

②参考情報
各論ページに掲載の特許一覧表を掲載しています。

(2) CD-ROM
①該当特許一覧表(Microsoft Excel形式)
該当特許一覧表の電子データです。書誌的事項の他、発明のポイント、キーワードも収録されていますので、キーワードでソートしてご活用いただけます。また、②の全文明細書にリンクがされていますので全文明細書を参照するのに便利です。

②全文明細書(PDF形式)
該当特許の全文明細書を収録しています。

●体裁
 A4判 約270頁 付属CD-ROM

●価格
 定価 84,000円(本体80000円)

●発刊
2006年 8月


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スイッチング電源特許 YEAR BOOK 2006

●内容
 特許情報は、権利情報としての性格だけでなく、技術情報としての性格があります。特許情報をひもといてみると、いろいろな技術の見方が詰まっていることが判ります。“もの”を造るメーカー側にもそれぞれの得手・不得手があり、特許出願には、各社の性格が現れてきます。また、例えば、特許出願の多い領域は、それだけに各社がしのぎを削っている重要エリアとも言えるでしょう。
 一方、最近は知財が技術者に身近なものになってきています。日々の工夫の成果を特許出願し、会社の知的財産を育てる行為も既に技術者の義務として職務に取り込まれています。
 2006年日本発行の特許情報から、専門家がスイッチング電源に関する特許情報として選んだ全件の全文・全図特許データを総覧。客観的データをもとに、説得力のある判断を下せます
 ネオテクノロジーでは、約10年前から国内・海外のスイッチング電源に関する特許情報を継続監視しており、さまざまなテーマでの特許調査や特許レポートを企画・発行しております。このイヤーブックも、当社の蓄積した資料と分析者のご協力により編纂されたものです。
 スイッチング電源の技術開発とマーケティングの資料としてぜひお役立てください。

●体裁
 A4判 206頁+特許情報CD-ROM

●価格
 定価 84,000円(本体80,000円)

●発刊
2007年 4月


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スイッチング電源特許 YEAR BOOK 2007

●内容
 特許情報は、権利情報としての性格だけでなく、技術情報としての性格があります。特許情報をひもといて
みると、いろいろな技術の見方が詰まっていることが判ります。“もの”を造るメーカー側にはそれぞれの得手・不得手があり、特許出願にも、各社の性格が現れてきます。また、例えば特許出願の多い技術的領域は、それだけ多くの発明者が知恵を競い合い、各社がしのぎを削っている重要エリアとも言えるでしょう。
 本書は、2007年に発行された「マンスリー特許情報《スイッチング電源編》」に基づいて、スイッチング電源企業の最新動向や技術的傾向を見る資料として、主に公開特許文献を分類・整理したイヤーブックです。現在スイッチング電源技術に取り組んでいる技術者が、競合他社の出願動向を探り、各社がどんな技術的課題に取り組んでいるのか、同じ分野の技術者が生んだ発明を見ながら、自分たちを取り巻く技術要素や、特許環境を知る資料としてご利用いただくことができます。
 ネオテクノロジーでは、約20年前から国内・海外のスイッチング電源に関する特許情報を継続監視しており、さまざまなテーマでの特許調査や特許レポートを企画・発行しております。このイヤーブックも、当社の蓄積した資料と分析者のご協力により編纂されたものです。
 スイッチング電源の技術開発とマーケティングの資料としてぜひお役立てください。

●体裁
 A4版 184頁+特許情報CD-ROM

●価格
 定価 84,000円(本体80,000円)

●発刊
2008年 7月


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スイッチング電源特許 YEAR BOOK 2004

●内容
1)趣旨
 特許情報は、権利情報としての性格だけでなく、技術情報としての性格があります。特許情報をひもといてみると、いろいろな技術の見方が詰まっていることが判ります。“もの”を造るメーカー側にもそれぞれの得手・不得手があり、特許出願には、各社の性格が現れてきます。また、例えば、特許出願の多い領域は、それだけに各社がしのぎを削っている重要エリアとも言えるでしょう。
 一方、最近は知財が技術者に身近なものになってきています。日々の工夫の成果を特許出願し、会社の知的財産を育てる行為も既に技術者の義務として職務に取り込まれています。
 本書は、2004年に発行された「マンスリー特許情報《スイッチング電源編》」*に基づいて、スイッチング電源企業の最新動向や技術的傾向を見る資料として、主に公開特許文献を分類・整理したイヤーブックです。現在スイッチング電源技術に取り組んでいる技術者が、競合他社の出願動向を探り、各社がどんな技術的課題に取り組んでいるのか、同じ分野の技術者が生んだ発明を見ながら、自分たちを取り巻く技術要素や、特許環境を知る資料としてご利用いただくことを目的としています。
 ネオテクノロジーでは、約10年前から国内・海外のスイッチング電源に関する特許情報を継続監視しており、さまざまなテーマでの特許調査や特許レポートを企画・発行しております。このイヤーブックも、当社の蓄積した資料と分析者のご協力により編纂されたものです。
 スイッチング電源の技術開発とマーケティングの資料としてぜひお役立てください。

(2)本書で取り上げた技術

①技術的対象
スイッチング電源に関する回路技術を対象としました。

②抽出方法
スイッチング電源に関する下記国際特許分類(IPC)をもとに機械検索を行い、該当件について技術スタッフが明らかなノイズを除去した上で、マニュアル査読を行いました。

<スイッチング電源に関するIPC>
IPC=G05F*+H02M*+H02H3/*+H02H7/*+H02H9/*    (*は前方一致を示します)
G05F:電気的変量または磁気的変量の調整システム
H02M:AC-AC、AC-DCまたはDC-DC変換装置
H02H:非常保護回路装置

<採用基準>
スイッチング電源、電圧・電流検出などを含めた周辺回路、過電流や過電圧などの保護回路、
電源用部品、整流平滑回路などに加え、一部、高圧電源も含めています。
<ノイズ基準>
電力会社の配電、半導体IC等の素子、ICの内部回路、部品、装置関係、ACだけのもの

③対象期間
2004年1~12月に発行された国内公開特許を対象としました。

④技術分類
「マンスリー特許情報《スイッチング電源編》」による、下記の定義で分類を付与しています。

<技術分類定義>
メイン回路・・・ 商用ACをDCに変換する技術に特徴があるものDC/DC変換技術に特徴があるものDCをACに変換する技術に特徴があるもの
制御回路・・・ 制御回路や制御方式に特徴があるもの
保護回路・・・ 異常が生じても破壊につながらないように保護する回路に特徴があるもの(例:OVやOC、インラッシュなど)
その他参考・・・ その他参考になるもの

●体裁
 A4判 126頁+付属CD-ROM

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2005年8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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スイッチング電源 YEAR BOOK 2005

●内容
 特許情報は、権利情報としての性格だけでなく、技術情報としての性格があります。特許情報をひもといてみると、いろいろな技術の見方が詰まっていることが判ります。“もの”を造るメーカー側にもそれぞれの得手・不得手があり、特許出願には、各社の性格が現れてきます。また、例えば、特許出願の多い領域は、それだけに各社がしのぎを削っている重要エリア
とも言えるでしょう。
 一方、最近は知財が技術者に身近なものになってきています。日々の工夫の成果を特許出願し、会社の
知的財産を育てる行為も既に技術者の義務として職務に取り込まれています。
 本書は、2005年に発行された「マンスリー特許情報《スイッチング電源編》」*に基づいて、スイッチング電源企業の最新動向や技術的傾向を見る資料として、主に公開特許文献を分類・整理したイヤーブックです。現在スイッチング電源技術に取り組んでいる技術者が、競合他社の出願動向を探り、各社がどんな技術的課題に取り組んでいるのか、同じ分野の技術者が生んだ発明を見ながら、自分たちを取り巻く技術要素や、特許環境を知る資料としてご利用いただくことを目的としています。ネオテクノロジーでは、約10年前から国内・海外のスイッチング電源に関する特許情報を継続監視しており、さまざまなテーマでの特許調査や特許レポートを企画・発行しております。このイヤーブックも、当社の蓄積した資料と分析者のご協力により編纂されたものです。
 スイッチング電源の技術開発とマーケティングの資料としてぜひお役立てください。


●体裁
 A4判 約300頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 4月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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クリーンルームの技術動向分析調査 第1巻:高清浄度化システム

●内容
 高度清浄環境(コンタミネーションコントロール)は、製品の信頼性を高める基幹技術です。当レポートでは、1992年12月までの5年間の建設、空調、半導体、製造装置、その他広範囲にわたる関連特許・実用新案1000件を調査。4巻にまとめ、さらに各巻の内容を具体的な技術分類に分け、技術の流れ・動向を特許情報から分析しました。開発・設計のヒント集、各企業の技術開発戦略・市場戦略をよみとる資料として幅広く活用できます。

●体裁
 A4ファイル綴じ 約1,000~1,300ぺージ 

●価格
 定価 78,750円(本体75,000円)

●発刊
1993年 2月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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クリーンルームの技術動向分析調査 第4巻:プロセスとマテリアルハンドリング

●内容
 高度清浄環境(コンタミネーションコントロール)は、製品の信頼性を高める基幹技術です。当レポートでは、1992年12月までの5年間の建設、空調、半導体、製造装置、その他広範囲にわたる関連特許・実用新案1000件を調査。4巻にまとめ、さらに各巻の内容を具体的な技術分類に分け、技術の流れ・動向を特許情報から分析しました。開発・設計のヒント集、各企業の技術開発戦略・市場戦略をよみとる資料として幅広く活用できます。

●体裁
 A4ファイル綴じ 約1,000~1,300ぺージ

●価格
 定価 78,750円(本体75,000円)

●発刊
1993年 2月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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クリーンルームの技術動向分析調査 第3巻:ユーティリティ・空調制御・運用・保守

●内容
 高度清浄環境(コンタミネーションコントロール)は、製品の信頼性を高める基幹技術です。当レポートでは、1992年12月までの5年間の建設、空調、半導体、製造装置、その他広範囲にわたる関連特許・実用新案1000件を調査。4巻にまとめ、さらに各巻の内容を具体的な技術分類に分け、技術の流れ・動向を特許情報から分析しました。開発・設計のヒント集、各企業の技術開発戦略・市場戦略をよみとる資料として幅広く活用できます。

●体裁
 A4ファイル綴じ 約1,000~1,300ぺージ 

●価格
 定価 78,750円(本体75,000円)

●発刊
1993年 2月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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クリーンルームの技術動向分析調査 第2巻:空調機器・空調ユニット・空調関連資材

●内容
 高度清浄環境(コンタミネーションコントロール)は、製品の信頼性を高める基幹技術です。当レポートでは、1992年12月までの5年間の建設、空調、半導体、製造装置、その他広範囲にわたる関連特許・実用新案1000件を調査。4巻にまとめ、さらに各巻の内容を具体的な技術分類に分け、技術の流れ・動向を特許情報から分析しました。開発・設計のヒント集、各企業の技術開発戦略・市場戦略をよみとる資料として幅広く活用できます。

●体裁
 A4ファイル綴じ 約1,000~1,300ぺージ 

●価格
 定価 78,750円(本体75,000円)

●発刊
1993年 2月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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インクジェット法を用いた有機EL膜とその応用展開

●内容
 本調査レポートでは、2000年以降に出願された特許情報を軸に、重要技術とそれを支える関連技術の動向、および有機ELの研究開発に携わる主要企業の動向を分析・報告いたします。今後大きく展開するであろう技術テーマを的確に俯瞰することにより、他社に先んじてビジネス対応するための資料として、ネオテクノロジーの特許動向調査レポートをぜひご利用ください。

●量的分析と質的分析・・・この2つの視点から技術動向を模索する。この新しいスタイルが本特許動向調査レポートシリーズの特長です
●特許情報の質的な分析によりハイスループットの実現、特性の均一性、工法のハイブリッドなど具体的な今後の技術動向を浮かび上がらせます

1.調査目的
 この調査では、最近のインクジェット法を用いた有機EL膜とその応用展開に関して、2000年以後に特許出願された国内の公開特許情報を用いて動向を調査分析することを目的にしています。
 有機ELは自発光型次世代表示素子の本命として注目されています。実用化への鍵となる導電性有機材料の現状を見ると、真空蒸着法を用いる低分子系有機発光材料では既に実用商品としての輝度と寿命を実現しており、大画面の有機ELディスプレイへの挑戦が進んでいます。インクジェット法を用いる高分子系有機発光材料は後発になるものの、溶剤(インク)の改良や新規な材料開発など、輝度と寿命への挑戦が続いています。
 一方、インクジェット技術はOAプリンタやPETボトルへのマーキングなどの実際市場での実績の上にヘッドの改良と液滴の安定化、高精度化が図られ、マスクレスに直接に描画できるパターン形成工法として独自の発展を示し、印刷対象の自由度も増しています。
 このように、印刷から派生した新しい生産技術としてのインクジェット法と、将来を有望視されるエレクトロニクス導電性高分子材料としての有機EL膜は、それぞれ個々に発展してきた技術が潮合となって、インクジェット法を用いる有機EL膜に係わる一連の実用化研究を牽引しております。
 そこでは、新しい生産技術としてのインクジェット法が、次世代の表示素子としての有機EL膜に対してどのように応用展開されているか、両者の総合的な関連の中での相乗的な開発動向は、現在、最も注目される技術テーマのひとつであるということがいえましょう。

・ エレクトロニクス産業での新しい生産技術(プロセス工法)としてのインクジェット法には、
具体例として有機EL膜への適用を取り上げてみると、主にどのような技術課題が着目されており、どのような取り組みがなされているか
・ 実際の商品化をねらう次世代表示素子としての有機EL膜には、インクジェット法のどのようなメリットと技術課題が着目されており、どのような取り組みがなされているか
・ そして、公開特許にも未だ例が少ないインクジェット法を用いた電子回路やTFT(薄膜トランジスタ)、RFIDなどへの展開に対して、「インクジェット法を用いた有機EL膜とその応用展開」の延長線上に将来への布石を見ることができるか
 上記の3点に着目しても、最近の特許情報に基づいて、インクジェット法を用いた有機EL膜とその応用展開の状況を調査・把握しておくことは、今後のエレクトロニクス技術の将来動向を探る上でも、重要な意味を持つものと思われます。この調査では、企業の継続的な研究開発の成果が特許情報に表われることから、特許情報の特徴を利用して量的解析(件数ベースでの特徴解析)と質的解析
(公報記載内容ベースでの特徴解析)を行います。

●体裁
 A4判 リング綴じ

●価格
 定価99,750円(本体95,000円)

●発刊
2005年7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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インクジェット応用技術の特許100

●内容
 非接触、微少液滴吐出という特徴により、インクジェット方式は用途が拡大し続けています。布地、皮革、立体物といった紙以外への印刷にとどまらず、ディスプレイ、バイオチップ、三次元造形、基板配線、燃料噴射、光導波路などへと広がっています。
 本書は、この用途拡大の観点から代表的な特許情報100件を厳選しました。インクジェット技術に携わるエンジニアの方はもちろん、営業及び企画部門の方々にも是非お読みいただきたい1冊です。

特徴①プリンタ以外へのインクジェット技術を対象
特徴②主要企業別に最近の取り組み状況を徹底解明
特徴③専門家が見た最新の重要特許を抽出

●調査対象
2002年4月以降に出願され、2004年4月までに公開されたインクジェット技術に関する国内公開特許

●対象企業(順不同)
セイコーエプソン/大日本印刷/キャノン/コニカミノルタ/凸版印刷/半導体エネルギー研究所/松下電工/
リコー/シャープ/富士写真フィルム/三星エスディアイ/日立製作所/パイオニア/JSR/ニチハ/トッパンフォームズ/
ヒューレットパッカード/デンソー/クラスターテクノロジー/東芝/住友ベークライト/アルプス電気/
鐘淵化学/アークレイ/日本ゼオン など

●体裁
 A4判 147頁

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2004年9月

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RF MEMS(高周波MEMS)の特許100

●内容
 半導体素子をはじめとする固体デバイス、その材料、およびプロセスそれぞれの技術の急速な進歩により、微小な機械的要素を含む固体デバイスという新しい領域が形成されつつあります。材料技術、プロセス技術が進歩し、またこれまで不可能とされてきた材料でも加工できるようになり、機器デザインの自由度が格段に広がり、たとえばシリコン単結晶を利用した圧力センサやDMDデバイス等が実現しています。
 RF MEMS(高周波MEMS)については、従来のエレクトロニクスが苦手としてきた数百GHz~数THz(ミリ波から遠赤外線領域)をカバーする新しいデバイスとして、大きな可能性を秘めた分野です。要素が微細化したことで慣性面での制約がなくなり、接点の磨耗寿命も飛躍的に延びるなどのプラス効果により、新機能の実現と機能の改善、機能の集積も進んでいます。
 さらに、要素技術のみでなく実装・封止、検査、および機能集積などでも多様な技術開発が展開されていることが読み取れます。商品化へ向けて、機能価値の向上とデバイスの使いやすさを目指す出願も増えています。
 この点で「RF MEMSの市場はテイクオフに向かっている」のは特許の分布からも明らかです。今後はMEMSの特徴を活かした実装・封止、検査、モジュール化等のインフラ技術の具体化と要素技術との整合実現に開発のフィールドはシフトするものと予想されます。
 本書では、RFを受けるもの、RFをキャリアにするもの、RFで動くものを中心に、RF MEMSの範疇をやや広げ、光に関する出願など、研究開発の参考になると思われる出願も取り上げました。


●体裁
 A4判 132ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2004年12月


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MEMS 技術の医療への応用展開 注目特許100

●内容
◆はじめに◆
 半導体の製造プロセスを利用したシリコンMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)デバイスはすでにさまざまな分野で利用されています。身近にはディスク装置やプリンターのヘッド、液晶プロジェクタに内蔵されているデジタル・マイクロミラー・デバイス、自動車の燃料制御用のMEMS圧力センサー、エアバッグシステムのMEMS加速度センサー等がそれです。
 小型、低消費電力、高性能などの特徴から次々と新応用分野を切り開いてゆくことと思われます。ここでは2000年以降の国内出願特許から医療機器・医療システムを中心とした特許出願抽出を行って医療分野における応用の動向を調べました。
 体内埋め込み機器のエネルギー供給が従来は電池の充電でしたが、体外から電磁波や、磁力によりエネルギーを補給する方向に進化しつつあります。シリコン型の微少電気式機械システムの範疇をすでに脱して、機能性高分子樹脂やジェル、磁性ポリマーを用いた微少システムとして従来のMEMSの範疇にないものが現れています。
 非侵襲性の徐放剤による治療においては徐放剤の量および速度が非常に厳格に制御される方向に向かいつつあり、医療側の治療法の進歩に伴い治療介入にサイトカインの適用も可能と言える状況が到来すると思われます。
 また体内局所を刺激治療する方法が示され、在来医療では体内の問題にかかわる部分を除去して機能改善を行ってきたものが、医療者による全身各部位へ局所刺激療法の挑戦が始まろうとしています。
 マイクロ・ニ―ドルの発展は従来の注射、点滴に代わる無痛治療の範囲拡大を意味し、その微小量の制御能力により脈管系のみならず皮内および皮下組織各部位に及ぶ治療をより有効にすることが期待されます。
 医療用MEMSに要求される特性として応答・制御速度と制御精度の点から見れば、筋肉運動系は動きが速いだけに応答速度も最大1秒以内が目安になり、脳神経系であれば10秒以内という中速度が目安になります。さらに全身的に緩やかな生理反応系であれば10秒以上、分の単位内で応答してゆければ十分です。一方、量的な制御精度から見れば、筋肉運動系はかなり量的制御精度は低く、神経系では中程度、サイトカインに近い化学薬剤であれば応答速度は低くてもきわめて高い量的制御が必要になります。
 このような医療上のさまざまな要請に、技術者はどのように応え、特許出願しているか、注目特許100例を本書にまとめています。「MEMSを用いるこれからの医療機器・医療システム」の研究開発の方向を探る確かな資料としてお役立ていただければ幸いです。

●体裁
 A4判 約230頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 1月


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FED/SED電界放出型ディスプレイの注目特許100

●内容
 薄型・低消費電力という特徴により、FED/SED電界放出型ディスプレイへの期待が高まっています。実用化へ向けて、関連する幅広い技術分野で激しい開発競争が繰り広げられており、重要特許もぞくぞく公開されています。本書は、それらの特許情報の中から、技術者が実際の研究開発を進めるうえでヒントになると思われる注目特許100件を厳選し、図面を中心に見やすくまとめました。実戦的、即効的な技術資料として、お役立てください。

●調査対象
・2001年以降に出願され、2005年1月までに公開されたFED/SED技術に関する国内公開特許

●対象企業(順不同)
キヤノン/シャープ/ソニー/モトローラ/日立ディスプレイズ/東芝/東芝電子エンジニアリング/日立製作所/半導体エネルギー研究所/京セラ/工業技術研究院/三星エスディアイ/三菱電機/松下電器産業/松下電工/大日本印刷/物質・材料研究機構/日本碍子/日本放送協会 など

●体裁
 A4判  238ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2005年4月


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DMDのマイクロマシン特許100

●内容
 DMD(Digital Micromirror Device:TI社の登録商標)は、デジタル対応、高輝度、画像の均一性などの特徴で、大画面表示の次世の主役として期待されています。本書では、2001年以後に特許出願された日本と米国の最新特許情報にもとづいて、21世紀に入ってからのDMD技術の変化と、DMDに係わる企業の動向を探り、これから新しい挑戦を始める際にヒントになると思われる約100例を選びました。回折格子型GLVやLVも取り上げています。

特徴①DMDのマイクロマシン技術を対象
特徴②主要企業別に最近の取り組み状況を徹底解明
特徴③専門家が見た最新の重要特許を抽出

●調査対象
2001年出願以後のDMDマイクロマシン技術に関する国内公開特許
1976年以後のDMDマイクロマシン技術に関する米国特許

● 対象企業(順不同)
ソニー/キャノン/セイコーエプソン/リコー/NEC ビューテクノロジー/富士写真フイルム/
日東光学/カシオ計算機/オリンパス/オムロン/日立製作所/日立超エル・エス・アイ・システムズ/
JSR/キヤノン電子/Texas Instruments/Eastman Kodak/Light and Sound Design など

●体裁
 A4判 165ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2004年8月


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3φ電子機器(電源)の力率改善・高調波対策 国内特許編

●内容
 2004年の高調波ガイドラインの廃止以後もIECやJISにそった高調波電流の抑制は重要な環境対策です。この特許レポートでは現実に小型、省エネ、低ノイズに加えて低コストが求められる汎用三相(AC3φ)電子機器の高調波対策・力率改善回路を取り上げます。1995年以後に発行された国内特許情報を調査し、登録特許102件、公開特許146件を掲載しています。最近の傾向はスイッチング素子とデジタル回路の高性能化による低コスト化とこまやかな省エネです。汎用機器の製品開発にぜひ、お役立てください。

①侵害防止対策の具体的指標となります。
②内容をとらえやすい図面を中心に掲載しています。
③第一線の設計技術者と特許専門家により、技術と特許の両方向から調査・分析!!
④目的・効果別の分類、さらに、発明のポイントを付与しています。

【調査対象とした回路技術】
 いわゆる電力会社のAC3相ラインに接続される電源機器の入力電源(上流側)に対する高調波抑制・力率改善技術(以下、PFC 改善)改善を対象にしました。この技術対象には、汎用的なスイッチング電源だけでなく、大型の変換機、無停電電源
(UPS)なども含めました。なお、3相電源機器のPFC 改善を対象としているので、単相専用は取り上げていません。また、出力側の高調波改善などの発明もノイズ情報として除去しています。

【調査対象とした特許情報】
 当社既刊の特許調査レポート「電子機器(電源)の力率改善・高調波対策 国内特許編<1995 年版>」の調査範囲との連係性を保つために、この報告書では1995 年11月1 日以降、2008 年1 月末までに発表された公開特許情報、および登録特許情報を対象といたしました。

【目的・効果による分類】
(1) 高調波高調波対策を施すことで力率改善も同時に行われる、という発明が多くありました。また、「力率改善装置」として高調波対策を施している例もあります。従って出願文の文意が高調波対策に強く言及したものを取り上げました。
(2) 力率
有効電力と無効電力などの記載があるもの、文意の主体が力率となっているものを取り上げました。
(3) 小型化
高調波・力率などの機能向上を行いながらも、部品(電力用コンデンサ)などの数量減、機器外形を同等または縮小した発明を取り上げました。
(4) 効率化
変換機における電力損失の低減、スイッチング周波数の低下など、電力損失に関するものを取り上げました。
(5) 安定化
スイッチング雑音の低減、素子の破壊など、機器の安定動作に結びつくものを取り上げました。
4 NeoTechnology
(6) コスト
簡素化、経済性などを取り上げました。
(7) 参考
デジタル化された数値を扱った機器でソフト処理による多目的な装置、超大型装置など、これからの技術動向として注目されるものを取り上げました。これらはCPUの高速化に伴い、更に多くの展開が予想されます。

●体裁
 A4判 303頁

●価格
 定価 178,500円(本体170,000円)

●発刊
2008年 2月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)Ultra Low-k シリーズ 多層配線応用編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

多層配線応用 編
●技術分類
1.はがれ防止  2.信頼性  3.後工程  4.平坦化  5.プロセス改善  6.Cu拡散防止 7.生産安定性

●対象技術
Ultra Low-k をCu 多層配線に応用する場合の課題を中心に取り上げます。

●掲載企業
富士通、東芝、半導体先端テクノロジーズ、ソニー、日立化成、ルネサステクノロジ、松下電器産業、NEC エレクトロニクスほか

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 11月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)ナノインプリント技術 シリーズ ナノインプリントのモールド技術 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

ナノインプリントのモールド技術 編
●技術分類 
剥離性、モールド

●対象技術 
パターン欠陥の低減、歩留まりの向上に、モールドの剥離技術は必須です。ここでは、モールドからの硬化性樹脂を引き離す技術を取り上げます。

●掲載企業 
キヤノン、日立製作所、キヤノン、セイコーエプソン、コマーグ・インコーポレーテッドほか

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 11月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)有機EL シリーズ 有機ELの有機TFT技術 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

有機ELの有機TFT技術 編
●技術分類
構造、構造と製法、製法、材料、表示・ムラ改善回路、その他の回路

●対象技術
構造、構造と製法の典型例とTFTに固有の技術課題について取り上げます。

●掲載企業
東芝松下ディスプレイテクノロジー、日立ディスプレイズ、エルジー.フィリップスエルシーデー、三星エスディアイ、セイコーエプソン、韓國電子通信研究院、シャープ、オプトレックス、富士電機ホールディングス、ソニー など

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)有機EL シリーズ 有機ELと印刷転写 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

有機ELと印刷転写 編
●技術分類 
光・レーザー、熱・圧力、オフセット、スクリーン・マイクロスタンプ、直接印刷・任意印刷法、その他

●対象技術 
有機EL パネルに印刷技術を導入してコスト削減をはかる技術。(ただし、インクジェット印刷は続巻「インクジェット技術」に収録)

●掲載企業 
半導体エネルギー研究所、パイオニア、三星エスディアイ、凸版印刷、オリオンテクノロジーズ、大日本印刷、ダイキン工業、イーストマン コダック、スリーエム イノベイティブ プロパティズ など

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)プロジェクタシリーズ マイクロミラー・DMD 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

マイクロミラー・DMD 編
●技術分類
光源、小型化、放熱・冷却、遮光処理、反射光処理、補正・測距、画質改善・ミラー、付加機能・その他

●対象技術
DMDは、高輝度、画像の均一性、デジタル対応などの特徴でプロジェクタの中でも重要な地位をしめています。そのDMD技術の最近の状況を明らかにします。

●掲載企業
大日本印刷、シャープ、カシオ計算機、船井電機、NTT、東芝、セイコーエプソン、プラスビジョン、NECビューテクノロジー、コニカミノルタオプト、富士写真フイルム、三菱電機、オリンパス、キャノン など

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 8月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)プロジェクタシリーズ プロジェクタ全般 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

プロジェクタ全般 編
●技術分類
3D、空間光変調(DMD他)、計測・制御、補正、投射角・スクリーン、安全・信頼性、付加機能・複合化、液晶表示装置、その他(小型化、薄型化等)

●対象技術
プロジェクタ技術全般を対象にします。技術の全体像を俯瞰し、イメージを構築するのに役立ちます。

●掲載企業
東芝、セイコーエプソン、カシオ計算機、日立製作所、ブラザー、フジノン、富士写真フイルム、三星電子、リコー、NECビューテクノロジー など

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 8月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)ナノインプリント技術 シリーズ ナノインプリントの用途開拓・将来展望 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

ナノインプリントの用途開拓・将来展望 編
●技術分類 
位置合わせ、応用、新手法

●対象技術 
位置合わせ・重ね合わせ精度の向上のための技術や光導波路、分子回路、
分子ナノインプリント、MEMSへのナノインプリント技術の応用など、新しいプロセス技術を
取り上げます。

●掲載企業 
エイエスエムエル、ヒューレットパッカード、ブリヂストン、松下電器産業、東芝ほか

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 11月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)ナノインプリント技術 シリーズ ナノインプリントの均一加圧 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

ナノインプリントの均一加圧 編
●技術分類
モールド、加圧

●対象技術 
均一加圧、圧力分散、加圧変形や樹脂の流れ性・流動性、モールドの関わりあいを取り上げます。

●掲載企業 
東芝、富士写真フイルム、キヤノン、日立製作所、産業総合技術研究所、ヒューレットパッカードほか

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体 50,000円)

●発刊
2006年 11月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)ナノインプリント技術 シリーズ ナノインプリントによるパターン形成 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして
有用です。

ナノインプリントによるパターン形成 編
●技術分類  光、熱、レジスト

●対象技術 
ナノインプリントを代表する技術として熱ナノインプリントと光硬化ナノインプリントの二つを主に取り上げ、あわせて硬化性樹脂としてのインプリントゲル、インプリント樹脂技術の動きをみます。

●掲載企業 
日立化成工業、日立マクセル、東レ、東芝、松下電器産業、旭硝子、リコー、キヤノン、ニコンほか

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 11月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) タッチパネル技術 シリーズ デジタルカメラと携帯電話 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

デジタルカメラと携帯電話 編
●技術分類
1.本体デザイン、2.パネルマウント技術、3.表示とソフト、4.制御技術・システム

●対象技術
デジカメや携帯電話の厳しい市場に使われるタッチパネル技術と課題を取り上げます。

●掲載企業
東芝、富士写真フイルム、NEC グループ、オリンパス、リコー、キャノングループ、京セラミタ、シャープ、日立、ニコン、グンゼ、ソニー、コニカミノルタ、松下電器産業、JSR など


●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 6月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)タッチパネル技術 シリーズ 用途を広げる機能性フィルム 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用
です。

用途を広げる機能性フィルム 編
●技術分類 
1.視認性、2.環境適合性、3.タッチ検出、4.利便性、5.将来展望

●対象技術 
ディスプレイ機能と機械的強度・信頼性だけでなく、電気的検出機能が求められて
います。本書ではこれらの最適化を図る機能性フィルムとその課題を取り上げます。

●掲載企業 
JSR、グンゼ、コニカミノルタホールディングス、シチズンセイミツ、シャープ、ソニー、河口湖精密、きもと、三洋電機、住友ベークライト、松下電器産業、帝人、東ソー、東洋紡績、同和鉱業、日東電工 など

●体裁
 A4判 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 6月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)タッチパネル技術 シリーズ 構造から見たパネル技術 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用
です。

構造から見たパネル技術 編
●技術分類 
1.パネル構造、2.積層・多層構造、3.位置検出機構、4.電極・配線接続

●対象技術 
表示パネルと入力パネルを重ねたタッチパネルの全体構造、その実装技術など、技術的課題を取り上げます。

●掲載企業 
TDK、アルパイン、アルプス電気、きもと、グンゼ、シチズンセイミツ、シャープ、セイコーエプソン、ソニー、タッチパネル・システムズ、デンソー、パイオニア、河口湖精密、三洋電機、松下電器産業、東芝 など

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 6月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)タッチパネル技術 シリーズ ドライバー指向のカーナビ 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

ドライバー指向のカーナビ 編
●技術分類
1.視認性、2.安全・保障、3.誤動作防止・迅速性、4.操作性、5.利便性、6.使い勝手

●対象技術 
ひと目で見やすく、使いやすい、安全性を高めるための機能と課題を取り上げます。

●掲載企業  クラリオン、アルパイン、デンソー、富士通テン、トヨタ自動車、ケンウッド、パイオニア、アイシン・エィ・ダブリュ、松下電器産業、ヤマハ、ソニー、三菱電機 など

●体裁
 A4判 約130頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 6月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)タッチパネル技術 シリーズ インターフェースに求める高機能化 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

インターフェースに求める高機能化 編
●技術分類
1.画像表示、2.ソフト処理、3.パネル面ハード処理、4.振動パネル、5.機能性付与

●対象技術 
視覚だけでなく、聴覚や触覚も用いるマンマシンインターフェース技術を取り上げます。

●掲載企業
グンゼ、きもと、日東電工、河口湖精密、コニカミノルタ、富士通、日東電工、シャープ、パイオニア、富士写真フイルム など

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 6月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)Ultra Low-k シリーズ プロセス 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

プロセス 編
●技術分類 
1.ビア形成 2.レジスト除去 3.後処理 4.改善処理 5.エアギャップ 6.製造装置 7.その他

●対象技術 
配線要領低減に不可欠なUltra Low-kの重要プロセスの代表例を中心に取り上げています。

●掲載企業 
半導体先端テクノロジーズ、松下電器産業、ルネサステクノロジ、東芝、東京エレクトロン、日本エー・エス・エム、ソニーほか

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 11月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)LCD(液晶表示)技術 シリーズ 偏光フィルム 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

偏光フィルム 編
●技術分類 
1.材料、2.製法、3.構造、4.その他

●対象技術 
偏光フィルム技術のさまざまな工夫とその課題を取り上げます。

●掲載企業 
富士写真フイルム、コニカミノルタオプト、日東電工、大日本印刷、日本ゼオン、日立ディスプレイズ、セイコーエプソン、シチズン時計、シャープ など

●体裁
 A4判 203頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 7月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)LCD(液晶表示)技術 シリーズ 反射防止フィルム 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

反射防止フィルム 編
●技術分類 
1.微粒子と多孔、2.凹凸・表面粗さ、3.膜・積層、4.その他

●対象技術 
LCD(液晶表示)のみやすさを決める反射防止フィルム技術とその課題を取り上げます。

●掲載企業 
富士写真フイルム、チャータード セミコンダクター マニファクチャリング、大日本印刷、日東電工、凸版印刷、日本ゼオン、コニカミノルタオプト、積水化学、東ソー、 住友化学 など

●体裁
 A4判 216頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 7月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)LCD(液晶表示)技術 シリーズ 静電気(帯電)対策と活用 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

静電気(帯電)対策と活用 編
●技術分類 
1.帯電防止層、2.帯電要素の除去、3.静電保護、4.静電気の活用、5.その他

●対象技術 
LCD(液晶表示)の信頼性、使い勝手を左右する静電気(帯電)対策と活用技術とその課題を取り上げます。

●掲載企業 
セイコーエプソン、シャープ、ソニー、東芝松下ディスプレイテクノロジー、富士写真フイルム、京セラ、コニカミノルタオプト、大日本印刷、シチズン時計、三星電子、日東電工、大日本スクリーン製造など

●体裁
 A4判 131頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 7月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)LCD(液晶表示)技術 シリーズ 遮光膜 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

遮光膜 編
●技術分類 
1.カラーフィルタ、2.スイッチング素子・電極・配線、3.周縁・額縁、
4.その他

●対象技術 
LCD(液晶表示)に使われる遮光膜技術とその課題を取り上げます。

●掲載企業 
セイコーエプソン、シャープ、大日本印刷、富士写真フイルム、ソニー、
オプレックス、東芝松下ディスプレイテクノロジー、積水化学、東芝、シチズン時計、凸版印刷、
東レ など

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

----------------------------------------
■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

 会社名:
 所在地:
 部署名:
 氏 名:
 TEL:
 FAX:
 E-mail:

“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)LCD(液晶表示)技術 シリーズ 拡散フィルム 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

拡散フィルム 編
●技術分類 
1.材料、2.製法、3.構造、4.その他

●対象技術 
LCD(液晶表示)に使われる拡散フィルム技術と課題を取り上げます。

●掲載企業 
日立ディスプレイズ、日立ディスプレイデバイセズ、凸版印刷、ソニー、
住友ベークライト、セイコーエプソン、三井化学、三星電子、大日本印刷、住友化学、
シチズン時計、日本ゼオン など

●体裁
 A4判 123頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

----------------------------------------
■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)LCD(液晶表示)技術 シリーズ カラーフィルタ 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

カラーフィルタ 編
●技術分類 
1.材料、2.製法、3.構造、4.その他

●対象技術 
LCD(液晶表示)の表示性能の基本となるカラーフィルタ技術と課題を取り上げます。

●掲載企業 
セイコーエプソン、大日本印刷、三洋電機、凸版印刷、富士写真フイルム、シャープ、日立ディスプレイズ、キャノン、三星電子、三菱化学、東芝松下ディスプレイテクノロジー など

●体裁
 A4判 187頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

----------------------------------------
■申し込み方法
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)LCD(液晶表示)技術 シリーズ LED/OLED光源 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

LED/OLED光源 編
●技術分類
1.信頼性、2.光利用効率、3.光均一性、4.輝度、5.色再現性、6.混色・波長変換、7.その他

●対象技術 
LCD(液晶表示)のネック解消が期待されるLED/OLED光源技術とその課題を取り上げます。

●掲載企業 
河口湖精密、クラレ、カシオ計算機、セイコーエプソン、三洋電機、シャープ、松下電器産業、 日立ディスプレイズ、ソニー、オプレックス、ハリソン東芝ライティング、京セラ、三星電子、NEC 液晶テクノロジーなど

●体裁
 A4判 180頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)有機EL シリーズ 有機ELの透明電極 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして
有用です。

有機ELの透明電極 編
●技術分類
3D、空間光変調(DMD他)、計測・制御、補正、投射角・スクリーン、安全・信頼性、付加機能・複合化、液晶表示装置、その他(小型化、薄型化等)

●対象技術
プロジェクタ技術全般を対象にします。技術の全体像を俯瞰し、イメージを構築するのに役立ちます。

●掲載企業
東芝、セイコーエプソン、カシオ計算機、日立製作所、ブラザー、フジノン、富士写真フイルム、三星電子、リコー、NECビューテクノロジー など

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
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 部署名:
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)有機EL シリーズ 有機ELとインクジェット技術 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして
有用です。

有機ELとインクジェット技術編
●技術分類
インク・塗布材、ヘッド・ノズル、パターニング、均一・表面、均一・撥液処理、大面積・高精細、信頼性・その他

●対象技術
有機EL パネルをインクジェット印刷を用いて製造する技術を中心取り上げます。インクジェット適用のさまざまな技術的工夫がみられます。

●掲載企業
東芝、セイコーエプソン、東芝松下ディスプレイテクノロジー、半導体エネルギー研究所、日立ディスプレイズ 、アベシア・リミテッド など

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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外国人でも日本人でもOK、個性を瞬時に捉える「ブレンドメソッド・行動分析ツール」

 外国人の行動パターンや個性を知ることは、とても難しいことです。

 文化・言語・習慣が異なり、顔つきや態度も日本人と違いますから、そのなかで個性を判断するのは至難の業。長年付き合って初めて、相手が見えてくるものです。

 しかし、海外アウトソーシングや海外事業展開では、数ヶ月でプロジェクトを立ち上げ、短期間で成果を上げることが要求されます。

 この場合、何年もかけて、何度も失敗をしながら相手を知ったのでは、遅すぎるのです。

 そこで役立つのが、外国人でも日本人でもOK、個性を瞬時に捉える「ブレンドメソッド・行動分析ツール」です。
外国人の個性を瞬時につかみ、仕事を円滑化するために非常に有効です。

 このツールは海外事業に長年携わった弊社の経験から開発したもので、本人へのアンケート形式などで実施します。外国人・日本人問わず、個人の行動パターン別に分類することが可能です。
ツールの改善を重ね、国内大手企業の開発業務に携わる日本人材や海外企業の技術者などの約50人を評価したところ、分析された行動パターンが概ね正確であることが実証されています。

以下は、ツール分析による行動パターンの一例です。

【事例1】
 社交的で、好奇心が強く、興味の範囲が広い。見知らぬ人とでもすぐに話をすることができる。前例にとらわれず、権威や規則に左右されない。常に可能性を追求する。・・・

 このタイプに当てはまったA氏(日本人)からのコメント
『自分で自覚している性格にかなりマッチしていると思います』

【事例2】
 帰属意識が高く、献身的によく働く。静かで控えめであり、まとめ役のリーダや上司に誠心誠意尽くす。議論を避け、人と対立するのを嫌い、調子を合わせてうまくやっていこうとする。記憶力がよく、過去のことをよく覚えている。・・・

 このタイプに当てはまったC氏(外国人)の上司からのコメント
"Thank you very much for the analysis report. I think it is quite matched to his characteristic according to my experience. It is helpful for us to plan for his career promotion as well as task/role assignment."

 グローバルブリッジ株式会社は、「ブレンドメソッド・行動分析ツール」を活用し、個人の強みを活かして能力を高め、ビジネスをより効率化するお手伝いをいたします。

お問い合わせは、(株)日本テクノセンター(http://www.j-techno.co.jp) 

または下記へ
グローバルブリッジ株式会社
Tel: 044-989-9630
e-mail: info@globalbridge-inc.com
http://www.globalbridge-inc.com/

真空技術の基礎講座 〜演習付〜

*概要
・真空のつくり方からシステムまでキーポイントを理解して、応用に役立てよう!
・真空技術を理解できずに困っている方にも最適な講座
*日時
2009年 1月 7日 (木) 13:00〜17:00
       1月 8日 (金)  9:30〜16:30

*受講対象
・半導体、ディスプレイ、メモリー、冷凍乾燥、熱処理、蒸着、スパッタリングなど真空に関わっている方。

*予備知識
・特別な専門知識はなくても大丈夫です。

*修得知識
・真空技術の基礎的知識とキーポイントが理解できる。

*講師の言葉
 仕事で真空を扱うことがあるが,いままで真空技術学習をしたことがないので,基礎から勉強したい。これから真空を使う業務に就く予定なので,出版されている書物やウェブサイトなどを調べてみたが難しくてよく理解できなくて困っている。このような方に,本セミナーでは真空技術の基礎的事項をできるだけ分かりやすく解説いたします。
 真空といっても用途がひろいため、適宜、質疑の時間を設け、可能な範囲で受講生の関心に合わせた内容を取り入れます。また、各章ごとに確認問題を取り入れ、理解を深めます

*プログラム
Ⅰ. 真空とはどのようなものだろうか

  1. 真空の定義

  2. 圧力の単位と換算

  3. 真空の領域の分類

  4. 大気の成分と分圧



  確認問題



Ⅱ. 知っておきたい真空技術の基礎知識

  1. 気体の状態方程式

  2. 分子密度と熱運動速度

  3. 平均自由行程

  4. 壁面をたたく気体分子数

  5. 気体の流れとコンダクタンス

  6. 真空排気の考え方

  7. 排気速度と排気時間

  8. 真空装置の到達圧力



  確認問題



Ⅲ. 真空を活用するためのエッセンシャル

  1. 気体の拡散・透過

  2. 気体の粘性

  3. 気体の熱伝導

  4. 温度差があるときの圧力(熱遷移)

  5. 蒸発と蒸気圧

  6. 放出ガスとベーキング



  確認問題



Ⅳ. 真空をつくるには

  1. 真空ポンプの役割と分類

  2. 容積移送式の真空ポンプ

    a. 油回転真空ポンプ

    b. 液封真空ポンプ(水封式ポンプ)

    c. ルーツ真空ポンプ(メカニカルブースターポンプ)

    d. ドライ真空ポンプ

  3. 運動量輸送式の真空ポンプ

    a. エジェクターポンプ

    b. 油拡散ポンプ

    c. ターボ分子ポンプ

  4. 気体ため込み式の真空ポンプ

    a. ソープションポンプ

    b. チタンサブリメーションポンプ

    c. スパッタイオンポンプ

    d. クライオポンプ

  5. 真空ポンプの選び方



  確認問題



Ⅴ. 真空をはかるには

  1. 真空計の原理と分類

  2. 力の平衡を利用した真空計

    a. 液柱差真空計

    b. マクラウド真空計

    c. ブルドン管真空計

    d. ダイアフラム真空計(隔膜真空計)

  3. 気体の輸送現象を利用した真空計

    a. 熱伝導真空計(ピラニ真空計、熱電対真空計)

    b. 粘性真空計(スピニングロータ真空計)

  4. 気体の電離現象を利用した真空計

    a. 熱陰極電離真空計(三極管型)

    b. 熱陰極電離真空計(B−A型)

    c. 熱陰極電離真空計(シュルツゲージ)

    d. 冷陰極電離真空計(ペニング真空計)

    e. 測定子の取り付け方

  5. 真空計の選び方



  確認問題



Ⅵ. 真空システムのしくみ

  1. 真空排気システムの構成

  2. 真空用材料

    a. 金属材料

    b. 非金属材料

  3. 真空用部品

    a. 真空槽

    b. フランジ

    c. バルブ

    d. 真空導入端子

    e. ビューイングポート

    f. 固定シール

    g. 運動シール

  4. 真空排気システムの実際

    a. 低・中真空排気システム

    b. 高・超高真空排気システム

  5. 真空システムのリークの探し方と止め方

    a. 真空法

    b. 加圧法

    c. リークの止め方



  確認問題

*受講料
1名:65,100円
同時複数申し込みの場合1名:59,850円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



真空技術の基礎講座 〜演習付〜

失敗しないソフトウェア開発見積り手法 〜演習付〜

*概要
正確な見積り手法を身につけ、利益とコストを確実なものにしよう!

*日時
2009年 1月20日 (水) 13:00〜17:00
       1月21日 (木)  9:30〜16:30

*予備知識
・ソフトウェア開発に関する常識的な知識のみ

*修得知識
・定量化技術の実践的な考え方と取り組み方、さらには、現場で活用できるプロジェクトデータ収集方法やコスト算出の手順をマスターすることができます

*講師の言葉
 ユーザ企業(発注者サイド)にとってシステム開発への投資は適正と言えるでしょうか?システム開発企業(開発者サイド)にとってシステム開発のコストは妥当と言えるでしょうか? テクノロジーの進歩とともに、新しい開発プロセスや定量化手法も提案されてきています。見積り手法はソフトウェアエンジニアリング領域の一つの重要な技術です。プロジェクトの成功の秘訣は見積りにあると言っても過言ではありません。

 本セミナーでは、まず、現状でのソフトウェア受発注、プロジェクト推進上の課題を整理するとともに、定量化技術や開発プロセス等の技術動向を概観します。特に、いくつかの標準的な定量化技術、投資・コスト分析技術を組み合わせた実践的な手法について紹介し、演習・例題を交えた形でわかりやすく解説いたします。営業段階から詳細見積りに至るさまざまな場面を想定して、ポイントを説明いたします。参加いただいた方々のプロジェクトに取り組む意識改革を促進し、モチベーションを高めることができるでしょう。

*プログラム
Ⅰ. 見積りとは何か?

  1. 見積りの失敗=プロジェクトの失敗

  2. ソフトウェアづくりはなぜ難しいのか?

  3. 予想から予測へ



Ⅱ. 客観的な論拠を持つ見積り手法の必要性

  1. ソフトウェアのコスト構造

  2. ユーザ/ベンダの受発注時の見積り

  3. 見積り手法の種類



Ⅲ. 価値を起点としたソフトウェア開発

  1. 人月からの脱却

  2. ソフトウェアと経済学

  3. 不確実性への対応



Ⅳ.規模・工数・開発期間・コストの見積り手法の概要

  1.見積りの基本的な手順

  2.規模の見積り手法

  3.工数の見積り手法

  4.開発期間の見積り手法

  5.コストの見積り手法



Ⅴ.ファンクションポイント

  1.ファンクションポイントの概要と歴史

  2.計測の準備(見積モデリング)

  3.計測の手順



Ⅵ.COCOMO(COnstructive COst MOdel)

  1.COCOMOの概要と歴史

  2.モデル式の基本的な考え方

  3.基本式:規模、工数、開発期間

  4.規模要因、コストドライバ:プロダクトの性質、環境、人員、プロジェクトの性質等



Ⅶ.まとめと討論

  1.見積り手法の実務適用のポイント

  2.これからのソフトウェア開発プロジェクトマネジメントと見積り

※グループによるPC実習を行います。

*受講料
1名:65,100円
同時複数申し込みの場合1名:59,850円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



失敗しないソフトウェア開発見積り手法 〜演習付〜

失敗しないソフトウェア開発見積り手法 〜演習付〜

*概要
正確な見積り手法を身につけ、利益とコストを確実なものにしよう!

*日時
2009年 1月20日 (月) 13:00〜17:00
      1月21日 (火)  9:30〜16:30

*予備知識
・ソフトウェア開発に関する常識的な知識のみ。

*修得知識
・定量化技術の実践的な考え方と取り組み方、さらには、現場で活用できるプロジェクトデータ収集方法やコスト算出の手順をマスターすることができます。

*講師の言葉
 ユーザ企業(発注者サイド)にとってシステム開発への投資は適正と言えるでしょうか?システム開発企業(開発者サイド)にとってシステム開発のコストは妥当と言えるでしょうか? テクノロジーの進歩とともに、新しい開発プロセスや定量化手法も提案されてきています。見積り手法はソフトウェアエンジニアリング領域の一つの重要な技術です。プロジェクトの成功の秘訣は見積りにあると言っても過言ではありません。

 本セミナーでは、まず、現状でのソフトウェア受発注、プロジェクト推進上の課題を整理するとともに、定量化技術や開発プロセス等の技術動向を概観します。特に、いくつかの標準的な定量化技術、投資・コスト分析技術を組み合わせた実践的な手法について紹介し、演習・例題を交えた形でわかりやすく解説いたします。営業段階から詳細見積りに至るさまざまな場面を想定して、ポイントを説明いたします。参加いただいた方々のプロジェクトに取り組む意識改革を促進し、モチベーションを高めることができるでしょう。

*プログラム
Ⅰ. 見積りとは何か?

  1. 見積りの失敗=プロジェクトの失敗

  2. ソフトウェアづくりはなぜ難しいのか?

  3. 予想から予測へ



Ⅱ. 客観的な論拠を持つ見積り手法の必要性

  1. ソフトウェアのコスト構造

  2. ユーザ/ベンダの受発注時の見積り

  3. 見積り手法の種類



Ⅲ. 価値を起点としたソフトウェア開発

  1. 人月からの脱却

  2. ソフトウェアと経済学

  3. 不確実性への対応



Ⅳ. 規模とコスト予測

  1. 規模の予測

  2. 工数の予測

  3. コストの予測



Ⅴ. ファンクションポイント

  1. ファンクションポイントの概要

  2. 計測の考え方

  3. 計測の手順



Ⅵ. COCOMO(COnstructive COst MOdel)

  1. COCOMOの概要と系譜

  2. モデル式の考え方

  3. コストドライバ:プロダクトの性質、環境、人員、プロジェクトの性質等

  4. 実務適用のポイント



Ⅶ. まとめ

  1. 市場価値、外部価値、開発コストの3つの視点

  2. 調達の透明性、経済合理性確保の取組み

  3. これからのソフトウェア開発プロジェクト

*受講料
1名:65,100円
同時複数申し込みの場合1名:59,850円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



失敗しないソフトウェア開発見積り手法 〜演習付〜

蒸留プロセスの基礎 -原理・操作特性・測定・評価・実際-(共催セミナー)

*概要
蒸留塔設計や運転条件決定の基礎となる気液平衡
蒸留プロセスの基礎 -原理,設計,特性-
最近の蒸留塔のインターナルの紹介とその適応例

*講 師
日本大学 生産工学部 応用分子化学科 教授 日秋 俊彦 氏
名古屋工業大学 大学院工学研究科 物質工学専攻 教授 森 秀樹 氏
スルザーケムテックジャパン  部長 亘理 和夫 氏

*会 場
IT・レンタルルーム@秋葉原 会議室 【東京・千代田区】

*日 時
平成21年11月9日(月) 10:00-16:00

*定 員
25名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき49,980円(税込、昼食、資料付き)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容


第1部 蒸留塔設計や運転条件決定の基礎となる気液平衡
     -データの評価と測定-
講師:日本大学 日秋 俊彦 氏    


【講座趣旨】


 蒸留塔の設計や運転に不可欠な気液平衡データは,同じ系,同じ測定条件でも測定者間に相違が見られることはしばしばある。また,グループ溶液モデルなどに基づく推算結果が実測データと著しく異なる場合や共沸点の有無まで違う場合もある。本講演では,気液平衡関係の熱力学的な意味を示し,データが正しいかどうかを見分ける方法について具体的に示す。また,実測データが無い場合はどのように測定するのかについても解説する。


【プログラム】
1.気液平衡の基礎知識
    1.1 理想溶液と実在溶液の気液平衡関係
    1.2 活量係数モデル,グループ溶液モデル


2.気液平衡データの評価法
    2.1 簡単にできる熱力学的健全性テスト法
    2.2 評価の実例


3.気液平衡の測定法
    3.1 定圧気液平衡測定装置と測定法(10気圧以下)
    3.2 高圧気液平衡測定装置と測定法(120気圧以下)

【質疑応答・名刺交換】


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第2部 蒸留プロセスの基礎 -原理,設計,特性-
講師:名古屋工業大学 森 秀樹 氏    


【講座趣旨】


 分離操作として蒸留プロセスの適用を検討する際に必要となる蒸留の原理・特徴,蒸留塔設計を行う際の問題設定,運転条件を変えた場合の蒸留プロセスの操作特性について数値計算例を交えて概説する。


【プログラム】
1.蒸留プロセスの原理
    1.1 気液平衡と分離の原理
    1.2 気液平衡と分離の限界


2.蒸留プロセスの設計
    2.1 設計型問題と操作型問題
    2.2 設計型問題の設定
    2.3 簡略設計計算(Underwood-Fenske-Gillilandの方法)
    2.4  数値計算法の概略


3.蒸留プロセスの操作特性
    3.1 理論段数と還流比
    3.2 物質収支

【質疑応答・名刺交換】


--------------------------------------------------------------------------------

第3部 最近の蒸留塔のインターナル(規則充填物、不規則充填物及びトレイ)の紹介とその適応例 (ハイドロダイナミックス実演含む)
講師:スルザーケムテックジャパン 亘理 和夫 氏    


【講座趣旨】
 この数年蒸留塔のインターナルは各社新商品を発表してきた。その歴史と流れをまとめ代表的な商品を紹介しどのような形式を採用すればよいかをアドバイスする。
 また基本的なハイドロダイナミックスの実演も実施する。蒸留工学に携わる初心者にも判り易いように説明し最近の適応例も紹介し省エネルギー化の参考になることを期待している。


【プログラム】
1.蒸留塔設計の基本的な考え方


2.インターナルの歴史、流れ


3.規則充填物


4.不規則充填物


5.トレイ


6.その適応例



【質疑応答・名刺交換】

* 主催:株式会社R&D支援センター


蒸留プロセスの基礎 -原理・操作特性・測定・評価・実際-(共催セミナー)

ジャイロセンサ・慣性センサの基礎と応用・例 〜デモ付〜

*概要
・速度・位置情報を効果的に使うための講座 
・MEMSジャイロの活用技術を修得し、応用を急げ!

*日時
 2010年 1月 15日(金) 10:00〜17:00

*予備知識
・専門的な予備知識は必要としませんが、具体的に、慣性センサの用途に関心のある方を望みます

*修得知識
・多様化するジャイロニーズに答える高いセンサ技術(姿勢・方位・位置)について、耐久性、信頼性に優れ、高精度を維持する、ために必要な問題点解決ができる技術習得を目指し、実機によるデモを交えてわかりやすく詳解致します。

*講師の言葉
 近年MEMS技術による加速度計、ジャイロなどの慣性センサが数多く開発され、幅広い分野でその応用が始まろうとしています。加速度・角速度を直接使う方法から、演算された速度・位置情報を使う方法など使い方はさまざまですが、それらの理論は慣性空間を意識する必要があります。 この講座では、今後のMEMS慣性センサの使い方の一助とする為に、旧来の各種慣性センサの理論とその応用例を示し、また使い方の実演を行い理解を深めていただきます。

*プログラム
Ⅰ.慣性センサとは(角速度と加速度)
  1.角速度センサとジャイロ、精度と応用
  2.加速度センサ、精度と応用


Ⅱ.ジャイロと加速度計

  1.機械式ジャイロ
  2.ガスレートセンサ
  3.光ファイバージャイロ
  4.リングレーザージャイロ
  5.MEMSジャイロ
  6.電磁式加速度計
  7.MEMS加速度計


Ⅲ.MEMS Based IMU実演


Ⅳ.姿勢・方位・位置検出

  1.自転と公転
  2.重力
  3.位置検出の理論

Ⅴ.慣性演算

  1.ストラップダウン演算                   
  2.方位検出演算


Ⅵ.複合演算とカルマンフィルタ

  1.各種複合演算
  2.カルマンフィルタ


Ⅶ.慣性センサ応用例

  1.測量・方位検出・埋設管路計測
  2.小型航空機・無人搬送車
  3.人ナビゲーション


Ⅷ. MEMS慣性センサ

  1.MEMSジャイロの構造・原理・特徴
  2.MEMS加速度計の構造・原理・特徴


Ⅸ.車載ジャイロの動向

  1. 横滑り装置
  2.カーナビゲーション


Ⅹ.サーボシステムへの応用

  1. びびり検出・撓み検出                
  2. ポジショニングと精密ナビゲーション


ⅩⅠ.今後の慣性センサと応用の行方

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                 同時複数申し込みの場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666

ジャイロセンサ・慣性センサの基礎と応用・例 〜デモ付〜

研究開発・企画者に必要なマーケティング技術と活用方法 〜演習付〜

*概要
・成功するための実践的方法が修得できる講座 
・見えないマーケットニーズを明確にし、新事業につなげる手法の解説と演習の特別講座!

*日時
 2010年 1月  15日(金)10:00〜17:00  

*受講対象
・製造業における大企業から中小企業の研究開発と企画を中心とする技術者を対象にしています。特に企業のなかで、新規事業や新商品開発を考えている人で事業化テーマを明確にしたいときのマーケテングについて興味と情熱を持っている、または実践している研究者、開発者、企画担当者、新事業担当の方々。さらに弁理士、会計士、弁護士、技術士、中小企業診断士などの専門家などで、新規事業の技術マーケテングのサポートやコンサルをめざしている方など。

*修得知識
・研究・開発者、企画者が研究開発と新規事業の技術マーケテングによる紐付けの実践が可能となる。また大企業、中小企業、ベンチャー企業などの技術系経営者が新規事業のためテーマ・マーケテングとロードマップ、ビジネスプランへのつなぎと実践の勘所が理解でる。またこれまで、営業でのマーケテングが実際の研究開発とつながらない場合には、その理由がわかり、対策が打てる。

*講師の言葉
 製造業における新規事業にかかわるマーケティングの基本的考え方からはじまり、成功するための実践的な方法論について述べていきます。
 特に、マーケティングをおこなった経験のない技術者でもわかりやすく、そのミッションからはじまり、顧客候補の選び方、その中で必要な技術を機能やベネフィットに置き換えたり、見えないマーケットを定量化することを学びます。
 かつて技術者(研究・開発・事業化担当者)であった自らの経験をMOTの体系とともにマーケテングのノウハウとともにすべて伝授し使えるように解説し、ケーススタデイや演習も混ぜながら実践力を取得することを目標にします。

*プログラム
はじめに:新事業につながるマーケテングと自己紹介

Ⅰ.いまなぜ、技術者のためのマーケティングか

   1.マーケティングの基本コンセプト
   2.マーケティングの実際の流れ


Ⅱ.成功するためのマーケティング(1):その基礎と意義・・・カテゴリー(領域)とキャズム

   1.マーケティング戦略とは:仕様からベネフィットの転換
   2.技術とマーケットの対話と関係
   3.開発マーケテングの実際
   4.MBAとMOTのマーケティング
   5.マーケットの分類(カテゴリー、ニッチの意味)


Ⅲ 成功するためのマーケティング(2):マーケティング戦略・・・ベネフィットと対話

   1.技術の商品・事業化のためのマーケットの確実性と価値評価
   2.存在しないマーケットの推定方法例(フェルミ推定など)
   3.商品開発のリスクヘッジの考えかた
   (演習1)


Ⅳ.成功するためのマーケティング(3)見えないマーケットの予測・・・フェルミ推定の活用

   1.技術の商品・事業化のためのマーケットの確実性と価値評価
   2.存在しないマーケットの推定方法例(フェルミ推定など)
   3.マーケットのサイジング問題の解決方法
   (演習2)


Ⅴ.リスクマネジメント:商品開発のリスクヘッジをいかに考えるか


おわりに:日本のマーケットの特徴、すべての成功はマーケティングから


*受講料(消費税等込)
1名:47,250円              同時複数申込の場合1名:42,000円 

*会場
弊社研修室(東京・西新宿)


研究開発・企画者に必要なマーケティング技術と活用方法 〜演習付〜

ハイブリッド車用フルデジタル制御DC-DCコンバータの開発と応用

*概要
・デジタル制御を事例とともに学び、バグ=故障(破壊)となる電源制御の難しさを克服しよう。
・スイッチング電源を扱っている方にも役立つ講座。
*日時
2009年 11月 6日 (金) 10:00〜17:00

*受講対象
・スイッチング電源のユーザーの方
・アナログ制御関係者
・電源開発関係者

*修得知識
・デジタル制御電源の基本概念
・デジタル制御電源の具体的な適用事例
・デジタル制御電源の設計の学び方・進め方
・車載用製品設計の基本概念

*講師の言葉
 音楽、映像がデジタル化されて久しくなります。アナログ制御の最後の砦とも言える電源の制御にもデジタル化の波がやってきています。設計者がリアルタイム制御の難しさ、バグ=故障(破壊)となる電源制御の難しさを克服し、製品化をする為に何に注意し、実施すべきなのか、その観点をお伝えいたします。
 その上で、車載製品への適用についても触れたいと思います。また、電源のユーザーの方には、デジタル制御電源の今後の可能性についてお伝えいたします。

*プログラム
Ⅰ.概要説明



Ⅱ.新電元におけるデジタル制御電源の製品化

  1.開発の歴史

  2.車載電源の製品化



Ⅲ.デジタル制御とは(デジタル制御にもいろいろ)

  1.デジタル制御の利点

    a.電源の主回路方式

    b.経年変化

    c.時間管理

    d.省エネルギーへの寄与(CO2削減)

    e.高機能化・安全性他

    f.コスト

    g.その他

  2.デジタル制御の欠点

    a.現時点でのデジタル制御の適用範囲

    b.アナログ技術者とデジタル技術者

    c.プログラム開発について



Ⅳ.なぜDSP?(CPUとDSP)

  1.DSPとCPU

  2.DSPの種類(DSPにもいろいろ)

  3.新電元・新日本無線・DSP応用技術研究所コラボDSP

    a.Alligator Catfishについて

    b.なぜ国産DSP?(車載における部品事情)



Ⅴ.DSPの使用方法を学ぶために

  1.DSPには使い方がある

  2.DSP応用技術研究所について



Ⅵ.制御について

  古典制御理論(PID制御)?現代制御理論?



Ⅶ.デジタル制御の実際

  1.プログラムはシンプルに

  2.高機能化について

  3.機能・応答性等の実際



Ⅷ.デジタル制御の(車載)電源への適用

  1.ハイブリッド車における電源の役割

  2.DSPを使った車載用デジタル制御電源のシステム

  3.車載に求められる性能(環境性)

  4.ノイズに対する対策

    a.放射・伝導

    b.ノイズイミュニティに対する対策

    c.静電気・電波照射・ノイズ注入等



Ⅸ.信頼性・品質の向上

  1.一般民生用と車載用は何が違う?

  2.開発体制

  3.部品について

  4.設計について

  5.製造について



Ⅹ.デジタル制御電源の可能性について

*会場
弊社研修室 (西新宿)

*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円


ハイブリッド車用フルデジタル制御DC-DCコンバータの開発と応用

ハイブリッド車用フルデジタル制御DC-DCコンバータの開発と応用

*概要
デジタル制御を事例とともに学び、バグ=故障(破壊)となる電源制御の難しさを克服しよう。
*日時
2009年 11月 6日 (金) 10:00〜17:00

*受講対象
・スイッチング電源のユーザーの方
・アナログ制御関係者
・電源開発関係者

*修得知識
・デジタル制御電源の基本概念
・デジタル制御電源の具体的な適用事例
・デジタル制御電源の設計の学び方・進め方
・車載用製品設計の基本概念

*講師の言葉
 音楽、映像がデジタル化されて久しくなります。アナログ制御の最後の砦とも言える電源の制御にもデジタル化の波がやってきています。設計者がリアルタイム制御の難しさ、バグ=故障(破壊)となる電源制御の難しさを克服し、製品化をする為に何に注意し、実施すべきなのか、その観点をお伝えいたします。
 その上で、車載製品への適用についても触れたいと思います。また、電源のユーザーの方には、デジタル制御電源の今後の可能性についてお伝えいたします。

*プログラム
Ⅰ.概要説明



Ⅱ.新電元におけるデジタル制御電源の製品化

  1.開発の歴史

  2.車載電源の製品化



Ⅲ.デジタル制御とは(デジタル制御にもいろいろ)

  1.デジタル制御の利点

    a.電源の主回路方式

    b.経年変化

    c.時間管理

    d.省エネルギーへの寄与(CO2削減)

    e.高機能化・安全性他

    f.コスト

    g.その他

  2.デジタル制御の欠点

    a.現時点でのデジタル制御の適用範囲

    b.アナログ技術者とデジタル技術者

    c.プログラム開発について



Ⅳ.なぜDSP?(CPUとDSP)

  1.DSPとCPU

  2.DSPの種類(DSPにもいろいろ)

  3.新電元・新日本無線・DSP応用技術研究所コラボDSP

    a.Alligator Catfishについて

    b.なぜ国産DSP?(車載における部品事情)



Ⅴ.DSPの使用方法を学ぶために

  1.DSPには使い方がある

  2.DSP応用技術研究所について



Ⅵ.制御について

  古典制御理論(PID制御)?現代制御理論?



Ⅶ.デジタル制御の実際

  1.プログラムはシンプルに

  2.高機能化について

  3.機能・応答性等の実際



Ⅷ.デジタル制御の(車載)電源への適用

  1.ハイブリッド車における電源の役割

  2.DSPを使った車載用デジタル制御電源のシステム

  3.車載に求められる性能(環境性)

  4.ノイズに対する対策

    a.放射・伝導

    b.ノイズイミュニティに対する対策

    c.静電気・電波照射・ノイズ注入等



Ⅸ.信頼性・品質の向上

  1.一般民生用と車載用は何が違う?

  2.開発体制

  3.部品について

  4.設計について

  5.製造について



Ⅹ.デジタル制御電源の可能性について

*会場
弊社研修室 (西新宿)

*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円


ハイブリッド車用フルデジタル制御DC-DCコンバータの開発と応用

ハイブリッド車用フルデジタル制御DC-DCコンバータの開発と応用

*概要
デジタル制御を事例とともに学び、恐ろしい結果を引き起こすバグ=故障を防ごう

*日時
2009年 11月 6日 (金) 10:00〜17:00

*受講対象
・スイッチング電源のユーザーの方
・アナログ制御関係者
・電源開発関係者

*修得知識
・デジタル制御電源の基本概念
・デジタル制御電源の具体的な適用事例
・デジタル制御電源の設計の学び方・進め方
・車載用製品設計の基本概念

*講師の言葉
 音楽、映像がデジタル化されて久しくなります。アナログ制御の最後の砦とも言える電源の制御にもデジタル化の波がやってきています。設計者がリアルタイム制御の難しさ、バグ=故障(破壊)となる電源制御の難しさを克服し、製品化をする為に何に注意し、実施すべきなのか、その観点をお伝えいたします。
 その上で、車載製品への適用についても触れたいと思います。また、電源のユーザーの方には、デジタル制御電源の今後の可能性についてお伝えいたします。

*プログラム
Ⅰ.概要説明



Ⅱ.新電元におけるデジタル制御電源の製品化

  1.開発の歴史

  2.車載電源の製品化



Ⅲ.デジタル制御とは(デジタル制御にもいろいろ)

  1.デジタル制御の利点

    a.電源の主回路方式

    b.経年変化

    c.時間管理

    d.省エネルギーへの寄与(CO2削減)

    e.高機能化・安全性他

    f.コスト

    g.その他

  2.デジタル制御の欠点

    a.現時点でのデジタル制御の適用範囲

    b.アナログ技術者とデジタル技術者

    c.プログラム開発について



Ⅳ.なぜDSP?(CPUとDSP)

  1.DSPとCPU

  2.DSPの種類(DSPにもいろいろ)

  3.新電元・新日本無線・DSP応用技術研究所コラボDSP

    a.Alligator Catfishについて

    b.なぜ国産DSP?(車載における部品事情)



Ⅴ.DSPの使用方法を学ぶために

  1.DSPには使い方がある

  2.DSP応用技術研究所について



Ⅵ.制御について

  古典制御理論(PID制御)?現代制御理論?



Ⅶ.デジタル制御の実際

  1.プログラムはシンプルに

  2.高機能化について

  3.機能・応答性等の実際



Ⅷ.デジタル制御の(車載)電源への適用

  1.ハイブリッド車における電源の役割

  2.DSPを使った車載用デジタル制御電源のシステム

  3.車載に求められる性能(環境性)

  4.ノイズに対する対策

    a.放射・伝導

    b.ノイズイミュニティに対する対策

    c.静電気・電波照射・ノイズ注入等



Ⅸ.信頼性・品質の向上

  1.一般民生用と車載用は何が違う?

  2.開発体制

  3.部品について

  4.設計について

  5.製造について



Ⅹ.デジタル制御電源の可能性について

*会場
弊社研修室 (西新宿)

*受講料
1名:47,250円
同時複数申し込みの場合1名:42,000円


ハイブリッド車用フルデジタル制御DC-DCコンバータの開発と応用

機能性薄膜の開発とその応用 〜デモ付〜

*概要
 ・ウェットプロセスナノ製膜法による機能性薄膜の開発
 ・従来の真空薄膜製造技術の100分の1のコストで可能という大幅なコストダウンができる成膜技術を修得し、応用を急げ!

*日時
  2010年 1月  14日(木) 10:00〜17:00 

*受講対象
・製品開発、基礎技術開発に携わる研究者。ウェットプロセス薄膜製造技術に関心のある方

*予備知識
・初心でも丁寧にご紹介します。

*修得知識
・交互吸着法の原理やその応用について修得できる。ウェットプロセスナノ薄膜の将来性について理解できる。

*講師の言葉
 省エネ、環境保全、エコ重視の新規薄膜技術をご紹介します。
 新世代薄膜製造技術「交互吸着法」は、水を用いた安心・安全なウェットプロセスナノコーティングです。 弊社SNTでは、この製膜技術を原理としたナノフィルムメーカー(Nano Film Maker) を開発し、販売しております。常温・常圧でナノスケールの精度を維持してコーティングできるので、大面積の薄膜作製を可能にします。また、ロールtoロールの製造方法、装置に関して特許を取得しております。
 ナノフィルムメーカーは、様々な機能性薄膜の開発を支援するツールです。透明導電膜や反射防止膜、防曇膜、光フィルタなど機能性薄膜を、従来の真空薄膜製造技術の100分の1のコストでの実現が期待されています。
 交互吸着法は、経済産業省作成の技術戦略ロードマップの2009年版で初めて記載された全く新しい薄膜製造技術です。ただ浸けるだけなのに、ナノオーダーで膜厚制御できる技術とその応用例を御紹介します。

*プログラム
Ⅰ.機能性薄膜のニーズ



Ⅱ.交互吸着膜とは

   1.交互吸着法による多層膜の形成の原理
   2.交互吸着膜製造装置「ナノフィルムメーカー」とは(実演あり)
   3.産業化を目指した製膜方法について




Ⅲ.撥水・親水性コントロール

   1.超撥水膜への応用
   2.超親水膜への応用




Ⅳ.エネルギー、エレクトロニクスデバイスへの応用

   1.燃料電池への応用
   2.太陽電池電極への応用
   3.透明導電膜への応用




Ⅴ.オプティカルデバイスへの応用

   1.反射防止膜(AR)への応用




Ⅵ.センサ感応膜への応用




Ⅶ.各種素材への交互吸着膜の作製

   1.繊維基材への製膜
   2.微粒子素材への製膜



まとめ
(質疑応答、デモなど随時行います。)

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円               同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



機能性薄膜の開発とその応用 〜デモ付〜

有機電解合成の基礎と有機電子材料・電池材料開発、医農薬への応用・例

*概要
・フッ素をキーエレメントとする有機電解合成
・グリーンケミストリーとして最も有望な有機電解合成法を修得し、応用を急げ!

*日時
 2010年 1月  12日(火)10:00〜17:00 

*受講対象
・医薬品メーカー、農薬メーカー、化学工業関連企業
・電気化学関連企業(有機電子材料、電池、キャパシタ)

*予備知識
・有機化学、材料化学

*修得知識
・有機化合物の電解合成
・有機化合物を対象とした電気化学、
・イオン液体の基礎と応用、
・有機フッ素化学・選択的フッ素化法、
・導電性高分子の基礎と応用

*講師の言葉
 有機電解合成は有害な酸化還元剤を用いない有機合成プロセスであり、BASF社は有機電解合成はグリーンケミストリーとして最も有望であると宣言している。
 一方、有機フッ素化合物は今日、先端医療や電子材料・電池開発に必要不可欠となっている。
 本講習会では初心者など誰にでも理解できるように有機電解合成の基礎と実際について平易に解説し、ついで医農薬、有機電子材料、さらには電池材料、ナノ材料合成など多様な応用例について説明する。
 受講者が理解しやすいように、有機フッ素化学、イオン液体、導電性ポリマーなどの基礎についても解説し、一日で最新のフッ素を鍵元素とする有機電解合成の手法が習得できるように配慮した。

*プログラム
Ⅰ.有機電解合成の基礎・実験方法
   1.有機電解合成のイントロ
   2.電解装置と実験方法


Ⅱ.有機電解反応の基礎


Ⅲ.有機電解合成各論

   1. 炭化水素化合物
   2. 有機窒素、酸素、硫黄化合物
   3. 複素環化合物
   4. 有機金属化合物・ポリシラン
   5. 生理活性天然物


Ⅳ.特殊反応場での電解合成

   1. 特殊反応場について
   2. イオン液体での有機電解合成
   3. 超臨界流体中での有機電解合成
   4. 相溶性二相有機電解合成
   5. 水系/微粒子分散系有機電解合成
   6. 超音波照射下での有機電解合成
   7. ナノエマルション系有機電解合成


Ⅴ.有機フッ素化合物の電解合成

   1. 有機フッ素化学の基礎と応用
   2. 有機フッ素化合物の電気化学的分子変換
   3. 有機溶媒中での電解フッ素化
   4. イオン液体中での電解フッ素化
   5. イオン液体中での化学的フッ素化


Ⅵ.電解重合による導電性ポリマーの合成

   1. 導電性ポリマーの基礎と表示材料・電池材料への応用
   2. イオン液体中での高伝導性・高容量導電性ポリマーの電解合成
   3. 有機溶媒を使用しない水系での導電性ポリマーの電解合成


Ⅶ.新しい電解システム

   1. 電流効率200%を目指す両極電解合成
   2. カチオンプール法とその合成的応用
   3. 特殊電極材料による有機電解合成
      a. ダイヤモンド電極
      b. 疎水性電極
   4. 高分子電解反応ー導電性高分子の電解フッ素化
   5. マイクロリアクター
   6. 薄相型電解槽


Ⅷ.工業化の例と将来展望

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円                  同時複数申込の場合1名:42,000円 

*会場
宮崎県東京ビル (四ツ谷) 1階 会議室
JR総武線、東京メトロ南北線、有楽町線 市ヶ谷駅より徒歩5分
住所: 102-0074 東京都九段南4-8-2
電話番号: 03-3263-5756


有機電解合成の基礎と有機電子材料・電池材料開発、医農薬への応用・例

リチウムイオン電池の高機能化・高変換率と安全性向上

*概要
 ・飛躍的に電池性能を向上させるための講座
 ・安心、安全な高性能大型電池・産業機器、車両用を含め電気自動車やハイブリッド車の応用展開に不可欠な知識、技術を修得し、更なる高エネルギー密度化、高出力化に活かそう!

*日時
 2010年 1月 7日(木) 13:00〜17:00
           8日(金)  9:30〜16:30 

*プログラム
Ⅰ.かつて解決してきた課題
  1.ガルバーニ電池
  2.ボルタ電堆と直列つなぎ
  3.減極剤(酸化剤)と正極活物質
  4.固体活物質と集電体の機能分離
  5.バインダーとペースト式電極
  6.ダニエル電池とセパレータ
  7.ルクランシェ電池とガスナー電池
  8.水の分解電圧と有機電解液の電位窓
  9.二次電池の充電過程における負極活物質の析出
 10.リチウムイオン二次電池の構造


Ⅱ.リチウムイオン二次電池の構成材料の機能

  1.電池とキャパシタ
  2.電池の起電力と内部抵抗
  3.充放電時の電位プロファイル
  4.高速充放電と律速過程
  5.電極構造と電流経路
  6.活物質と電極電位
  7.電解液のイオン輸送と電子絶縁性
  8.炭素導電助材の電子輸送
  9.正極集電体の不働態化皮膜と耐食性
 10.バインダーの存在と機能
 11.過電圧に伴う副反応の進行        
 12.充放電に伴う形状変化と内部抵抗の上昇


Ⅲ.電池性能と材料物性および界面特性の関係

  1.電極中のバルクと界面
  2.集電体金属中の電子伝導
  3.バルク物性としての電子伝導とイオン伝導
  4.界面におけるオーミック接触とショットキー接触
  5.不定比化合物半導体とノンストイキオメトリー
  6.粒子形態に伴う電流集中の効果
  7.バルクの導電率、界面の接触抵抗、デバイスの内部抵抗
  8.集電体と導電助材の接触抵抗
  9.静電容量と表面積、内部抵抗と断面積
 10.集電体の表面処理の効果
 11.導電助材の表面処理による効果
12.溶媒分子吸着に伴う活物質の導電率変化


Ⅳ.電極スラリー調整と塗布・乾燥・プレス、電池の高速充放電化

  1.コンポジット電極と活物質
  2.活物質単独での評価方法
  3.スラリー調整のための界面活性剤(分散剤)による電位窓の変化
  4.分散系バインダーと溶剤系バインダーによる内部抵抗の違い
  5.乾燥過程における活物質粒子による凝集の違い
  6.活物質表面への溶媒吸着による粒子間密着性低下
  7.活物質・炭素表面の極性・非極性の評価
  8.活物質へのバインダー被覆と電池性能   
  9.導電助材へのバインダー被覆と電池性能
 10.プレスが電池性能へ及ぼす効果
 11.インピーダンス測定による評価と解釈
 12.バッテリーマネージメントと高速充放電の安全性


Ⅴ. リチウム電池の現状

  1.リチウム電池を取り巻く環境
  2.全固体化への期待


Ⅵ.無機固体電解質電池について

  1.無機固体電解質リチウム電池の特徴
  2.リチウムイオン伝導性無機固体電解質


Ⅶ.無機固体電解質リチウム電池の高性能化
  1.無機固体電解質リチウム電池の高エネルギー密度化
   a.電極活物質と固体電解質の適合性
   b.固体電解質を用いた電池設計
  2.無機固体電解質リチウム電池の高出力化
   a.界面イオン伝導現象(ナノイオニクス)
   b.緩衝層介在による電極抵抗の低減

*受講対象
・リチウムイオン二次電池の研究開発に携わる方々全般

*予備知識
・高校理系の知識

*修得知識
・電池の基礎的理解、電極の構造と部材の役割、製造プロセスと電池性能の関係
・全固体リチウム電池の現状と高出力・高性能化、高安全性について
・安全性の課題を抜本的に解決するための指標

*講義のポイント
 リチウムイオン二次電池に使われる電解液、活物質、導電助材、結着材、集電体など構成材料とそれらの界面が電極でどのように電流経路を制御しているのか基礎的な概念について概説し、特に正極に焦点をあてて、合材スラリーの調整から乾燥までの製造プロセスの視点から詳解し、電池性能向上に必要な構成材料、特性向上、高速充放電の安全性向上まで詳解する。
 次に固体電解質を用いた全固体化は電気化学素子の信頼性向上に有効である上、リチウム電池においては安全性の課題を抜本的に解決するものとして大きな期待が寄せられているが、固体電解質の使用はこれまで出力性能などの低下を引き起こすものでもあった。講演では、この課題の解決のため,全固体リチウム電池の高エネルギー密度化、高出力化に取り組んだ研究について解説します。

*受講料(消費税等込)
1名:65,100円                  同時複数申し込みの場合1名:59,850円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666



リチウムイオン電池の高機能化・高変換率と安全性向上

使いやすいモノづくりのための設計法と評価法

*概要
・人間の特性に基づいた使いやすいモノづくりのための設計法
・使いやすく快適で長く人に愛されるための製品づくりに不可欠なノウハウを修得するための特別セミナー!

*日時
 2010年 1月  8日(金) 10:00〜17:00 

*受講対象
・人間中心のモノづくり,ユニバーサルデザイン、安全設計などに関わる技術者、デザイナー、開発担当者など

*修得知識
・人間中心のモノづくりを実践するためのプロセス、人間特性の調査・測定手法、人間特性データの正しい解釈と適用の方法、ユニバーサルデザインをめぐる動向、他

*講師の言葉
 高齢社会の広がりやユニバーサルデザイン思想の浸透、そして安全安心に対する意識の高まりを背景に、使いやすく快適で健康的なモノづくりが求められつつあります。それを進めるためには、人間自身の寸法、動態、感覚、認知、行動などの特性を明らかにしながら、それに合わせた設計値を得ることがその出発点となります。
 では、そうした生理的心理的特性を表す人間のデータをどのように設計値に落とし込めばよいでしょうか。そしてデザインされたモノの使いやすさをどのように客観的に検証すればよいでしょうか。すでに存在する人間データは翻訳をしなければ使いやすい設計にはなりません。製品の使いやすさを操作性テストや生理計測で証明しようとしてもなかなか思い通りにはいきません。そこには、人間特有の適応能や耐ストレス性、そして大きな個人差などがあるためです。この講演では、こうした人間の特性に基づいた使いやすさの設計および評価の方法と、その考え方や進め方を人間工学の立場から解説していきます。

*プログラム
Ⅰ.使いやすさとは,人間中心のモノづくりとは
   1.本論に先立ついくつかの事例
   2.人間工学とユニバーサルデザイン


Ⅱ.良い設計・悪い設計

   1.人間中心設計の考え方
   2.事例紹介


Ⅲ.使いやすさ設計に繋がる人間特性データ

   1.寸法,体格データ
   2.運動機能データ
   3.感覚機能データ
   4.認知機能データ


Ⅳ.使いやすさの設計プロセス

   1.設計プロセスの手法
   2.調査のやり方
   3.人間特性データの引用方法
   4.人間工学規格,ガイドラインとその使い方
   5.設計値として応用するまでのステップ
   6.データの翻訳


Ⅴ.使いやすさの評価実験方法

   1.実験の考え方と進め方
   2.パフォーマンスの評価
   3.主観的評価
   4.生理的評価
   5.実験の計画


Ⅵ.使いやすさ設計に関する今後の動向と課題

   1.人間工学の国際規格
   2.人材の育成
   3.人間中心のモノづくりに内在する矛盾

*受講料(消費税等込)
1名:47,250円             同時複数申込の場合1名:42,000円

*会場
日本テクノセンター研修室
住所: 東京都新宿区西新宿二丁目7-1 新宿第一生命ビル 22F
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666




使いやすいモノづくりのための設計法と評価法

グローバル企業の中国・海外エンジニア人材の採用手法とキャリアプラン(共催セミナー)

*概要
日本企業の採用手法のいいところ、わるいところを検証
変革意識を高めるため、参加者全員で考える【人事採用会議の演習+発表会】を予定!

*講 師
(株)イノベーションズ 代表取締役 中田 研一郎 氏(元ソニー 人事戦略アジア統括部長)

*会 場
川崎市産業振興会館 第2研修室 【神奈川・川崎】

*日 時
平成21年12月14日(月) 10:00〜16:30

*定 員
40名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき43,050円(税込、テキスト費用・お茶代含む)

※同一法人より2名でのお申し込みの場合、52,500円。

※昼食はご希望者のみご用意いたします(聴講料に1,050円加算)

*講座の内容


【プログラム】


1.20・・年の日本企業が抱える人材難―人材不足が国際競争力のボトルネックに
  1.1 新興国戦略において求められる日本企業のグローバル人材戦略の変化と対応策
  1.2 海外で成功する企業の鉄則 =「グローバル企業の要件」=グローバル人材の採 用と育成
  1.3 マネジメントインフラ、人間力インフラ、コミニュケーションインフラの確立

 
2.中国進出した外資企業(日本以外)の現地人材採用、効果
  2.1 韓国S社の人事採用戦略:海外地域専門家教育(特定分野職能型と赴任者型)
  2.2 欧米企業の採用戦略
  2.3 ローカルトップ人材による現地化


3.日本企業の新卒採用の手法
  3.1 中国現地採用 リクルート活動の法的コンプライアンス
  3.2 企業説明会の実施
  3.3 面接
  3.4 日本語研修
  3.5 異文化研修
  3.6 インターンシップ
  3.7 ブランド戦略―大学とのR&D協業
  3.8 日本企業が陥りやすい失敗例
  3.9 日本留学生の現地新卒採用との違い
  3.10 韓国・インド・台湾などにおける新卒採用との比較


4.伝統的な採用の問題点を考え、新卒採用に科学的手法


5.エンジニア(R&D,開発・設計等技術系人材)の企業におけるキャリアプランの実例
  5.1 契約社員・正社員採用のPros&Cons
  5.2 研修・ローテーションによる東アジア人材リソース循環圏


6.videoによる中国新卒採用活動の現場を知る
  6.1 計画・準備段階での注意点
  6.2 機械系と電気系の違いと進め方
  6.3 試験実施・解析・予測段階での注意点
  6.3 試験装置・サンプル・方法による差の見極め(差の検定)
  6.4 予測精度の考え方


7.参加者全員による人事採用会議の演習+発表会
  ・海外人材について参加者で意見を出させ、求められる人材像・戦略方針を決める等

【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社&Tech


グローバル企業の中国・海外エンジニア人材の採用手法とキャリアプラン(共催セミナー)

アジア(中国・韓国・台湾)治験における臨床試験計画/実施上のポイントと最新現地情報(共催セミナー)

*講 師
PPCJ(株) 代表取締役
中国大手企業 臨床試験CRO業務の責任者

*会 場
品川インターシティA棟27階 多摩大学大学院 品川キャンパス room B&C 【東京・品川】

*日 時
平成21年12月11日(木) 10:30〜16:30

*定 員
60名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき47,250円(税込、テキスト費用・お茶代含む)

※同一法人より2名以上でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引。

※昼食はご希望者のみご用意いたします(聴講料に1,050円加算)

*講座の内容


第1部:韓国・台湾治験における規制と臨床試験計画/実施上の留意点(仮題)
【10:30-12:00】


講 師: PPCJ(株) 代表取締役


【講座趣旨】
 日本の製薬会社がアジアにおいてMulti-national Trialを実施する際、法規制や各国当局の方針、医療環境、文化の違いから、臨床試験の計画や実施の段階においていろいろな問題点に直面します。
 本講演では演者の韓国・台湾を中心としたコンサルティングや臨床試験の経験から、起こり得る問題点について解説し、可能な解決方法について考察します。


【プログラム】


1.韓国、台湾の規制の現地情報
  1.1 IND手続きと期間
  1.2 各国の規制当局とのコンタクト方法
  1.3 IRB手続き


2.人種・民族差に関する当局の考え方
  2.1 FDAとPMDAの人種に対する考え方
  2.2 多国家臨床試験データに対するPMDAの見解


3.プロトコールデザイン上の留意点
  3.1 選択基準
  3.2 試験薬
  3.3 対照薬の用量
  3.4 症例数の決定
  3.5 患者日誌などの翻訳


4.臨床試験実施上の留意点
  4.1 CROの選定
  4.2 施設の選定
  4.3 各種ベンダーの選定
  4.4 施設との契約
  4.5 治験のコスト


【質疑応答・名刺交換】

第2部:中国臨床試験の実際とCRO選定・使い方、実施上の留意点、最新現地情報(仮題)
【13:00-16:30】


講 師:中国大手企業 臨床試験CRO業務の責任者


【プログラム】


 最近、動きがあった中国現地の臨床試験情報を中心に紹介する予定です。現在、調査中のため近日中にレジュメを掲載、致します。ご期待ください。



【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社&Tech


アジア(中国・韓国・台湾)治験における臨床試験計画/実施上のポイントと最新現地情報(共催セミナー)

酸無水物系エポキシ樹脂硬化剤の配合と選定および用途別に見た物性コントロール(共催セミナー)

*概要
新日本理化(株)、DIC(株)の講師が酸無水物の基礎から用途別に見た物性コントロール、接着剤の分析などを実例をあげながらわかりやすく解説します。

*講 師
日立化成工業(株) 機能性材料事業部 ケミカル部門 開発部 主任研究員     鈴木 実 氏
新日本理化(株) 研究開発本部 技術開発部 グループリーダー 副主席研究員     山中 正彦 氏
DIC(株) 分析センター 総合研究所     小林 恒夫 氏

*会 場
川崎市産業振興会館 第2会議室 【神奈川・川崎】

*日 時
平成21年12月7日(月) 11:00〜16:30
*定 員
25名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。
*聴講料
1名につき47,250円(税込、テキスト費用・お茶代含む)

※同一法人より2名以上でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引。

※昼食はご希望者のみご用意いたします(聴講料に1,050円加算)

*講座の内容


第1部:酸無水物系硬化剤の特徴と用途展開およびその選び方・使い方

【11:00-12:30】


講 師:日立化成工業(株) 機能性材料事業部 ケミカル部門 開発部 主任研究員 鈴木 実 氏


【講座趣旨】


 酸無水物は、電気絶縁材料用途を中心にエポキシ樹脂硬化剤として重要な材料です。酸無水物系硬化剤の種類、特徴と用途などについて、配合時の留意点や安全性の話を含めて説明いたします。


【プログラム】


1.酸無水物系硬化剤の概要
  1-1.エポキシ樹脂の用途別重要動向
  1-2.用途別硬化剤使用例
2.酸無水物系硬化剤の種類と特徴
  2-1.脂環式酸無水物 2-2 脂肪族酸無水物 
  2-3.芳香族酸無水物、他
3.酸無水系硬化剤の使用にあたって
  3-1.代表的酸無水物の一般性状
  3-2.粘度と温度の関係
  3-3.代表的酸無水物の製法例
  3-4.異性化とは 3-5 酸無水物の反応機構  
  3-6.酸無水物の最適配合量
  3-7.各種酸無水物の特徴と主用途
  3-8.硬化剤の使用例
  3-9.配合品の硬化方法
  3-10.酸無水硬化剤の取扱上の注意
    1)吸湿、揮散に関して
    2)安全性に関して
4.酸無水物系硬化剤の開発動向


【質疑応答・名刺交換】

第2部:酸無水物系硬化剤の使用方法および耐熱性、耐湿性の改善
【13:15-14:45】


講 師:新日本理化(株) 研究開発本部 技術開発部 グループリーダー 副主席研究員 山中 正彦 氏


【講座趣旨】


 エポキシ樹脂硬化剤として使用される酸無水物の種類と特徴、配合比率や硬化条件の最適化について概説し、耐熱性、耐湿性、透明性、耐衝撃性、密着性、貯蔵安定性等の物性改良に取り組んだ2,3の実例を紹介する。


【プログラム】


1.酸無水物系エポキシ硬化剤の概要
  1-1.酸無水物の使い方(配合と硬化)
  1-2.酸無水物の選び方(種類と特徴)
  1-3.酸無水物を使いこなすポイント    
    ・酸無水物/エポキシ樹脂配合比率の最適化
    ・吸湿による酸無水物の物性低下とその防止
    ・安全衛生上の注意事項
2.適用例とエポキシ硬化特性
  2-1.耐熱・耐湿性液状酸無水物
    ・エポキシ硬化物の耐熱性向上
    ・薄膜硬化性と耐湿性の改善
  2-2.無色透明用液状酸無水物
    ・エポキシ硬化物の無色透明性,耐候性に及ぼす因子
    ・透明性重視のエポキシ樹脂配合のポイント
  2-3.粉体塗料用固形酸無水物
    ・耐衝撃性・密着性の改善
    ・貯蔵安定性の改良


【質疑応答・名刺交換】

第3部:エポキシ樹脂及び硬化物の分析技術
【15:00-16:30】


講 師:DIC(株) 分析センター 総合研究所 小林 恒夫 氏


【講座趣旨】


 実際に実施している分析例を中心に解説します。エポキシ樹脂の分析法を概説し、実際のエポキシ系接着剤の分析事例に解説します。硬化過程および硬化物の分析法についても実際の分析例に則して説明します。


【プログラム】


1.エポキシ樹脂の分析
  ・エポキシ樹脂の種類
  ・エポキシ樹脂の組成分析及び構造解析
    IR,NMR,GPC、GC-MS等
2.エポキシ系接着剤の組成分析
  ・硬化剤の種類と組成分析
    IR,NMR、GC等
  ・エポキシ系接着剤の分析事例
3.硬化過程及び硬化物の分析
  ・硬化過程の分析 
    IR,NMR,GPC
  ・硬化物の分析  
    IR,固体NMR、熱分解GC-MS等


【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社&Tech


酸無水物系エポキシ樹脂硬化剤の配合と選定および用途別に見た物性コントロール(共催セミナー)

外観・目視検査の正しい進め方と検査精度向上のノウハウ(共催セミナー)

*概要
不良品を作らない!出さない!ための外観検査業務の改善策と外観検査技術を、指導講師の豊富な体験と事例をもとに分かりやすく解説します。

*講 師
(有)エスケイマネージメント 代表取締役      坂田 愼一 氏

*会 場
【東京・品川】品川インターシティA棟27階 多摩大学大学院 品川キャンパス room D

*日 時
平成21年11月12日(木) 10:30〜16:30

*定 員
30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき43,050円(税込、テキスト、飲み物付き)

※昼食はご希望者のみご用意いたします(聴講料に1,050円加算)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

*講座の内容


【講座趣旨】


 「もし不良品が市場に流れたら!」……考えただけでも冷や汗が出るのではないでしょうか。現実に現場はこのような危機に常に向かい合っています。 いったん市場に流出した不良品によって、企業の信頼は地に落ち、これを回復するためには多大な時間と、費用、労力を費やさなければならないことは多くの事例が物語っています。   検査担当者ひとりひとりが職責を十分認識していても、検査業務の欠陥やシステムの悪さが不良問題を引き起こします。 本セミナーでは、「不良品を作らない!出さない!」ための外観検査業務の改善策と外観検査技術を、指導講師の豊富な体験と事例をもとに分かりやすく解説します。


【プログラム】


1.顧客の立場で外観品質を考えよ 〜企業に利益をもたらす検査の正しい考え方〜
  1-1.企業の品質マインドが外観品質を決める
    〜機能が良くても見た目が悪ければクレームは来る!
  1-2.顧客要求品質、設計要求品質、製造品質をどう合わせるか?
  1-3.外観検査ではどのように品質を保証するのか?


2.品質管理における官能・外観検査の問題点と対応策
  2-1.官能検査の種類と特徴
    〜官能検査の難しさはどこにあるか?
  2-2.官能検査のあいまいさをどうしたらよいか?
    〜あいまいさの原因と対策は?
  2-3.外観品質不良への基本的な対応の仕方
    〜営業、設計、製造、品質部門の責任と役割


3.パネル(外観検査員)の選び方、育て方と管理のポイント
  3-1.パネルにはどんな人を選ぶべきか
    〜パネルに不可欠な適性と能力
  3-2.識別力のあるパネルの選び方
    〜どのぐらいの精度で見分けることが出来るか?
  3-3.カタヨリとバラツキの少ないパネルの選び方
    〜厳しい?甘い?判断基準のズレは?
  3-4.パネルの訓練方法と日常管理
    〜限度見本通りの判定を実施するために


4.外観品質基準の決定と周知徹底のやり方
  4-1.限度見本、標準見本の作り方
    〜作り方によって厳しくなったり、甘くなったり・・・
  4-2.効果的な限度見本作りのための工夫
    〜こんな見本が現場で役立つ!
  4-3.評価基準を一致させるための工夫
    〜限度見本はこのようにして記憶する
  4-4.限度見本が作れないときはどうすれば良いか?


5.検査設計(計画)時における外観検査の扱い
  5-1.まず検査段階をどうするか?
   〜受け入れ段階、製造段階、出荷段階・・・
  5-2.検査項目の選定とウェイト付け
   〜外観検査の重要項目を選ぶために
  5-3.検査ロットの構成と検査個数
   〜全数、抜取、チェックの区分について
  5-4.外観検査の標準化のポイント
   〜判定基準、パネル、作業環境・・・などの標準化?


6.官能検査の結果を数量化して評価する 〜評価尺度とデータ解析の仕方〜
  6-1.数量化(順位、評点)する場合の注意すべき点
  6-2.統計的データ解析のやり方と改善のカンどころ


7.まとめ



【質疑応答】

* 主催:株式会社&Tech


外観・目視検査の正しい進め方と検査精度向上のノウハウ(共催セミナー)

異物分析の試料前処理と採取方法および異物による不具合事例と分析事例〜異物見本を用いた採取方法の実習付き〜(共催セミナー)

*概要
目視できる粗大異物から顕微鏡で観察する微小異物までに至る試料前処理と採取方法および実際の異物分析の具体例

*講 師
元コニカミノルタテクノロジーセンター(株)          丸山 昭 氏

*会 場
ミューザ川崎シンフォニーホール4階 会議室2 【神奈川・川崎駅】

*日 時
平成21年11月27日(金) 12:00〜16:00

*定 員
30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき42,000円(税込、テキスト、飲み物付き)

※昼食はご希望者のみご用意いたします(聴講料に1,050円加算)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

*講座の内容


【講座趣旨】


異物分析においては分析機器がどんなに高精度化、高感度化されようとも異物を含んだ試料片をそのまま機器測定して、異物成分を正確に定性するのは非常に困難なことである。異物分析をはじめとして全ての分析に関わる作業の大半は、分析対象物を如何に純度高く効率的に摘出、抽出、精製するかが重要である。この講座では異物分析に長年携わった経緯を元にした効率よい異物試料の前処理と採取方法を異物見本を用いた実習付きで紹介する。


【プログラム】


1.異物分析の概要
  1-1. 異物分析の流れ
  1-2. 異物サイズの移り変わり
  1-3. 異物分析の重要点
  1-4. データベースの重要性
  1-5. 類似物の定性
  1-6. 異物試料の観察方法


2.異物試料の前処理と採取方法
  2-1. 試料片の取出しと貼付け方法
  2-2. 試料片からの異物採取
  2-3. 大型装置からの異物採取
  2-4. 粉体中からの異物採取
  2-5. 液体中からの異物採取
  2-6. 濾過捕集と遠心分離
  2-7. 採取異物の精製方法


3.採取用治具
  3-1. 針とヘラによる異物摘出の違い
  3-2. 治具類の自作加工
  3-3. 各種ナイフの使い分け


4.異物採取用の装置類
  4-1. 実体顕微鏡を用いた異物採取
  4-2. 光学顕微鏡を用いた異物採取
  4-3. ミクロトームを用いた異物採取
  4-4. マニピュレーターを用いた異物採取


5.微小異物の高感度測定(表面増強赤外吸光法)
  5-1. 測定概要
  5-2. 測定手順


6.異物分析の具体例
  6-1. 写真用フィルムの発色異常
  6-2. 回路基盤のリーク原因分析
  6-3. 処理剤溶液中の混入物定性
  6-4. カメラの粘着物定性
  6-5. レンズの狭窄物分析
  6-6. プリント基板の付着物定性
  6-7. 液晶基盤の混入物定性
  6-8. レンズ付きフィルムの汚れ分析
  6-9. アルミ鏡面板の汚れ定性
  6-10. 液晶用保護フィルムの輝点分析


7.分析余談


【質疑応答】

* 主催:株式会社&Tech


異物分析の試料前処理と採取方法および異物による不具合事例と分析事例〜異物見本を用いた採取方法の実習付き〜(共催セミナー)

プラスチック押出成形の基本技術およびトラブル対策(共催セミナー)

*概要
押出成形の基礎から、成形プロセス上でのトラブル要因と対策を分かりやすく解説します。

*講 師
西沢技術研究所 代表        西沢 仁 氏

*会 場
ミューザ川崎シンフォニーホール4階 会議室3 【神奈川・川崎駅】

*日 時
平成21年11月26日(木) 10:00〜16:00

*定 員
30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき43,050円(税込、テキスト、飲み物付き)

※昼食はご希望者のみご用意いたします(聴講料に1,050円加算)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

*講座の内容


【プログラム】


1.押出加工設備の基本と最近の進歩
   押出加工機の基本構造と役割、最近の進歩について
   フィード、スクリュー、ブレーカープレート、ヘッド、ダイ、ニップル
   押出機各部の設計と加工性の関係


2.押出加工技術
   (1)ゴム、プラスチックスの流動性と加工性指標
   (2)ゴムの加硫挙動と加工性指標
   (3)スクリュー構造等の設計と加工性
   (4)代表的ゴム、プラスチックス、TPEの押出加工性、加工条件
   (5)機能性コンパウンド(例、難燃材料、導電材料)の加工性
   (6)連続加硫、架橋における押出技術


3.押出加工におけるトラブルと対策
   (1)プラスチックス、TPEにおけるトラブル対策
      脈動、外観荒れ、ダイスウェル、ブリード、
      ブルーム、プレートアウト
      目やに、メルトフラクチャー、ゲル化、フィッシュアイ、
      スパイダーマーク、カラス等
   (2)ゴムにおけるトラブルと対策


4.高速、高能率押出技術のポイント
   (1)押出材料
      PE,PP、PVC、TPE、合成ゴム等
   (2)押出設備
      押出機、スクリュー構造、フィード、ダイ等
   (3)加工技術
      材料粘性評価、スクリュー温調、オンライン計測技術等


5.特許に見られる最近の押出機、加工技術


【質疑応答】


* 主催:株式会社&Tech


プラスチック押出成形の基本技術およびトラブル対策(共催セミナー)

ポリウレタンの合成と物性の基礎知識〜ポリオール・イソシアネートの基礎知識と劣化機構〜(共催セミナー)

*概要
ポリウレタンとその周辺の研究・生産・営業に関わる若手研究者・技術者のために、ポリオール、イソシアネート、硬化剤および添加剤の種類、特性から製品への応用まで直ぐ役に立つポリウレタンの基礎を分かりやすく講演します。

*講 師
ながさきポリウレタン研究所 (前 長崎大学教授) 工学博士 古川 睦久 氏

*会 場
ミューザ川崎シンフォニーホール4階 会議室3 【神奈川・川崎駅】

*日 時
平成21年11月9日(月) 10:00〜16:00(予定)

*定 員
30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき43,050円(税込、テキスト、飲み物付き)

※昼食はご希望者のみご用意いたします(聴講料に1,050円加算)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

*講座の内容
【プログラム】


1.ポリウレタンの歴史と材料での位置


2.ポリオールの種類 と製法・特性
  ・ポリエーテル系
  ・ポリエステル系
  ・ポリカーボネート系
  ・脂肪族系
  ・バイオポリオール


3.イソシアネートの種類と製法・特性
  ・製造法
  ・化学反応性と反応の種類
  ・イソシアネートの製法
  ・イソシアナートの種類と特長


4.鎖延長剤 および副資材(添加剤)の種類・特長


5.ポリウレタンの合成法と物性への影響


6.ポリウレタン物性への影響因子
  ・ソフトセグメント/ハードセグメント含量の影響
  ・ポリオールの分子量・分子量分布
  ・加工性への影響


7.ポリウレタンの劣化機構
  ・熱(酸化)劣化対策と安定化
  ・加水分解劣化対策と安定化
  ・光(酸化)劣化対策と安定化

【質疑応答】


* 主催:株式会社&Tech


ポリウレタンの合成と物性の基礎知識〜ポリオール・イソシアネートの基礎知識と劣化機構〜(共催セミナー)

レオロジーなんかこわくない!数式のないレオロジー入門(共催セミナー)

*概要
レオロジーを本当に使える道具にするための講座!

*講 師
日本ペイント(株) 情報システム部 部長 上田 隆宣 氏

*会 場
TIME24ビル 3F デジタル工房内セミナールーム 【東京・江東区】

*日 時
平成21年12月17日(木) 10:30-16:30、18日(金) 10:30-16:30

*定 員
15名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき63,000円(税込、昼食、スライド毎説明文付き資料付き)

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容


※受講に際しましては, 電卓・定規 をご持参願います。

【講座趣旨】


 レオロジーは「数式が多い」「データはとったがどう見たらいいのか解らない」など, 敷居が高いというイメージがあります。 本講座を受講すると敷居が低くなり,さあ明日から取り組んでみようと思えるはずです。 講義だけにとどまらず実際のデータを描いたり,解析したりすることで, レオロジーを本当に使える道具にするための講座です。

【プログラム】


1日目 10:30-16:30


1.レオロジーとは?
    1.1 レオロジーの目的
    1.2 時間温度換算則
    1.3 剪断と引っ張り
    1.4 ニュートンの法則とフックの法則
    1.5 MaxwellとVoigt


2.静的粘弾性測定
    2.1 定常流動測定
    2.2 流動曲線(ハーシャルバークレーとキャッソン)
    2.3 チクソトロピー測定
    2.4 引っ張り試験
    2.5 応力緩和測定
    2.6 クリープ測定


3.演習(1)
    3.1 流動曲線を描いて解析しよう
    3.2 応力緩和を解析しよう
    3.3 クリープを解析しよう

[質問を皆で考えよう]


1日目終了

注:1日目終了後 講師と軽い懇親会をしませんか?(上田)
(自由参加ですので、ふるってご参加ください)



2日目 10:30-16:30


4.動的粘弾性測定
    5.1 動的測定の解析をしてみよう
    5.2 活性化エネルギーを計算しよう
    5.3 マスターカーブを描いてみよう


5.演習(2)
    6.1 塗料のたれとレベリング
    6.2 硬化過程と内部応力
    6.3 チッピング性と活性化エネルギー
    6.4 擦り傷性と弾性回復率
    6.5 塗膜の粘弾性カルテ
    6.6 剥離現象と合成波
    6.7 マヨネーズの降伏値
    6.8 澱粉の熱変性
    6.9 パンの膨張と法線力


6.実用レオロジー測定
    6.1 塗料のたれとレベリング
    6.2 硬化過程と内部応力
    6.3 チッピング性と活性化エネルギー
    6.4 擦り傷性と弾性回復率
    6.5 塗膜の粘弾性カルテ
    6.6 剥離現象と合成波
    6.7 マヨネーズの降伏値
    6.8 澱粉の熱変性
    6.9 パンの膨張と法線力


7.新しいレオロジー測定とその周辺
    7.1 硬化過程測定の工夫(FDOM,DSA)
    7.2 複層塗膜のTg測定(DSC)
    7.3 複層塗膜の架橋密度測定(硬度計)
    7.4 感性とレオロジー


8.レオロジストのプロになるために
    8.1 こんな場合はこんな測定を
    8.2 これだけあればあなたはレオロジスト
    8.3 測定の落とし穴
    8.4 ふるき知恵と新しい知恵
    8.5 物の見方と右脳の働き


9.おまけ
    7.1 二匹のかえる
    7.2 どうしたら魚は餌を食べるか?
    7.3 クマンバチの羽根
    7.4 天才・秀才・凡人
    7.5 有能な企業戦士

【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社R&D支援センター


レオロジーなんかこわくない!数式のないレオロジー入門(共催セミナー)

押出成形におけるトラブルシューティング - 経験則と理論に基づく的確なアプローチを -(共催セミナー)

*概要
トラブルシューティングの定石(原料、押出機、運転条件、制御)を、ステップを追って学習!

*講 師
井口CC技術士事務所 技術士(機械部門) 井口 勝啓 氏 元東芝機械

*会 場
江東区産業会館 第2会議室 【東京・江東区】

*日 時
平成21年12月18日(金) 10:30-16:30

*定 員
30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1口(2名まで参加可)につき49,980円(税込、昼食・資料付き)

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)

*講座の内容


【講座趣旨】
押出成形での品質と生産性(コスト)を左右する主要因として原料、成形装置、運転条件、制御が挙げられる。複雑な押出成形に係わるトラブルシューティング(不良対策)では、人によって出来栄えに大きな差が生じやすい。最小の費用で最大の効果を狙うには、経験と理論のバランスよい的確なアプローチが必要である。
本セミナーでは、これらの要求を満足するトラブルシューティングの定石を、ステップを追って学習する。



【プログラム】


1.はじめに


2.成形不良を見分ける
  2-1.成形不良の分類と代表的不良現象
     2-1-1.フィルムシートの成形不良
        (1) 寸法・形状の不良
        (2) 外観・表面状態の不良
        (3) 物性不良
     2-1-2.特殊フィルムシート成形での不良
        (1) 発砲シートの成形不良
        (2) 多層フィルムシートの成形不良
  2-2.なぜ不良か?
     2-2-1.一次障害
     2-2-2.二次障害
     2-2-3.三次障害他


3.成形不良の実態を把握する
  3-1.成形不良の検査方法
     3-1-1.寸法・形状の検査
     3-1-2.外観・表面状態の検査
     3-1-3.物性の検査
  3-2.成形不良の評価尺度(例)
     3-2-1.厚さむらの統計処理
     3-2-2.厚さむらの周波数解析
     3-2-3.比エネルギー消費量


4.成形不良の発生原因を明らかにする
  4-1.成形不良現象と発生原因の相関
  4-2.成形不良に係わるプラスチックの性質
  4-3.プロセス量の監視と記録
  4-4.押出機でのプラスチック原料の挙動観察技術
  4-5.溶融モデルとサージングの発生原因(ソリッドベッドのブレークアップ)
  4-6.運転条件の設定と制御に係わる問題(代表例)
     4-6-1.固体輸送部のバレル温度の設定
     4-6-2.バレル・ダイ本体の制御温度の変動
     4-6-3.CD厚さプロファイル制御の問題点
  4-7.不良原因究明手段としてのコンピュータシミュレーション
     4-7-1.ミクロ的なシミュレーションプログラム
     4-7-2.マクロ的なシミュレーションプログラム
        (1)ベント式押出機でのサージングの減衰特性
        (2)ギアポンプアシスト型押出機の総合特性
        (3)スクリーンのめづまり特性
        (4)共押出での流れ特性
        (5)PID温度制御


5.成形不良をなくす/重点対策技術[1]:ハード編
  5-1.押出機関連技術
     5-1-1.二軸押出機
     5-1-2.溝付バレル
     5-1-3.バリヤフライト型スクリュ
     5-1-4.ミキシングエレメント
     5-1-5.スクリュ冷却
     5-1-6.ベント装置
  5-2.発泡シート成形用押出機関連技術
     5-2-1.スクリュのフライト形状
     5-2-2.スクリュ基部のメントシール
  5-3.アダプター・フィルター関連技術
     5-3-1.スクリュヘッド部圧力調整器
     5-3-2.ギアポンプ
     5-3-3.スクリーンチェンジャー
     5-3-4.スタティックミキサー
  5-4.Tダイ関連技術
     5-4-1.流路デザイン
     5-4-2.表面処理
     5-4-3.リップ出口(エッジ)の仕上げ
  5-5.引取装置関連技術
     5-5-1.フィルムとロールの密着性
     5-5-2.シート成形用ロールの駆動系
     5-5-3.シート成形用ロールの湾曲補正装置
  5-6.共押出成形装置
     5-6-1.フィードブロックとマルチマニフォールド
     5-6-2.端部単層化装置


6.成形不良をなくす/重点対策技術[2]:ソフト編
  6-1.原料供給量の制御
  6-2.樹脂温度制御
  6-3.樹脂圧力制御
  6-4.バレル・ダイ本体の温度制御
  6-5.フィルムシートのMD平均厚さ制御
  6-6.フィルムシートのCD厚さプロファイル制御
     6-6-1.走査式厚さ計
     6-6-2.自動Tダイ
     6-6-3.制御方法
  6-7.メルトバンクの計測制御
     6-7-1.バンクセンサー
     6-7-2.バンクプロファイルの制御


7.未来に向って
  7-1.究極の押出機
  7-2.プロセス制御の高度化/トータル監視制御システム
  7-3.その他



【質疑応答・名刺交換】


* 主催:株式会社R&D支援センター


押出成形におけるトラブルシューティング - 経験則と理論に基づく的確なアプローチを -(共催セミナー)

発明・創造のための思考技法「等価変換理論」(共催セミナー)

*概要
等価変換理論を習得すれば、右脳的な自然の閃きと左脳的な論理力を掛け合わせて、大胆な発想、ブレークスルーを生み出しやすくなる!演習を交えてマスターしよう!

*会 場
TIME24ビル 3F デジタル工房内 セミナールーム 【東京・江東区】

*日 時
平成21年12月14日(月) 10:30-16:30

*定 員
20名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

*聴講料
1名につき49,980円(税込、資料付き)

※本セミナーでは、主催者側で昼食を用意しておりませんので予めご了承ください。会場にレストラン、コンビニがございますので、そちらをご利用いただきます。

※同一法人より複数名でのお申し込みの場合、1名につき10,500円割引いたします。

※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。
(ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。)




*講座の内容


≪講座の趣旨≫


 元同志社大学教授、故市川亀久彌博士は、古今東西の発明者たちの創造までのプロセスや創造作業の実態を長年にわたって研究し、それを一つの体系にまとめることに成功しました。それが1955年に発表された「等価変換理論」です。
 市川博士はこの体系化したノウハウを自らが主宰する研究会を通じて、実際に企業の開発現場にいる教え子達に伝授していきました。そしてそれは現実に彼らの企業現場での数多の発明品として花開いたのです。
この教え子の中にはシャープで国産テレビ第一号の開発に従事し、その後同社の液晶製品や製造技術の開発をリードした春山丈夫氏、機械の専門家ながら、大成建設で吹付けコンクリート、PCコンクリートなどコンクリート分野で数々のイノベーションを生み出した小阪明氏などがいます。
 このセオリーを知らずして、発想力・創造力の強化について語ることはできないでしょう。単なる偶然の閃きに頼るのではなく、意図的に何かを発想し新しい物を生み出すということについて、ここまで理路整然と手順を明示したものは他にはないからです。
 このセオリーを活用すれば、
  ・右脳的な自然の閃きと左脳的な論理力を掛け合わせて、大胆な発想、ブレークスルーを生み出しやすくなる
  ・壁にぶつかったときの突破口を見いだせる
  ・過去の成功事例をさらに活かすことが出来る
  ・共通言語化することで、グループでのシナジーを強化できる
ことができるようになります。

≪プログラム≫


1.総論
 1-1 等価性の発見
 1-2 ケース演習
 1-3 等価変換方程式


2.等価変換理論の思考プロセス
 2-1課題の抽出
 2-2解決目標の定義
 2-3観点の設定
 2-4活用ヒントの特定
 2-5限定条件の抽出
 2-6発想の概念の確立
 2-7発想の具体化
 2-8具体案の検証


3.発想力、抽象的思考力の強化演習


4.ケース演習:等価変換理論活用による発明


5.事例紹介


6.組織での導入、運用について



【質疑応答】


* 主催:株式会社R&D支援センター


発明・創造のための思考技法「等価変換理論」(共催セミナー)

“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 有機EL技術シリーズ 有機ELの封止技術 編 Part2

●内容

既刊「有機ELパネルの封止技術」のご好評につき、最新のデータを収録しました!!
(2007年5月~2008年8月発行分公開特許)

 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類  
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

・シール・接着材を用いる中空封止
・シール剤充填密着封止
・膜封止、ベタ封止
・多重層封止
・封止構造体とその製造方法
・シール・ 封止材料

●掲載企業 (順不同)
三星エスディアイセイコーエプソン、凸版印刷、コニカミノルタホールディングス、
東芝松下ディスプレイテクノロジー、TDK、日本ゼオン、日立ディスプレイズ、コーニング、キヤノン、
富士フイルム、カシオ計算機、オプトレックス、東北パイオニア、松下電器産業、三洋電機、京セラ、
スリーボンド、オスラム、トッパン・フォームズ、ハリソン東芝ライティング 他

●体裁
 A4判 約124頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年 11月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

 会社名:
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 部署名:
 氏 名:
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 有機EL技術シリーズ 有機ELのレーザー転写技術

●内容
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類  
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています
高精細・高精度パターンニング(転写位置決め・制度・膜圧均一性、転写部位周縁の確実な転写)、高品質・高信頼性転写(汚染・損傷防止、密着性・熱吸収性向上、転写不良防止)、高効率・高生産性、長寿命・低コスト、高機能転写

●掲載企業 (順不同)
三星エスディアイ、昭和電工、凸版印刷、松下電器産業、シャープ、ソニー、半導体エネルギー研究所、イーストマン コダック、スリーエム リコー、セイコーエプソン、イー・アイ・デュポン 他

●体裁
 A4判 140頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年 7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 有機ELシリーズ 有機EL耐久性のための水分対策 編

●内容
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類
 ※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています
 水分侵入防止構造、吸湿材/補水材の利用、封止工程での水分対策、フレキシブルディスプレイ、その他(シール材など)

●掲載企業 (順不同)
 東芝松下ディスプレイテクノロジー、凸版印刷、オプトレックス、セイコーエプソン、キヤノン、日本精機、シャープ、コニカミノルタ、積水化学 他

●体裁
 A4判 80頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 有機ELシリーズ 有機ELパネルの封止技術 編

●内容
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類  
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています
シール材を用いる中空封止、ベタ封止/膜封止(パッシベーション)、二重封止/ガスバリア、
その他の封止構造、封止工程1)前処理2)接着硬化3)後加工、封止材料

●掲載企業
(順不同)東芝松下ディスプレイテクノロジー、凸版印刷、オプトレックス、セイコーエプソン、京セラ、日本精機、三星エスディアイ、コニカミノルタ、トッキ、積水化学、パイオニア、半導体エネルギー研究所、出光興産 他

●体裁
 A4判 約130頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 有機ELシリーズ 有機ELバックライト 編

●内容
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類  
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

LCD/ELのFPD構成、RGBと白色光源、バックライトユニット、反射型フロントライトLCD、制御駆動の回路技術、その他の工夫

●掲載企業(順不同)
 昭和電工、日本ゼオン、富士フイルム、住友化学、コニカミノルタホールディングス、豊田自動織機、コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス、セイコーエプソン、ソニー、日東電工 他

●体裁
 A4判 80頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)有機ELシリーズ 有機ELの接着技術 編

●内容
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類  
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

 気密封止を図る接着、貼り合わせを図る接着、接着剤の機能(複合機能/透明性/フレキシブル)、接着の課題、接着工程と封止機器、壁面パネルの接着

●掲載企業
(順不同)凸版印刷、オプトレックス、セイコーエプソン、京セラ、富士電機、日本精機、三星エスディアイ、コニカミノルタ、トッキ、日立ディスプレイズ、ハリソン東芝、
パイオニア、半導体エネルギー研究所、松下電工 他

●体裁
 A4判 約 80頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)有機EL シリーズ 有機ELのバンク形成技術 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

有機ELのバンク形成技術 編

●技術分類
バンクの材料・製法、バンク上部、バンク表面と内部、バンク下部と周縁、品質と信頼性、低消費電力 その他

●対象技術 
有機EL 膜製造におけるバンク構造と形成技術について取り上げます。各企業の多彩な技術がみられます。

●掲載企業 
東芝松下ディスプレイテクノロジー、カシオ計算機、エルジー電子、シャープ、京セラ、セイコーエプソン、松下電器産業、オプトレックス、大日本スクリーン製造、キヤノン など

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 8月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)放熱技術 シリーズ 放熱部品と材料技術 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

放熱部品と材料技術 編

●技術分類 
1.ヒートシンク・放熱フィン 2.液冷 3.ヒートパイプ・沸騰冷却 4.ペルチェ素子 5.シート・グリース・コンパウンド 6.放熱素材・放熱基板

●対象技術 
 エレクトロニクス機器に使用される放熱部品・材料技術の動向を取り上げます。
熱放散に優れた放熱板やフィン、ヒートシンクなど、いわゆる受動的放熱・冷却部品と材料に関する取り組みは出願件数も多く、古くて新しい放熱技術の中心的課題です。カーボンナノチューブなどのナノテク複合新素材を活用したフレキシブルな放熱板やマイクロチャンネル、能動的な放熱部品としてペルチェ素子による局所発熱対策技術などがあります。

●掲載企業 
 トヨタ自動車、ソニー、三菱電機、安川電機、東芝、日立製作所、モーディーン、リコー、ネクストリーム、東レ・ダウコーニング、富士通、日立金属、松下電工、京セラ、日東電工ほか

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 12月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)放熱技術 シリーズ 基板実装・機器筐体実装技術 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

基板実装・機器筐体実装技術 編

●技術分類
1.デバイス、モジュール、回路基板、筐体ケース 2.筐体内部の風の流れ3.ラックマウント 4.高発熱部品の液冷実装 5.ヒートパイプ・沸騰冷却 6.新しい着眼点

●対象技術 
回路基板や筐体の放熱実装技術は、回路基板に部品の熱を効率よく放熱し、筐体の内部から外部へと上手く放熱する熱対策であり、エレクトロニクス機器の信頼性に大きな影響を与える機構設計の重要項目です。ここでは、軽薄短小な携帯電話からパワースケールの大きな電気自動車用インバータまで、さまざまなセットの放熱・冷却の例を取り上げます。

●掲載企業
アンリツ、富士通、三菱電機、セイコーインスツル、日立製作所、東芝、デンソー、トヨタ自動車、日本自動車部品総合研究所ほか

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 12月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 放熱技術 シリーズ ファンを用いる空冷技術 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

ファンを用いる空冷技術 編
●技術分類 
ファンの改良、ファン組立・機器組込、静粛化、防塵、風の流れの活用、制御・システム、新しい傾向

●対象技術 
 ファンによる空冷技術は、ファン自体の技術からファンの取付け方、ファンを使う事によって派生するマイナス効果対策、あるいは、ファンによって生成される風の流れに関する技術など、多岐に渡します。ここでは、ファンの冷却効率の改善や小型化、薄型ファンの実現、回転機器に固有な騒音対策などを取り上げます。

●掲載企業 
富士通、ソニー、オリジン電気、奇こう科技股、セイコーエプソン、船井電機、日立製作所、松下電器産業、トヨタ自動車、デンソー ほか

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 12月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 放熱技術 シリーズ パワーデバイスの熱対策 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

パワーデバイスの熱対策 編
●技術分類
1.チップ実装と放熱 2.リード端子と放熱 3.回路基板と放熱 4.発熱源の配置 5.受動的な放熱 6.能動的な放熱7.用途指向な放熱技術

●対象技術
 MOS-FETやIGBTなどの電力半導体スイッチ素子に代表されるパワーデバイスは、低ノイズで高効率、しかも安価な電源を供給するキーデバイスです。最近では制御ICとパワーチップの一体化実装やSiC半導体材料の出現など、パワーエレクトロニクス分野にも大きな技術革新の波が生まれています。ここでは、チップ実装に伴う最近の放熱技術、リードフレームや配線用メタルコアを駆使した熱伝導放熱、ホットスポットに着目したモジュールの熱分布、ヒートシンクやヒートパイプなどの受動的放熱技術、ペルチェ(熱電)やイオン流を利用する新しい能動的放熱技術など、最近のパワーデバイスの熱対策特許として知っておきたい代表例を取り上げています。

●掲載企業 
三菱電機、トヨタ自動車、富士電機デバイステクノロジー、東芝、松下電器産業、三菱マテリアル、デンソー、セイコーインスツル、富士電機機器制御、富士電機ホールディングス、アーベーベー・リサーチ・リミテッド、日立金属ほか

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 12月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)不揮発性メモリ シリーズ 東芝 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

東芝 編

●対象技術
 不揮発性半導体メモリの世界市場で韓国二強と激しいシェア争いをしている東芝とその関連企業の出願した不揮発性半導体メモリの2006年度の公開特許公報をピックアップしました。大容量・高密度化、保持特性、書き換え回数などのメモリ機能、信頼性向上、生産性向上、生産コスト低減など幅広い課題に対する取り組みがあります。FG-フラッシュ型だけでなく、FeRAM型、MRAM型、PRAM型、RRAM型など、色々な出願も取り上げています。

●体裁
 A4判 約 70頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 4月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)不揮発性メモリ シリーズ 韓国企業(三星電子、ハイニックス) 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

韓国企業(三星電子、ハイニックス) 編
●対象技術 不揮発性メモリの世界市場は韓国の三星電子、ハイニックスセミコンダクターが一位、二位を占めています。本レポートでは両社の不揮発性半導体メモリに関する2006年度の公開特許情報をピックアップしました。FG-フラッシュ型だけでなく、PRAM型やRRAM型など、新しい技術分野の出願が公開されています。国内メーカの出願傾向と比較することで今後の傾向が見えてきます。

●体裁
 A4判 約 90頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 4月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 不揮発性メモリ シリーズ ルネサステクノロジ 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

ルネサステクノロジ 編

●対象技術 
 ルネサステクノロジの不揮発性半導体メモリに関する2006年度の公開特許公報をピックアップしました。大容量・高密度化、保持特性、書き換え回数などのメモリ機能、信頼性向上、生産性向上、生産コスト低減などの課題に対する多様なアプローチが見られます。FG-フラッシュ型だけでなく、MONOS型、MRAM型、PRAM型、RRAM型などの出願も取り上げています。

●体裁
 A4判 約 70頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 4月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 不揮発性メモリ シリーズ シャープ、松下電器産業、富士通、沖電気工業、セイコーエプソン、NEC エレクトロニクス 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。シャープ、松下電器産業、富士通、沖電気工業、セイコーエプソン、NEC エレクトロニクス 編

●対象技術 
 東芝、ルネサステクノロジ以外の国内半導体メーカの不揮発性半導体メモリに関する
2006年度の公開特許公報をピックアップしました。本レポートは10件以上出願しているメーカ6社を取り上げます。大容量・高密度化、保持特性、書き換え回数などのメモリ機能、信頼性向上、生産性向上、生産コスト低減などの課題に対する発明が幅広く取り上げられています。各メーカでどのような技術分野に特化しているか一目でわかります。

●体裁
 A4判 約120頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 4月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)不揮発性メモリ シリーズ FG 型フラッシュメモリ 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

FG 型フラッシュメモリ 編
●対象技術 
 不揮発性メモリの市場の殆どを占めるフローティングゲート型フラッシュメモリの2006年度の公開特許情報から有用なものをピックアップしました。大容量・高密度化、保持特性、書き換え回数などのメモリ機能、信頼性向上、生産性向上、生産コスト低減などさまざまな課題に対する発明があります。さらに、積層型をはじめ、アシストゲート型、スプリットゲート型など、多様な技術分野の出願も取り上げます。

●掲載企業 
ルネサステクノロジ、東芝、ハイニックスセミコンダクター、三星電子、富士通、シャープ、セイコーエプソン、NECエレクトロニクス、シリコン ストーリッジ テクノロージー、東芝マイクロエレクトロニクス、ほか

●体裁
 A4判 約170頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 4月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 不揮発性メモリ シリーズ FeRAM、MONOS、その他 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

FeRAM、MONOS、その他 編
●対象技術 不揮発性メモリはフローティングゲート型フラッシュメモリの発展型であるMONOSやまったく違う原理のメモリが提案されています。この本ではそれらの各種メモリに関する2006年度の公開特許情報から有用なものをピックアップしました。相変化材料を用いるPRAMや可変抵抗素子を用いるRRAM、TMR現象を用いるMRAMの出願が含まれています。フラーレンやナノクリスタルなどナノテクノロジーとの融合を図るメモリも取り上げます。

●掲載企業
ルネサステクノロジ、三星電子、松下電器産業、シャープ、沖電気工業、東芝、富士通、セイコーエプソン、インフィネオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト、エルピーダメモリ ほか

●体裁
 A4判 約120頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 4月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 半導体製造プロセス シリーズ CMP(化学機械研磨)デバイス技術 編

●内容
 半導体デバイスの加工寸法の微細化、集積の高密度化は益々進む一方です。それを横方向、縦方向に切り分けて考えると横方向の微細化の進み具合に比較して、縦方向の微細化はさほど進まないために半導体デバイスの表面は高アスペクト化が進むことになります。この傾向は半導体デバイスの微細加工のツールとなるリソグラフィー技術にとって好ましい傾向ではありません。なぜならば、パターンを焼き付ける寸法が微細になるほど焦点深度は小さくなり、高アスペクトの表面にパターンが形成できなくなるためです。そのためにデバイス表面の平坦化は必須になります。また、半導体デバイスのシステム化が進展しており、メモリーやロジックの混載デバイスが多くなっており、これらの製造プロセスでも加工面の平坦化が必要になっております。
 CMPはこの平坦化を半導体デバイス上で実現する唯一の手段と言っても過言ではありません。この冊子では各種半導体デバイスへのCMPの応用という切り口から公開特許情報をまとめてみました。技術上の分類はわかりやすさを考慮して
1) DRAM応用
2) 従来型NVM応用
3) MRAM応用
4) PRAM応用
5) その他のデバイス
6) STI
7) ゲート電極
8) Cu/low-k多層配線
9) 配線形成
としました。
 CMPプロセスの半導体デバイスへの応用を研究、開発されている第一線の技術者の方には実戦的、即効的なヒントになり、全体の流れをつかむ上でも参考になるものと思います。

●体裁
 A4判 約220頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 5月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)導電性有機材料技術シリーズ 次世代液相プロセス 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

次世代液相プロセス 編

●技術分類
 ロールツーロール、インクジェット、他の液相プロセス、耐温性・ガスバリア、フィルム、材料・その他

●関連キーワード
 塗布工程、乾燥ムラ、インクジェット法、ノズル、インクジェットヘッド、液滴パターン、乾燥工程、液滴吐出装置、蛍光材料、燐光、インクミスト、有機EL層、保護膜、透明電極膜、テープ形状基板、巻取りリール、繰出しリ-ル、たるみ機構、支持体上、エンドレスベルト、機能性インク など

●掲載企業
 セイコーエプソン、コニカミノルタ、イーストマン コダック、セイコーエプソン、大日本印刷、クラレ、大日本インキ化学、キヤノン、シャープ、出光興産、パイオニア、信州大学、日本合成化学 など

●体裁
 A4判 約65頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)導電性有機材料技術シリーズ レーザー転写プロセス 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

レーザー転写プロセス 編
●技術分類 
レーザ転写技術、レーザ転写装置、ドナー基板、接着性転写、転写元基板、応用、その他

●関連キーワード 
 転写シート、トップミッション型フルカラー有機EL表示装置、着色層形成、位置あわせ不良、封止層、ドナー要素、受容体、発光ポリマー、電荷注入層、高密度実装、転写元基板、剥離層、被転写層、仮転写基板、界面剥離、層内剥離、転写先基板、レーザー転写法、転写領域、ドナーフィルム、画素定義膜など

●掲載企業 
 出光興産、三星エスディアイ、ソニー、松下電器産業、半導体エネルギー研究所、セイコーエプソン、住友ベークライト、カシオ計算機、コニカミノルタ、凸版印刷 など

●体裁
 A4判 約70頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 最先端半導体パッケージ技術シリーズ メッキ技術 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

メッキ技術 編
●技術分類 
先端半導体へのCuメッキの応用/SiP/CSP/通常のパッケージ技術のメッキ(配線基板も含む)/その他

●対象技術
Cuメッキのみならず、最先端パッケージ用のメッキ技術に関する最近の特許を網羅しました。

●掲載企業
NECエレクトロニクス株式会社、三星電子株式会社、株式会社東芝、松下電器産業株式会社、三井化学株式会社 他

●体裁
 A4判 約161頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 5月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 最先端半導体パッケージ技術シリーズ バックグラインド技術 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

バックグラインド技術 編

●技術分類 バックグラインド/ダイシング/CSP/MEMSその他

●対象技術 Siウェハの極薄化に関する特許を網羅しています。あわせてMEMSへの応用なども収録しています。

●掲載企業 キヤノン株式会社、セイコーエプソン株式会社、日東電工株式会社、松下電器産業株式会社、
リンテック株式会社 他

●体裁
 A4判 約125頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 5月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 最近の特許から見た非接触電力伝送用途100

●内容
 高周波電力スイッチング回路による非接触電力伝送は古くから無接点給電の搬送ロボットや携帯電話の充電クレイドルなどで実用されています。本書では、回路構成の複雑さや効率の悪さ、異常発熱などの厄介さを押して、いまでも注目される非接触電力伝送の用途展開の背景となる“MUST 性”は何か、2007 年以後公開特許から探ります。
充電と電力線通信、FPD 電磁波ノイズの電力回生、コードレス医療機器の滅菌や非侵襲な医療機器など、商品開発の“MUST 性”発掘の参考になる種々の実例、約100 件を掲載しました。非接触電力伝送技術に携わるエンジニアの方はもちろん、営業および企画部門の方々にも是非ご覧いただきたい1冊です。

●調査対象 
 2007 年以後に公開された、非接触電力伝送技術に関する国内特許公報を対象にしています。スイッチング電源技術による一部のマイクロ波も含めた、コイルを用いた電磁誘導結合による、静電気や光などによらない非接触での電力伝送技術を対象としています。情報の伝達はノイズとして除外しています。

●技術分類 《用途でみた課題》
 電気自動車、産業用搬送機器、エレベータ、モバイル携帯機器の充電器、衣料や住設、医療介護機器など、《共通する技術要素》コア、巻線、結合トランス、電源共振回路、電力伝送と情報伝送機能の複合などを取り上げています。

●掲載企業 
 三菱重工業、(財)電力中央研究所、トヨタ自動車、豊田合成、村田機械、日立プラントテクノロジー、椿本チエイン、旭興産、三菱電機、東芝エレベータ、ソニー、東光、シャープ、米沢電線、コーニンクレッカ フィリップス、パイオニア、ボルテックス、大日本印刷、住友電気工業 など

●体裁
 A4判 約135頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年 8月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)効率化をねらう非接触電力伝送技術

●内容
 ワイヤレスに電力を送れる非接触電力伝送は、開発技術者にとってぜひ使ってみたい技術ですが、一方で、低効率、雑音発生など重大かつ本質的な課題があります。実際に最近の非接触電力伝送に関する特許をみると、効率アップのための現実的な改良や将来性を狙ったさまざまな発明が出願されています。本書では、主に電磁結合に絞って周波数や電圧を制御する効率改善や、二次側でのカプラの形状、材質の工夫なども取り上げます。実地でのカットアンドトライの具体例を最近の特許情報から選んで掲載しています。

●技術分類  
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています。
一次側の周波数と電圧による効率改善、二次側のL、C定数の調整や一次側への帰還による効率改善、一次と二次のコイル形状と材質(磁気回路による改良)、リニア駆動する走行機器での二次コイル形状、参考になる発明例

◆ 掲載企業◆(順不同)
日立機電工業、三菱電機、松下電器産業、松下電工、椿本チエイン、ソニー、豊田自動織機、村田機械、セイコーエプソン、三菱重工、シャープ、NECトーキン、大日本印刷、神鋼電機、三星電子、ダイフク、北伸電気、愛知電機、タムラ製作所、矢崎総業、古河電気工業、日立電線、JFEスチール、美和ロック、東光、米沢電線、大平電子、NEC、三岡電機製作所 ほか

●体裁
 A4判 117頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 12月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 光学フィルム シリーズ最新ディスプレイの複合機能フィルム 編

●内容
最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類  
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています
偏光フィルム、位相差フィルム、拡散シート、反射防止膜、光学フィルタ(カラーフィルタ、赤外線・熱線、電磁波シールド)、導電性フィルム(透明電極、帯電防止)、ガスバリアフィルム、新しい動き

●掲載企業 (順不同)
日東電工、住友化学、積水化学工業、JSR、富士フイルム、日本触媒、日本ゼオン、大日本印刷、凸版印刷、コニカミノルタオプト、日本カーリット、住友大阪セメント、シャープ 他

●体裁
 A4判 138頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年 6月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 光学フィルム シリーズ ナノテクノロジーと光学フィルム 編

●内容
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類  
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています
微粒子・ナノ粒子(金属・無機、高分子、有機無機ハイブリッド)、ナノチューブ ナノロッド ナノコイル(カーボン系、非カーボン系)、ナノポーラス、ナノインプリント その他(ミクロ相ナノ相分離、ナノインデンテーション硬度測定)

●掲載企業 (順不同)富士フイルム、三星電子、東レ、綜研化学、日本ゼオン、東洋紡績、セイコーエプソン、HOYA 他

●体裁
 A4判 約115頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年 6月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック機能からみた粘着 シリーズ 放射線硬化型粘着剤の応用技術 編

●内容
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類  
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

材料を混ぜる、層を重ねる、パターンを描く、材料特性を用途に利用、重合硬化の過程を利用、粘着力低減を利用、剥離性やシュリンク性などを利用、半導体ウェハのプロセスに応用

●掲載企業 (順不同)
日東電工、ディスコ、凸版印刷、日本カーリット、JSR、電気化学工業、古河電気工業、澁谷工業、エプソントヨコム、セイコーエプソン、松下電器産業、ソニー、日本触媒、 他

●体裁
 A4判 104頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年 7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)液浸露光シリーズ 露光装置の技術革新 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

露光装置の技術革新 編

●技術分類 
液体供給系、液のクリーン化・マイクロバブル低減、液温コントロール、光学系・光学素子、モニタリングその他

●関連キーワード 
 投影光学系、パターン付与、液体、気化抑制、液のクリーン化、液体供給系、基板テーブル、測定系、投影系、露光、ビーム、投影ビーム角、屈折率、メニスカス、有効開口数、有効NA、レンズ表面曇り、レチクル、レチクルステージ、ワークステージ、解像度、光学素子、液浸液、供給圧力、間隔(ギャップ)、回収圧力、など

●掲載企業 
 JSR、キヤノン、ソニー、旭硝子、ニコン、ニコンエンジニアリング、東京エレクトロン、ルネサステクノロジ、東芝、松下電器産業、大日本スクリーン製造 他

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)液浸露光シリーズ 材料技術革新 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

露光装置の技術革新 編
●技術分類 
液浸露光用レジスト材料、トップコート材料、液浸液、他の樹脂組成物

●関連キーワード 
液浸液、現像欠陥、粒子凝集防止、投影光学露光、レジスト材料、ポジ型レジスト、レジスト組成物、PED特性、パターン形成、酸発生化合物、極性分子、液状媒体、感度劣化抑制、静的接触角、溶出抑制、活性ビーム、放射線、樹脂成分、アルカリ可溶性基、水素原子、酸解離性溶解抑制基、耐水性、トップコート、疎水性、など

●掲載企業 
JSR、IBM、キヤノン、セントラル硝子、ダイキン工業、ダイセル化学工業、住友ベークライト、東京応化工業、旭硝子、ADEKA、ルネサステクノロジ、京セラケミカル、三星電子、三菱瓦斯化学、住友化学、松下電器産業、信越化学工業、大日本印刷、東京応化工業、日本電信電話、東京農工大学、日立化成工業、富士写真フイルム、富士通 ほか

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)液浸露光シリーズ プロセス技術革新 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

プロセス技術革新 編

●技術分類 
露光方法、液浸領域形成、欠陥低減・気泡抑制、プロセスの工夫、検査・in situ monitor、塗布・現像、生産性向上、その他

●関連キーワード 
(投影)露光、ビーム、感度、ラフネス、解像度、パターン依存性、光学素子、液浸液、供給圧力、間隔(ギャップ)、回収圧力、差圧、撥水性、保護膜、バリア膜、塗布、現像、洗浄、反射防止膜、浸液量、収差低減、基板、液滴、流体、レンズ、溶出酸、パターン形状、架橋剤、アルカリ水溶液、樹脂水溶液、微細パターン、など

●掲載企業 
JSR、キヤノン、ソニー、ダイキン工業、旭硝子、ニコン、ルネサステクノロジ、大日本印刷、東芝、日立ハイテクノロジーズ、横浜国立大学、ユニチカ、三菱電機、松下電器産業、大日本スクリーン製造、東京エレクトロン、東京応化工業、日本電信電話、富士写真フイルム 他

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック ミクロ・ナノ界面におけるゼータ電位の制御

●内容
 固・液体界面における電気化学現象に大きく係わるゼータ電位は、さまざまな応用分野で実用的な観点から注目される技術要件です。本書では、ゼータ電位の利用や制御方法に関する2005年以後の公開特許を対象にし、材料、プロセス、応用用途などの切り口からゼータ電位の係わりを多角的に探り、参考になる種々の実例約100件を掲載しました。ゼータ電位に深く係わるお仕事にたずさわる技術者・関係者はもちろん、取り付きにくい概念として敬遠しがちの方々にもご関心を拓いていただけるお役立ちの1冊として是非ご覧ください。

●技術分類 
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

微粒子・ナノファイバー、化学品(医薬品・化粧品等)、トナー、インクジェット、研摩(CMP)、電池電極、クリーン化・洗浄、水処理、その他(塗料・塗装、紙、帯電防止、計測等)

●掲載企業(順不同)
三菱化学、豊田中央研究所、日立粉末冶金、扶桑化学工業、ナノフェイズテクノロジーズ、リコー、ロレアル、ダウ・コーニング、富士ゼロックス、日本ゼオン、ノーリツ鋼機、ソニー、デグサ、キャボット、日本製紙、富士フイルム、コニカミノルタ、オーウエル、栗田工業、旭化学クリーン化学、東レ、日立化成 他

●体裁
 A4判 約129頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年 9月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)ナノインプリント技術シリーズ 米国特許にみるナノインプリント半導体生産技術

●内容
米国特許は世界の最先端技術を反映。世界の一流企業の動向がわかります。
米国特許から“ナノインプリントによる半導体生産技術への挑戦”を探ります。

●対象技術
高性能半導体集積回路の高歩留、高スループットを実現する生産技術としてナノインプリントが注目されています。このガイドブックでは2000年以後の最近の米国特許でナノインプリント半導体製造プロセスを探ります。関連の深い有機ELやLCDの薄膜トランジスタやMEMS、化合物半導体オプトエレクトロニクスに関するプロセス技術も取り上げています。最先端の半導体ナノインプリント技術を知る上で役立つ資料です。

●対象技術
ナノインプリントによる微細パターンの形成プロセス、エッチングとの複合プロセス、導体配線・接続プロセス、デバイス構造と全体プロセス、ナノインプリント装置と金型、酸化膜とLow-k膜、半導体プロセスの参考になる特許情報

●体裁
 A4判 177頁

●価格
 定価 94,500円(本体90,000円)

●発刊
2008年 2月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)ディスプレイの熱対策シリーズ 熱伝導メカを工夫したFPDの放熱技術 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

熱伝導メカを工夫したFPDの放熱技術 編
●技術分類 
パネルや回路部品、液晶バックライト、液晶バックライトの光源LED化、プラズマディスプレイ、有機ELパネル/発光ダイオード、電界放出ディスプレイ(FED/SED)と電気泳動

●関連キーワード 
シャーシ放熱、背面接触、電磁波ノイズ、放熱テープ、フレキシブル基板、半導体チップ、駆動回路、ヒートシンク、冷却ファン、放熱容量、共用ヒートシンク、放熱板、モジュール、折りたたみ、インテリジェントパワーモジュールIPM、プリント基板、騒音遮断、補強フレーム、熱伝導シート、薄型化、べゼル、バックライトアセンブリ、蛍光ランプ、熱集中、平板蛍光ランプ、画素間温度ムラ、サイドライトユニット、放熱カバー、発光ダイオードLEDチップ、熱伝導性接着剤、LEDアレイ、カラーフィルタ、バックパネル密着、ヒートパイプ、熱伝導率、PDP、チップ放熱シート、熱伝導性クッション剤、保護プレート、振動減衰、面接触、ホーロー基板、熱の通路、熱放散パッド、TFT、コア金属、有機EL、FED、隔壁 など

●掲載企業 
東芝、松下電器産業、大日本印刷、大万、東芝松下ディスプレイテクノロジー、
NEC液晶テクノロジー、三星エスディアイ、三星電子、シャープ、セイコーエプソン、日立、日本精機、NECインフロンティア、カシオ計算機、京セラ、昭和電工、アルプス電気、デンソー、サミー、ミネベア、日立ディスプレイズ、フジクラ、富士ゼロックス など
●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)ディスプレイの熱対策シリーズ FPDモニタの熱対策 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

FPDモニタの熱対策 編
●技術分類 
FPDモニタの熱対策、キャビネットと自然対流、ファン冷却、ヒートパイプ組込み、熱対策部品・材料の活用、液冷・循環冷却

●関連キーワード 
 映像・音響対応のファン運転、モニタフレーム構造、熱移動量表示熱解析プログラム、
パネル温度ムラ補正、バックライト洩れ光対策、バックライトアセンブリ取付構造、プリント基板空気流路、フィンや気流流路、ファン故障対策、ファン静粛化、防塵対策、ヒートパイプの取付角度、薄型ヒートパイプ、ヒートパイプを使った熱経路、ヒートパイプへの伝熱、熱伝導シート、蓄熱剤の利用、ヒートスプレッダ、熱電変換、冷却流体、循環流体 など

●掲載企業 
 ソニー、シャープ、松下電器産業、コニカミノルタホールディングス、三星エスディアイ、パイオニア、船井電機、アルゼ、富士ゼロックス、平和、ファナックル、三洋電機、シチズン電子、京セラ、古河スカイ、セイコーエプソン、エルジー電子、東京電力、IBM、富士通テン、デンソー、昭和電工、
リコー など

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)タッチパネル技術シリーズ タッチパネルの振動・超音波・弾性波の利用 編

●内容
 タッチパネルは情報が限定された入力端末としてキーボードに代わり広く利用されています。このパネルの中には数々の発明が織り込まれていて、パネルの明るさを減ずることなく、検知精度の向上と振動・触感により反応を返すなど、用途に応じた改良もなされています。本書は特許情報から、多分野の技術者の努力を学び、開発と設計の一助としてご活用いただきたい一冊です。

●技術分類 
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

振動パネル、高精度の位置検知、製造上の工夫、振動+α、表示の工夫、機能向上、その他(参考)

●掲載企業(順不同)
セイコーエプソン、ソニー、富士通、松下電器、日立、シャープ、デンソー、沖電気、キヤノン、富士ゼロックス、ペンテル、アルパイン、京セラ、トヨタ、マツダ、ブリジストン、NEC、リコー、パイオニア 他

●体裁
 A4判 178頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年 1月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) Ultra Low-k シリーズ デバイス編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

デバイス 編
●技術分類
1.Cu拡散防止 2.はがれ防止 3.信頼性向上 4.内部応力低減 5.歩留向上 6.耐性向上ガードリング7.評価方法 8.ゲート周辺 9.デバイス応用

●対象技術
Cu/Ultra Low-k 多層配線の高速ロジックなどへの応用を取り上げています。

●掲載企業
松下電器産業、東芝、ルネサステクノロジ、IBM、ソニー、三菱電機、NEC エレクトロニクス、三星電子ほか

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 11月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)TFT製造技術シリーズ TFT用の結晶化技術 編

●内容
●テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

TFT用の結晶化技術 編

●技術分類 
 レーザ結晶化、熱処理結晶化、結晶化プロセス、結晶化技術を使用したTFT、その他

●関連キーワード 
 結晶粒、非晶質シリコン、ギャッピング層、金属触媒層、レーザービーム、結晶化、SGS法、選択的照射、ラテラル成長位置、半導体膜、反射膜、レーザー光、再結晶化、多結晶シリコン、溶融シリコン層、方位制御、チャネリング方位、結晶方位、結晶格子、結晶化温度、熱処理、絶縁基板、電子移動度、スパッタリング、ターゲット、真性酸化亜鉛、上層絶縁膜、コンタクトホール、チャンネル長、チャンネル幅、シリコンナノワイヤー、表示品質の向上、プラズマCVD法、エキシマレーザー、非晶質シリコン膜、多結晶シリコン膜、金属触媒、電気光学装置 など

●掲載企業 セイコーエプソン、半導体エネルギー研究所、日立ディスプレイ、液晶先端技術開発センター、シャープ、大日本印刷、三星エスディアイ など

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) TFT製造技術シリーズ TFT半導体層のキーマテリアル 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

TFT半導体層のキーマテリアル 編

●技術分類 レーザ結晶化、熱処理結晶化、有機半導体材料、有機半導体形成方法、有機絶縁膜層、金属酸化物層、その他の材料

●関連キーワード 
 結晶粒、非晶質シリコン、ギャッピング層、金属触媒層、レーザービーム、結晶化、SGS法、選択的照射、ラテラル成長位置、半導体膜、反射膜、レーザー光、再結晶化、多結晶シリコン、溶融シリコン層、方位制御、チャネリング方位、結晶方位、結晶格子、結晶化温度、熱処理、絶縁基板、電子移動度、チオフェン-チアゾール誘導体、常温スピンコーティング、有機薄膜トランジスタ、有機半導体、分子量の適正化、重量平均分子量、チオフェン骨格、金属粒子、チャンネル層、キャリア移動度、ON/OFF比、カーボンナノチューブ、など

●掲載企業 
 三星エスディアイ、半導体エネルギー研究所、日立ディスプレイ、液晶先端技術開発センター、セイコーエプソン、シャープ、松下電器産業、キヤノン、リコー、旭化成、カシオ計算機 など

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)TFT製造技術シリーズ TFT最新プロセス 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

TFT最新プロセス 編
●技術分類 
 コスト低減・生産性向上、歩留・信頼性向上、特性向上、結晶化プロセス、パターン形成、インクジェットプロセス、印刷・塗布、転写・剥離

●関連キーワード 
 発光効率、カルバゾール化合物、正孔の注入、高分子発光体、末端基、発光層、偏光発光体、色変換効率、蛍光色素、無機酸化物媒体、分散、透明電極、水分の影響、シール材、フレキシブル、アクティブ駆動方式、張り合わせ、インクジェット法、機能膜、薄膜トランジスタアレイ基板、有機エレクトロルミネセンス表示装置、バンク、転写層、発光ディスプレイ、凸版反転印刷法、コーティング、ブランケット、押圧、輝度ムラ、電圧-輝度特性、ダミー領域、有機発光体層、印圧、被印刷体、底面発光型、透明電極、平坦化膜、など

●掲載企業 
 半導体エネルギー研究所、セイコーエプソン、シャープ、ヒュレットパッカード、キヤノン、三菱電機、カシオ計算機、ソニー、三星電子、日立ディスプレイ、凸版印刷、コニカミノルタホールデイングス など

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)TFT製造技術シリーズ TFT最新デバイス・構造 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

TFT最新デバイス・構造 編

●技術分類 
コスト低減・生産性向上、歩留・信頼性向上、特性向上、CMOS化・積層化、有機TFT

●関連キーワード 
 チャンネル長、低コスト、チャンネル層、連続的に形成、中間洗浄工程、触媒元素、製造費用、線状半導体、ゲート誘電体材料、低抵抗のソース、ドレイン、損傷、耐熱性材料、光反射性金属、複層構造、点欠陥、線欠陥、コンタクト不良、高い信頼性、TFT基板、共通ゲート、論理素子、P-チャンネルトランジスタ、N-チャンネルトランジスタ、ショットキー障壁誘発物質、CMOS薄膜トランジスタ、チャンネル形成領域、LDD領域、結晶性珪素膜、積層素子、集積化、テーパー状、層間絶縁膜、リーク電流、ゲート絶縁層 など

●掲載企業 
ソニー、ゼロックス、三星電子、シャープ、大日本印刷、セイコーエプソン、リコー、三星エスディアイなど

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック LED照明 シリーズ LED照明の点灯回路 編

●内容
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類 
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

 使いやすさ(ユーザインターフェース、調光、色調)、電源(AC駆動-位相制御、DC-DCステージ)、制御(電流制御、光量検出、フィードバック、デジタル制御、温度補償)、保護・安全、その他(実装)

●掲載企業(順不同)
松下電工、東芝ライテック、コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス、エヌ ヴィ、松下電器産業、ローム、ミツミ電機、スタンレー電気、アルパイン、 他

●体裁
 A4判 127頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年 9月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック LED照明 シリーズ LED照明の調光技術 編

●内容
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類 
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

 パルス幅制御による調光、自動調光、簡易調光、受動的調光、レトロフィットや蛍光灯との組合せ、現実的な課題、いろいろな調光の用途展開

●掲載企業(順不同)
 
 松下電工、デンソー、ソニー、コニカミノルタホールディングス、東芝ライテック、松下電器産業、シャープ、東芝、シーシーエス、サムソン エレクトロ-メカニックス カンパニーリミテッド 他

●体裁
 A4判 138頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年 9月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 半導体製造プロセス シリーズ CMP(化学機械研磨)デバイス技術 編

●内容
 半導体デバイスの加工寸法の微細化、集積の高密度化は益々進む一方です。それを横方向、縦方向に切り分けて考えると横方向の微細化の進み具合に比較して、縦方向の微細化はさほど進まないために半導体デバイスの表面は高アスペクト化が進むことになります。この傾向は半導体デバイスの微細加工のツールとなるリソグラフィー技術にとって好ましい傾向ではありません。なぜならば、パターンを焼き付ける寸法が微細になるほど焦点深度は小さくなり、高アスペクトの表面にパターンが形成できなくなるためです。そのためにデバイス表面の平坦化は必須になります。また、半導体デバイスのシステム化が進展しており、メモリーやロジックの混載デバイスが多くなっており、これらの製造プロセスでも加工面の平坦化が必要になっております。
  CMPはこの平坦化を半導体デバイス上で実現する唯一の手段と言っても過言ではありません。この冊子では各種半導体デバイスへのCMPの応用という切り口から公開特許情報をまとめてみました。技術上の分類はわかりやすさを考慮して
1) DRAM応用
2) 従来型NVM応用
3) MRAM応用
4) PRAM応用
5) その他のデバイス
6) STI
7) ゲート電極
8) Cu/low-k多層配線
9) 配線形成
としました。
 
CMPプロセスの半導体デバイスへの応用を研究、開発されている第一線の技術者の方には実戦的、即効的なヒントになり、全体の流れをつかむ上でも参考になるものと思います。

●体裁
 A4判 約220頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 5月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック) 放熱技術 シリーズ 電源・インバータの熱対策 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

電源・インバータの熱対策 編

●技術分類 
1.機構設計による放熱技術(1)熱伝導による放熱技術(2)冷却フィンによる放熱技術(3)空冷ファンによる放熱技術(4)液冷による放熱技術(5)トランス/コンデンサの放熱技術(6)関連する放熱技術
2.回路設計による熱対策(1)発熱低減の熱対策(2)異常保護の熱対策(3)関連する熱対策

●対象技術 
 スイッチング電源やインバータでは、熱を逃がす放熱技術だけでなく、発熱量を抑える熱対策も重要です。ここでは、機構設計による放熱技術と、回路設計による熱対策に大きく分けています。機構設計による放熱技術では、電源機器に欠かせないヒートシンクや基板放熱、ヒートパイプやブスバーなどを使う熱伝導など、放熱フィンやファン、液冷などを取り上げています。回路設計による熱対策では、電力変換の高効率化にも係わる発熱損失の低減回路技術、加熱異常などの安全対策のほか、熱設計ソフト技術なども取り上げています。

●掲載企業 三菱電機、東芝、日産自動車、デンソー、トヨタ自動車、松下電器産業、TDK、富士電機機器制御、船井電機、サンケン電気ほか

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 12月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)放熱技術 シリーズ モーターの熱対策 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。
モーターの熱対策 編

●技術分類
 熱伝導・ヒートパイプによる放熱技術、空気流の設計・冷却ファンの運転制御と寿命対策、水や油による液冷と循環構造、制御技術を使った発熱低減や過熱対策、熱の遮断や新部品・素材の活用

●対象技術
 EVインホイール用ヒートパイプ、真空用リニアスライダー、高速ポリゴンミラー用メタル基板やHDD用ベアリングブッシュによる放熱構造、モータハウジングやコンプレッサの液冷構造、パワーコントロールユニットの冷却などのほか、もとの発熱を抑える運転制御方法や冷却ファン制御、低損失運転、過熱や異常温度保護対策など、最近の小型・高効率化するモータの熱対策を取り上げます。

●掲載企業
ミネベア、日本電産、日立製作所、サンデン、本田技研工業、富士重工業、トヨタ自動車、ダイムラークライスラー、キャタピラー ほか

●体裁
 A4判 約100頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 12月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)不揮発性メモリ シリーズ 製造プロセス、NVM メモリセル・回路 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。
製造プロセス、NVM メモリセル・回路 編

●対象技術 
 本レポートでは2006年度の公開特許情報から主としてFG型フラッシュメモリのプロセスや不揮発性メモリのセル構造、機能性にすぐれたメモリ回路などを中心に取り上げました。プロセス関連ではビット・コンタクト不良の対策や混載の課題などに加え、信頼性や生産性向上に関するものが多く見られます。後者ではメモリセル構造、セルアレイの規則性、セルレイアウトなどに関し、ブロック消去や信頼性や生産性など多様な課題に対応した出願があります。

●掲載企業 
 NECエレクトロニクス、シャープ、ハイニックスセミコンダクター、ルネサステクノロジ、三星電子、松下電器産業、東芝、東芝マイクロエレクトロニクス、富士通 ほか

●体裁
 A4判 約 90頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 4月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)半導体製造プロセス シリーズ CMP(化学機械研磨)パッドとスラリー 編

●内容
 CMPは、ULSIプロセスでは必要不可欠なプロセスですがスラリーと呼ばれる研磨剤をプラテン上にはりつけたパッド上に供給し、ウェハーのCMPを行うものです。スラリーはCMPの速度や選択比、面内の均一性などの重要な因子であり、一方、パッドもエッジ効果や面内均一性、ディシングやエロージャンなどを防止する上でも欠かせないものです。CMPの対象となる材料はさまざまあるので、その最適解を求めて化学素材メーカを中心にいろいろな企業が参入しています。
 本書は、そのように、最近特許出願の多いCMP用パッドとスラリーに焦点をあてたものです。2004年8月以降に出願されたものから、1)スラリー材料、2)スラリー供給法、3)パッド材料、4)パッド調整法、5)その他に分類して、実例をもとに分かりやすくまとめています。CMP用のパッドやスラリーの開発に従事している方、CMP装置の開発に従事している方、半導体メーカでCMPプロセスを担当している方には実戦的、即効的なヒントになり、また全体の技術の流れを捉えようとしている方にも役立ちます。

●この資料集で取り上げた発明が解決しようとしているCMPパッド・スラリーの課題は、主に以下のようなものと考えられます。
・被CMP材料に適したスラリー材料
・被CMP材料に適したパッド材料
・スラリーの安定供給、凝集防止
・パッドの簡便かつ適確な調整法およびその評価法
・エッジ効果の防止
・パッドやスラリーのリサイクル
・パッドを通した終点検出モニタ

●体裁
 A4判 約174頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 5月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)導電性有機材料技術シリーズ 有機TFTへの応用 編

●内容

◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

有機TFTへの応用 編
●技術分類 材料、プロセス、構造、パネル応用

●関連キーワード 有機薄膜トランジスタ、オノオフ比、低コスト、大面積、重量平均分子量、平板表示装置、PPV系化合物、分子設計、高耐久性、スイッチング素子、オリゴマー、ポリマー、オリゴセン、ペンタセン、チオフェン、ゲート絶縁膜、ポロパラキシレン誘導体膜、液晶表示素子、背面露光、有機アクティブ層 など

●掲載企業 リコー、コニカミノルタ、三星エスディアイ、東洋インキ製造、松下電器産業、キヤノン、凸版印刷、半導体エネルギー研究所、日立ディスプレイズ、住友化学、富士電機、三星電子、エルジーフィリップスエルシーデー など

●体裁
 A4判 約50頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)導電性有機材料技術シリーズ 有機ELへの応用 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

有機ELへの応用 編
●技術分類 発光体、色変換、プロセス、素子構造、パネル、ディスプレイ、その他

●関連キーワード 発光効率、カルバゾール化合物、正孔の注入、高分子発光体、末端基、発光層、偏光発光体、色変換効率、蛍光色素、無機酸化物媒体、分散、透明電極、水分の影響、シール材、フレキシブル、アクティブ駆動方式、張り合わせ、インクジェット法、機能膜、薄膜トランジスタアレイ基板、バンク、転写層 など

●掲載企業  松下東芝映像ディスプレイ、出光興産、シャープ、コニカミノルタ、相互薬工、住友化学、凸版印刷、富士フイルム、半導体エネルギー研究所、三星電子、三星エスディアイ、日本放送協会、ソニー、カシオ計算機、東芝松下ディスプレイテクノロジー、セイコーエプソン など

●体裁
 A4判 約90頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)導電性有機材料技術シリーズ 印刷プロセス 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

印刷プロセス 編
●技術分類  凸版、ブランケット、パターン形成、ロールツーロール、有機EL、有機TFT、TFT、その他

●関連キーワード  ピンホール、塗膜均一性、エッチング耐性、剥離性、接触角、凸版反転オフセット、シリカゾル、高寸法精度、ターンのブランケット形成、熱膨張係数、平均粗さ、転写、有機EL 、水溶性粘着剤、タック性、版の洗浄、不純物混入、レジスト割れ、印刷インキ、反転オフセット印刷、凸版反転オフセット、再利用 など

●掲載企業  凸版印刷、日立化成、リコー、大日本印刷、NEC液晶テクノロジー、半導体エネルギー研究所、シャープ、セイコーエプソン、三井化学、パイオニア、ローム、日本精機、コニカミノルタ、日立ゼロックス など

●体裁
 A4判 約70頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2007年 3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)プロジェクタシリーズ 投射角・スクリーン 編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

投射角・スクリーン 編

●技術分類 インタラクティブ・制御・非スクリーン/3D・立体状/反射型(拡散・回折・反射)/透過型(フレネル・レンチキュラー)/レンズ基板・マイクロレンズ・ミラー/偏光/その他


●対象技術 プロジェクタ用スクリーンは、ヒトの視覚特性とデジタル光処理技術の融合が進み、革新的な三次元的の視覚効果を狙ったものが増えてきています。システムとしてインタラクティブに機能する傾向も見て取れます。

●掲載企業  ソニー、デンソー、松下電器産業、オリンパス、大日本印刷、セイコーエプソン、キャノン、旭硝子、凸版印刷、日立製作所、コニカミノルタオプト、プラスビジョン、きもと など

●体裁
 A4判 約121頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 10月

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック(旧:技術者・研究者のための テクノロジー情報ガイドブック)Ultra Low-k シリーズ 材料編

●内容
◆テクノロジー情報ガイドブックシリーズの特徴◆
 最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。全体を俯瞰する技術分類から、目的の情報をすばやく閲覧できます。特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を知るガイドとして有用です。

材料 編
●技術分類 1.新規材料 2.ポリマー系 3.環状シロキサン 4.有機シラン系 5.多相系 6.ポラジン7.かご型構造 8.ポロジェン 9.ベンゾオキサゾール 10.強度向上 11.エッチングストッパー12.その他

●対象技術 プロセスとデバイスに向き合う多様なUltra Low-k 材料の展開を取り上げます。

●掲載企業  富士通、IBM、信越化学、東京応化工業、三菱電機、富士写真フイルム、住友ベークライト、松下電器産業ほか

●体裁
 A4判 約150頁

●価格
 定価 52,500円(本体50,000円)

●発刊
2006年 11月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック有機EL技術シリーズ 有機EL照明の実用化技術 編

●内容
■■特許情報は技術課題と開発の現状把握に役立ちます■■

 技術テーマを具体的に絞り、技術開発最前線がどうなっているか、大切な技術成果を知財にどう反映させているか、「特許」と「技術」の双方を見渡すガイドとして直近の特許情報から典型例約100件を集めたガイドブックです。自己の課題の相対的位置を知りこれからの方向を考える資料として、また簡易な特許調査としてご活用ください。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

・有機EL素材
・生産プロセス
・デバイス構造
・照明パネル
・点灯回路
・特殊光源

●掲載企業(順不同)
コニカミノルタホールディングス、パナソニック電工、半導体エネルギー研究所、オスラムオプトセミコンダクターズ、豊田自動織機、三洋電機、セイコーエプソン、コイズミ照明、他

●体裁
 A4判 114頁

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年3月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 有機EL技術シリーズ 有機ELの塗布技術 編

●内容
 これからの大面積有機ELアプリケーションのために、塗布型有機EL素子の高効率化、超寿命化が求められています。
 本書では、塗布用材料から成膜プロセス、装置など、有機ELの塗布技術に係る関連技術を最新特許から俯瞰しました。

■■特許情報は技術課題と開発の現状把握に役立ちます■■

 技術テーマを具体的に絞り、技術開発最前線がどうなっているか、大切な技術成果を知財にどう反映させているか、「特許」と「技術」の双方を見渡すガイドとして直近の特許情報から典型例約100件を集めたガイドブックです。
 自己の課題の相対的位置を知りこれからの方向を考える資料として、また簡易な特許調査としてご活用ください。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています
・塗布用材料(成膜用組成物、塗布液)
・成膜工程(親液・撥液処理、パターン形成、機能膜形成)
・装置、製法
・その他

●掲載企業(順不同)
コニカミノルタ、キヤノン、三菱化学、三星SDI、日産化学工業、旭化成、カシオ計算機、住友化学、半導体エネルギー研究所、セイコーエプソン、大日本印刷、凸版印刷、大日本スクリーン製造、メルク 他


●体裁
 A4判 92頁

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年5月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック特許にみる日本型スマートグリッド次世代分散発電が生み出すビジネスチャンス

●内容
 日本型スマートグリッドでは、太陽光分散発電の導入や電気自動車の普及などにより、さらなるコスト低減と利便性の向上に着手しています。本冊子では2000 年以後に公開された特許情報から、最適電力需給制御システムや遠隔検針データ分析、インテリジェントメータから車両充電管理などのほか、PLC電力線通信技術にまでの多様な技術分野に広がる新しいビジネスチャンスへの取り組み例を紹介しています。

■■特許情報は技術課題と開発の現状把握に役立ちます■■

 技術テーマを具体的に絞り、技術開発最前線がどうなっているか、大切な技術成果を知財にどう反映させているか、「特許」と「技術」の双方を見渡すガイドとして直近の特許情報から典型例約100 件を集めたガイドブックです。自己の課題の相対的位置を知りこれからの方向を考える資料として、また簡易な特許調査としてご活用ください。

●技術分類
 ※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています
・環境と電力マネージメント
・要素データの測定
・要素データの伝送
・PLC(電力線通信)
・参考

●掲載企業(順不同)
日立製作所、東芝、大阪瓦斯、松下電工、中国電力、松下電器産業、三菱電機、シャープ、日本電気、東京電力、リコー、富士通、富士ゼロックス、日本電気エンジニアリング、東光電気、三菱マテリアル、デンソー、他

●体裁
 A4判 137頁

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年7月


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特許CDファイル 色素増感型太陽電池の電解質

●内容
★色素増感型太陽電池の重要要素を分析!
★マニュアル査読で詳細分類を付与しています!
★第一線の研究開発技術者にすぐに役立つ特許データ!
★該当特許一覧表(Excel)、全文PDFデータを収録!

●掲載特許情報
2000年~2009年3月までに発行された国内公開特許情報382件を収録しています。
 
●技術分類
 ※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています電解質の種類別の分類を付与しています。

 ・溶融塩電解質
 ・電解液
 ・非水電解液
 ・ゲル状固体電解質
 ・ポリマー電解質体
 ・固体電解質
 
●掲載企業(順不同)
富士写真フイルム(富士フイルム)、シャープ、産業技術総合研究所、新日本石油、
セイコーエプソン、日東電工、トクヤマ、日立マクセル、フジクラ、第一工業製薬、東芝、ブリヂストン、アイシン精機、キヤノン、三菱製紙、豊田中央研究所、日本触媒、日本化薬、日本カーリット、松下電工、ダイキン工業、ソニー、東洋インキ製造、三菱化学、ダイソー、東ソー、出光興産、三洋化成工業、東京大学 京セラ、凸版印刷、九州工業大学、関東電化工業 他

●体裁
 CD-ROM

●価格
 定価84,000円(本体80,000円)

●発刊
2009年4月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

----------------------------------------
■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

 会社名:
 所在地:
 部署名:
 氏 名:
 TEL:
 FAX:
 E-mail:

専門技術からみた登録特許データ 第3巻 有機ELデバイス構造 編

●内容
有機ELの製品開発は実用段階に入りました。それに従い、産業の川上では発光材料や電極材料、封止材料など、有機ELに関連する各種の材料技術に関連する特許情報が公開され、一部は権利化された登録情報として特許公報が発行されています。同じように、川下でも有機ELの表示や照明に関する回路技術のほか、さまざまな用途や川下展開に関連する特許情報などが、多量に発行されています。
技術の成熟とともに権利侵害に対する守りが重要になってきます。また、技術の進歩とともに特許取得の判断材料としての登録特許データの利用価値も高まります。
このCD「専門技術からみた登録特許データ」は、侵害防止のための調査資料や競合他社の特許分析、あるいは、権利取得のためのデータ集として、ご利用いただくことを目的としています。当社の技術スタッフが、約5,400件の有機ELに係わると思われる登録特許情報を検索し、一件一件を査読して約4,500件を抽出して有機EL登録特許の母集団を作りました。その上で、有機ELに欠かせない技術的観点として、①材料技術、②製造技術、③デバイス構造、④回路技術、⑤照明技術、⑥その他関連情報の6つの束に分け、技術観点別に見ておくべき登録情報を束として取り纏めた登録特許データ集です。有機EL特許調査の基礎資料としてご利用ください。

●調査対象とした技術、取り上げた特許◆
このCD「専門技術からみた登録特許データ」では、基本的に、有機ELに係わる登録特許を調査対象としています。電流駆動型の有機ELが対象であり、電界駆動型の無機ELは取り上げていません。

この第3巻では有機ELの個々のデバイス(素子)構造に特徴がある技術を対象にしています。収録件数は1089件です。有機ELは本来、シンプルなデバイス構造が特徴です。しかし、表示や照明などの目的によってデバイス構造が多様に変化するだけでなく、利用する材料によっても物性がもつ特異性などを反映してデバイス構造は多様に変わります。これらの技術的要因に加えて特許取得上での知財的要因が重なり、実際の登録特許情報には特徴的なデバイス構造を見ることができます。なお、LCDの電極接続やアクティブマトリクス構造などで有機ELと特定されていない特許情報や、他の有用と思われる関連情報は「その他」として含めています。

【採否判断の基準例】
●特許請求の範囲(クレーム)の記載に基づいて採否を判断しています。
権利範囲が有機ELに及ぶ可能性がある特許は取り上げています。例えば、クレームに「薄膜EL」と記載されていても有機ELに権利範囲が及ぶ可能性がある場合には、取り上げています。また、将来的に有機ELに係わると思われる特許も、同様に、権利判断を重視して取り上げています。

●有機ELに係わりがない明らかなノイズ情報を除いています。
クレームに無機ELである旨の明確な記載がある場合、あるいは、絶縁層を介在する電界駆動型発光層(分査型を含む)はノイズ情報として除去しています。

●判断に迷う場合の取り扱い。
当社技術スタッフが明細書の記載等を参考に判断しました。

●調査対象とした特許情報
特許権の存続期間に照らして出願日遡及20年間の国内公告・登録特許を調査対象にしています。すなわち1989(H1)年1月1日以後の特許出願で、2009年(H21)4月30日までに発行された分を対象にしています。なお、実用新案は含めていません。

●検索式
国際特許分類(IPC)[※1]を基軸としてキーワードで絞り込む検索式[※2]と、キーワードのみによる補完検索式を併用し、両者の論理OR集合を査読データの母集団としています。
[※1]…H05B33/*(エレクトロルミネッセンス光源)、H01L51/5*(光放出に特に適用されるもの)などを用いています(*は前方一致の意)。
[※2]…有機EL、EL素子、EL発光、EL表示、ELディスプレ、OLED、エレクトロルミ、有機ルミネ、有機発光、電場発光、電界発光、有機電界、有機電場、高分子発光、高分子エレクトロルミ、高分子EL、高分子EL、高分子ルミネ、高分子電界、高分子電場などを用いています(*は前方一致の意)。

●収録データ
(1) 該当特許一覧表(Excel、全文公報明細書PDFをリンク)
(2) 全文公報明細書PDF


●体裁
CD-ROM

●価格
 定価84,000円(本体80,000円)

●発刊
2009年6月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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専門技術からみた登録特許データ 第2巻 有機EL製造技術 編

●内容
 有機ELの製品開発は実用段階に入りました。それに従い、産業の川上では発光材料や電極材料、封止材料など、有機ELに関連する各種の材料技術に関連する特許情報が公開され、一部は権利化された登録情報として特許公報が発行されています。同じように、川下でも有機ELの表示や照明に関する回路技術のほか、さまざまな用途や川下展開に関連する特許情報などが、多量に発行されています。技術の成熟とともに権利侵害に対する守りが重要になってきます。また、技術の進歩とともに特許取得の判断材料としての登録特許データの利用価値も高まります。
 このCD「専門技術からみた登録特許データ」は、侵害防止のための調査資料や競合他社の特許分析、あるいは、権利取得のためのデータ集として、ご利用いただくことを目的としています。当社の技術スタッフが、約5,400件の有機ELに係わると思われる登録特許情報を検索し、一件一件を査読して約4,500件を抽出して有機EL登録特許の母集団を作りました。その上で、有機ELに欠かせない技術的観点として、①材料技術、②製造技術、③デバイス構造、④回路技術、⑤照明技術、⑥その他関連情報の6つの束に分け、技術観点別に見ておくべき登録情報を束として取り纏めた登録特許データ集
です。有機EL特許調査の基礎資料としてご利用ください。

●調査対象とした技術、取り上げた特許
このCD「専門技術からみた登録特許データ」では、基本的に、有機ELに係わる登録特許を調査対象としています。電流駆動型の有機ELが対象であり、電界駆動型の無機ELは取り上げていません。
この第2巻では有機ELの製造工程に着目した製造技術を対象にしています。収録件数は841件です。各種の有機ELデバイスの生産に用いられる共通的、汎用的なプロセス技術に着目しています。例えば、蒸着やインクジェット、印刷転写、粘着積層、自己組織化などです。なお、個々のデバイス構造に特異な製造方法は、「第3巻 デバイス構造」に収録しています。また、製造技術に関連して有用と思われる情報は「その他」としてデータに含めています。

【採否判断の基準例】
●特許請求の範囲(クレーム)の記載に基づいて採否を判断しています。
権利範囲が有機ELに及ぶ可能性がある特許は取り上げています。例えば、クレームに「薄膜EL」と記載されていても有機ELに権利範囲が及ぶ可能性がある場合には、取り上げています。また、将来的に有機ELに係わると思われる特許も、同様に、権利判断を重視して取り上げています。

●有機ELに係わりがない明らかなノイズ情報を除いています。
クレームに無機ELである旨の明確な記載がある場合、あるいは、絶縁層を介在する電界駆動型発光層(分査型を含む)はノイズ情報として除去しています。
●有機ELに係わりがない明らかなノイズ情報を除いています。
クレームに無機ELである旨の明確な記載がある場合、あるいは、絶縁層を介在する電界駆動型発光層(分査型を含む)はノイズ情報として除去しています。

●判断に迷う場合の取り扱い。
当社技術スタッフが明細書の記載等を参考に判断しました。

●調査対象とした特許情報
特許権の存続期間に照らして出願日遡及20年間の国内公告・登録特許を調査対象にしています。すなわち1989(H1)年1月1日以後の特許出願で、2009年(H21)4月30日までに発行された分を対象にしています。なお、実用新案は含めていません。

●検索式
国際特許分類(IPC)[※1]を基軸としてキーワードで絞り込む検索式[※2]と、キーワードのみによる補完検索式を併用し、両者の論理OR集合を査読データの母集団としています。
[※1]…H05B33/*(エレクトロルミネッセンス光源)、H01L51/5*(光放出に特に適用されるもの)などを用いています(*は前方一致の意)。
[※2]…有機EL、EL素子、EL発光、EL表示、ELディスプレ、OLED、エレクトロルミ、有機ルミネ、有機発光、電場発光、電界発光、有機電界、有機電場、高分子発光、高分子エレクトロルミ、高分子EL、高分子EL、高分子ルミネ、高分子電界、高分子電場などを用いています(*は前方一致の意)。

●収録データ
(1) 該当特許一覧表(Excel、全文公報明細書PDFをリンク)
(2) 全文公報明細書PDF


●体裁
 CD-ROM

●価格
 定価84,000円(本体80,000円)

●発刊
2009年6月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
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専門技術からみた登録特許データ 第1巻 有機EL材料技術 編

●内容
 有機ELの製品開発は実用段階に入りました。それに従い、産業の川上では発光材料や電極材料、封止材料など、有機ELに関連する各種の材料技術に関連する特許情報が公開され、一部は権利化された登録情報として特許公報が発行されています。同じように、川下でも有機ELの表示や照明に関する回路技術のほか、さまざまな用途や川下展開に関連する特許情報などが、多量に発行されています。
 技術の成熟とともに権利侵害に対する守りが重要になってきます。また、技術の進歩とともに特許取得の判断材料としての登録特許データの利用価値も高まります。
 このCD「専門技術からみた登録特許データ」は、侵害防止のための調査資料や競合他社の特許分析、あるいは、権利取得のためのデータ集として、ご利用いただくことを目的としています。
 当社の技術スタッフが、約5,400件の有機ELに係わると思われる登録特許情報を検索し、一件一件を査読して約4,500件を抽出して有機EL登録特許の母集団を作りました。その上で、有機ELに欠かせない技術的観点として、①材料技術、②製造技術、③デバイス構造、④回路技術、⑤照明技術、⑥その他関連情報の6つの束に分け、技術観点別に見ておくべき登録情報を束として取り纏めた登録特許データ集です。有機EL特許調査の基礎資料としてご利用ください。

※2巻以上ご購入の場合は割引があります。…2巻:157,500円、3巻:210,000

●調査対象とした技術、取り上げた特許
 このCD「専門技術からみた登録特許データ」では、基本的に、有機ELに係わる登録特許を調査対象と
しています。電流駆動型の有機ELが対象であり、電界駆動型の無機ELは取り上げていません。

 この第1巻では有機ELの材料技術に着目して調査をしています。材料の組成、製法、評価方法などを対象にしています。収録件数は1845件です。有機ELの材料に関する特許情報の中心になるのは、材料組成を特定した有機EL発光材料に関する特許です。電荷輸送材料や注入材料のほか、金属錯体や燐光材料、波長変換材料を含みます。有機ELの電極材料(透明電極を含む)のほか、バリア材料やブロック材料なども発光材料との係わりで取り上げています。また、フィルムを含む基板材料、
偏光フィルムなどの光学フィルム、封止材料など、有機ELに関わりの深い、あるいは、将来に関わりが生じる可能性があると思われる各種の補助材料も含めました。
 なお、この第1巻「材料技術」の姉妹編として第2巻「製造技術」が発刊されています。材料と密接な関係を持つ製造技術の登録データです。ぜひ、本巻と併せてご利用ください。

【採否判断の基準例】
●特許請求の範囲(クレーム)の記載に基づいて採否を判断しています。
権利範囲が有機ELに及ぶ可能性がある特許は取り上げています。例えば、クレームに「薄膜EL」と記載されていても有機ELに権利範囲が及ぶ可能性がある場合には、取り上げています。また、将来的に有機ELに係わると思われる特許も、同様に、権利判断を重視して取り上げています。

●有機ELに係わりがない明らかなノイズ情報を除いています。
クレームに無機ELである旨の明確な記載がある場合、あるいは、絶縁層を介在する電界駆動型発光層(分査型を含む)はノイズ情報として除去しています。

●判断に迷う場合の取り扱い。
当社技術スタッフが明細書の記載等を参考に判断しました。

●調査対象とした特許情報
特許権の存続期間に照らして出願日遡及20年間の国内公告・登録特許を調査対象にしています。
すなわち1989(H1)年1月1日以後の特許出願で、2009年(H21)4月30日までに発行された分を対象に
しています。なお、実用新案は含めていません。

●検索式
国際特許分類(IPC)[※1]を基軸としてキーワードで絞り込む検索式[※2]と、キーワードのみによる補完検索式を併用し、両者の論理OR集合を査読データの母集団としています。
[※1]…H05B33/*(エレクトロルミネッセンス光源)、H01L51/5*(光放出に特に適用されるもの)などを用いています(*は前方一致の意)。
[※2]…有機EL、EL素子、EL発光、EL表示、ELディスプレ、OLED、エレクトロルミ、有機ルミネ、有機発光、電場発光、電界発光、有機電界、有機電場、高分子発光、高分子エレクトロルミ、高分子EL、高分子EL、高分子ルミネ、高分子電界、高分子電場などを用いています(*は前方一致の意)。

●収録データ
(1) 該当特許一覧表(Excel、全文公報明細書PDFをリンク)
(2) 全文公報明細書PDF


●体裁
 DVD-ROM

●価格
 定価84,000円(本体80,000円)

●発刊
2009年6月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック ナノインプリント シリーズ最近の特許にみるナノインプリント技術の用途100 編

●内容
 ナノインプリント関連特許の出願件数は、2004年(41件)から急増の一途をたどり2008年の1年間に公開された件数は594件に昇っています。
 この549件から応用展開に係る主要な出願100件を選別し、応用展開の全容を俯瞰したガイドマップと公報一覧表を掲げた一冊(ガイドブック)にとりまとめました。

■■特許情報は技術課題と開発の現状把握に役立ちます■■

技術テーマを具体的に絞り、技術開発最前線がどうなっているか、
大切な技術成果を知財にどう反映させているか、
「特許」と「技術」の双方を見渡すガイドとして
直近の特許情報から典型例約100件を集めたガイドブックです。

自己の課題の相対的位置を知りこれからの方向を考える資料として、また簡易な特許調査として
ご活用ください。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています
・基板、基材-素子基板
        -素材(微細パターン構造体)
・部品、部材-モールド・スタンパ
        -光学部材・素子
        -反射防止構造体
・記録媒体-光記録
       -磁気記録
       -その他の記録
・電子デバイス、装置-半導体
             -ディスプレイ
             -撮像
             -発光
             -センサ・アクチュエータ
             -医用・バイオ
             -その他のデバイス

●掲載企業(順不同)
セイコーエプソン、キヤノン、日産自動車、日立マクセル、富士通、東芝、半導体エネルギー研究所、
リコー、日立製作所、トラスティーズ オブ ボストン ユニバーシティ、三星電子、松下電器産業 他


●体裁
 A4判 142頁

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年4月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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現役の開発技術者が選ぶスイッチング電源特許100シリーズ 第13巻 省電力/待機電力

●本書の特徴

 スイッチング電源の現役技術者が、開発現場ですぐに役立つ特許情報を選びました。
 多くの電子機器は常にフル稼働している訳ではなく、休止していることの方が長い場合もあります。休止状態でも電力は常に消費され、この時の消費電力削減も重要な課題となっています。待機状態での省電力化の方法として純粋に軽負荷時の回路損失を低減するものや待機時には通常時とは明確に区別した動作をさせる方式、待機時に専門に動作する電源を別に用意する方式等様々です。

 本巻ではこれらの各方式に関する最新の特許情報を掲載します。

●<分析者プロフィールご紹介>
大手電源メーカー25年勤務、出願件数約100件。
長く電源設計・開発に従事し、専門である電気回路のみならず、マグネティックス、
実装、構造にも深く関わりローパワーからハイパワーまで幅広い製品を数多く手がけています。
特許を含めた分析、解析にも精通しており、開発技術者の目で必要な情報の提供が期待できます。

●体裁
 A4判 102ページ

●価格
 定価31,500円(本体30,000円)

●発刊
2008年12月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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現役の開発技術者が選ぶスイッチング電源特許100シリーズ 第2巻 高効率化技術(非絶縁型)

●本書の特徴

 スイッチング電源の現役技術者が、開発現場ですぐに役立つ特許情報を選びました。

 非絶縁型コンバータの効率を改善する方法にはソフトスイッチングや同期整流など主回路での
損失を削減する方法やバーストモードや周波数変調などの軽負荷での駆動損失を低減する方法など様々です。

 本巻では非絶縁型コンバータを降圧型、昇圧型、昇降圧型の三タイプとそれらに共通する技術に分類し、それぞれに関する技術情報を掲載しています。

●<分析者プロフィールご紹介>
大手電源メーカー25年勤務、出願件数約100件。長く電源設計・開発に従事し、
専門である電気回路のみならず、マグネティックス、実装、構造にも深く関わり
ローパワーからハイパワーまで幅広い製品を数多く手がけています。特許を含めた分析、
解析にも精通しており、開発技術者の目で必要な情報の提供が期待できます。

●体裁
 A4版 141頁

●価格
 定価31,500円(本体30,000円)

●発刊
2008年12月

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スイッチング電源特許 YEAR BOOK 2008

●内容
 2008年に国内で発行されたスイッチング電源に関する公開特許全件を専門技術者がマニュアルで査読・分析し、YEARBOOK(年鑑)にまとめました。
 データ編(CD-ROM)には全文・全図特許データをネオテクノロジー オリジナルのPALS Viewer(特許閲覧分析用ブラウザ)で収録しています。スイッチング電源に関わる技術の動向と企業の取り組みを把握するために、ぜひ備えていただきたい資料です。

●体裁
 A4判 177ページ+特許情報CD-ROM

●価格
 定価84,000円(本体80,000円)

●発刊
2009年6月


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これだけは見ておきたい特許100シリーズ 有機ELの最新特許100

●内容
■■特許情報は技術課題と開発の現状把握に役立ちます■■

次世代薄型テレビや次世代照明として期待される有機ELの開発競争が活発化しています。特許出願も
年を追って質量共に増加し、川上材料から川下製品までにかかわる多数の企業が年間約4,600件余の
特許出願を行っています。
本書では、2009年に発行された有機ELに関する国内公開特許情報を調査し、主要な企業の取り組みをまとめました。
簡易な特許調査として、有機EL技術に携わるエンジニアの方はもちろん、営業・企画部門の方々にも
ぜひお読みいただきたい一冊です。

●本書の特徴
☆主要企業別に最近の取り組み状況を解説
☆専門家が見た最新の重要特許を抽出

●掲載企業(順不同)
セイコーエプソン、ソニー、キャノン、東芝松下ディスプレイテクノロジー、
コニカミノルタホールディングス、半導体エネルギー研究所、富士フイルム、出光興産、
日立ディスプレイズ、パナソニック電工

●体裁
 A4判 141頁

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年6月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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 氏 名:
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これだけは見ておきたい特許100シリーズ 電子ペーパーの最新特許100

●内容
■■特許情報は技術課題と開発の現状把握に役立ちます■■

21世紀に入って、電子ペーパーは、いわゆる「ならでは(MUST性)」の追求(ソフト開発)が大きく加速しています。
最近の特許情報を見ると、ハードとソフトが関連した展開がみられ、さまざまな観点で研究開発に
取り組む多くの技術者の工夫を学ぶことができます。
本書は、2008年後半以降に公開された電子ペーパー関連の公開特許314件の中から、これからの
研究開発の参考になり、新たな着想を生む上でヒントになる事例146件を厳選して掲載しています。
技術者が俯瞰的な視野で全体像を把握できるガイドマップと、独創的な着想を得て新しい技術をは
ぐくむきっかけとなる特許情報による「これだけは見ておきたい特許100」シリーズの一冊です。
新しい創造を生み出すヒントとしてお役立てください。

◆掲載企業(順不同)◆
富士ゼロックス、セイコーエプソン、富士通、京セラミタ、コニカミノルタビジネステクノロジーズ、
富士フイルム、凸版印刷、キヤノン、大日本印刷、リコー、シャープ、日立製作所、沖電気工業、他

●体裁
 A4判 171頁

●価格
 定価84,000円(本体80,000円)

●発刊
2009年7月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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 部署名:
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック  LED照明シリーズ LED照明の実用化技術 編

●内容
■■特許情報は技術課題と開発の現状把握に役立ちます■■

技術テーマを具体的に絞り、技術開発最前線がどうなっているか、
大切な技術成果を知財にどう反映させているか、
「特許」と「技術」の双方を見渡すガイドとして
直近の特許情報から典型例約100件を集めたガイドブックです。

自己の課題の相対的位置を知りこれからの方向を考える資料として、また簡易な特許調査として
ご活用ください。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています
・モジュール
・駆動回路
・熱対策
・照明の質
・照明システム
・その他

●掲載企業(順不同)
松下電工、東芝ライテック、未来環境開発研究所、オスラム・シルバニア、小糸製作所、クリー、アドシステム、パール電球製作所、スタンレー電気、 他

●体裁
 A4判 226頁

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年4月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

----------------------------------------
■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

 会社名:
 所在地:
 部署名:
 氏 名:
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 有機EL技術シリーズ 有機ELのガスバリア技術 編

●内容

最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。
技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。
特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

・無機フィルム・積層体
・有機フィルム・積層体
・有機・無機フィルム・積層体
・基材
・基板
・封止
・デバイス構造・製法
・製造装置
・原・材料

●掲載企業(順不同)
コニカミノルタホールディングス、セイコーエプソン、富士フイルム、凸版印刷、
富士電機ホールディングス、キヤノン、大日本印刷、住友化学、スリーエム巴川製紙所、
デンソー 他

●体裁
A4判 149ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年 1月

発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
  現物と請求書同封の上ご送付いたします。

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 有機EL技術シリーズ 有機ELのウェットプロセス 編

●内容
最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。
技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。
特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

・インクジェットプロセス/パターン形成、表示素子・装置、リペア技術、製造装置
・印刷プロセス/表示素子・装置、オフセット印刷法、フレキソ印刷法,凸版の製造,印刷装置
・スピンコートプロセス
・その他のプロセス/湿式・塗布法、液相法・液滴吐出法、その他

●掲載企業(順不同)
セイコーエプソン、凸版印刷、大日本スクリーン製造、三菱化学、シャープ、三星エスディアイ、
日置電機、パイオニア、カシオ計算機、旭化成、リコー、東芝松下ディスプレイテクノロジー、
キヤノン、三星電子、他

●体裁
 A4判 179ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年 1月

発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
 ・下記の内容をE-mail:jtc@j-techno.co.jp もしくは FAX:03-5322-5666 にご送付下さい。
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 有機EL技術シリーズ 有機ELのRoll to Rollプロセス 編

●内容
最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。
技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。
特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類
 ※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

・連続コーティング《ドライ》
・連続コーティング《ウエット》
・洗浄・表面処理
・同期転写
・インラインでの成膜・積層処理
・エンボス・機械加工
・インライン封止・被覆処理
・Roll to Roll工程管理・改善

●掲載企業(順不同)
富士写真フイルム、コニカミノルタホールディングス、凸版印刷、スリーエム、
オスラム オプト セミコンダクターズ、ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ、
大日本印刷、ティーディーケイ、アド-ビジョン・インコーポレイテッド、ソニー、
イーストマン コダック カンパニー、
イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー、セイコーエプソン、 他


●体裁
 A4判 128ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年 1月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 太陽電池シリーズ 太陽電池パネルの設置・施工 編

●内容
 太陽電池の設置や施工の技術は、実際に太陽電池を利用する上で最も重要な要素の一つです。このレポートは、太陽電池/太陽光発電のパネルの設置・施工に関する最新の特許情報を検索し部材別に分類しています。
 フレームについては、パネル用モジュール枠や軽量堅牢構造、コスト低減などの工夫例を掲載しています。
 また設置架台では、屋根形状との自由度、あるいは施工性、耐久性を高めるさまざまな発明を取り上げました。取付金具では、取り外しも含めた施工コストの削減や重量削減、作業性の向上をねらう出願があります。さらにつなぎカバーでは外観・美観の向上が、電気配線では作業の容易さやアース(接地)の確実性がはかられています。その他、雪や火災、熱への対策も注目されます。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

・枠(フレーム)
・設置架台
・取付金具
・つなぎカバー
・角度調節
・電気配線
・施工用具
・雪、火災、熱対策
・建材一体パネル

●掲載企業(順不同)
京セラ、元旦ビューティ工業、屋根技術研究所、富士電機ホールディングス、シャープ、
三洋電機、旭化成建材、昭和シェル石油、日本鐵板、日鉄住金鋼板、積水化学工業、
クボタ松下電工外装、淀川製鋼所、栄信、旭化成ホームズ、MSK、 他

●体裁
 A4判 141ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年4月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 太陽電池シリーズ 太陽電池の透明電極 編

●内容
特許情報は技術者・研究者に役立つテクノロジー情報です。

技術テーマを具体的に絞り、技術開発最前線がどうなっているか、大切な技術成果を知財に
どう反映させているか、「特許」と「技術」の双方を見渡すガイドとして、直近の特許情報から
典型例約100 件を集めたガイドブックです。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

電極用部材-導電材料
         -透明基板・基材
         -半導体(光)電極
         -対極
・素子構成-Si系素子
       -色素増感型素子
       -その他の素子
・成膜・製法-塗布法
       -SPD法
       -プラズマCVD法
       -レーザ処理法
       -その他の製法
・その他-測定法


●掲載企業(順不同)
カネカ、フジクラ、シャープ、三洋電機、京セラ、凸版印刷、電源開発、三菱重工業、
九州工業大学、産業技術総合研究所、大日本印刷、新日鐵化学、尾池工業、
コニカミノルタホールディングス、帝人、帝人デュポンフィルム、沖電気工業、三菱マテリアル、 他


●体裁
 A4判 197ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年4月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 太陽電池シリーズ 太陽電池シリーズ 太陽電池の裏面保護・バックシート 編

●内容
バックシートには太陽電池を裏側から封止して数十年にわたる長期の安定動作を維持する
高耐久保護機能に加え、軽くて後加工が容易、しかも、低廉性が求められています。
最近は、見た目の良さや、バックコンタクト裏面配線機能、熱放散機能など、単純な強度から機能へ
とバックシートの性格も変わりつつあります。
本書では最近の特許情報に基づいて特許に表れるバックシート技術の六つの観点の最前線の
出願事例を取り上げます。

●技術分類
 ※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

・裏面保護シート
・充填材(接着・融着・封止)
・封止プロセス
・電極の取り出し
・熱対策
・その他


● 掲載企業(順不同)
凸版印刷、ブリヂストン、帝人デュポンフィルム、三洋電機、東レ、
中島硝子工業、大日本印刷、富士電機ホールディングス、京セラ、東洋アルミニウム、
シャープ、東レフィルム加工、 他

●体裁
 A4判 117ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年4月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック 色素増感型太陽電池シリーズ 色素増感型太陽電池の応用展開 編

●内容
最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。
技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。
特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類
 ※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

・電子機器用電源/携帯機器用,カメラ・撮影ユニット用,表示装置用,各種機器用
・センサ監視用
・装身具用
・発光体用
・車輌・車載用
・建物・屋内用
・発電・蓄電用
・その他応用

●掲載企業(順不同)
積水樹脂、富士写真フイルム、ソニー、クボタ松下電工外装、日本板硝子、凸版印刷、
カシオ計算機、東芝、マツダ、セイコーエプソン、ティーディーケイ、他

●体裁
 A4判 130ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年2月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック リチウムイオン電池シリーズ リチウムイオン電池の用途展開 編

●内容
最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。
技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。
特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

・車輌・車載用
・携帯機器用
・画像形成装置用
・電動工具用
・釣具用
・医療機器用
・防災・安全機器用
・電源装置・システム用
・その他電子機器用

●掲載企業(順不同)
トヨタ自動車、新神戸電機、松下電器産業、京セラミタ、ダイワ精工、日立工機、シャープ、
日本電産シバウラ、三洋電機、半導体エネルギー研究所、リコー、他

●体裁
 A4判 135ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年2月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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■申し込み方法
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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック リチウムイオン電池シリーズ リチウムイオン電池の安全・制御 編

●内容
最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。
技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。
特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています

・充放電制御/充電制御,放電制御,充放電制御
・保護回路
・電池残量検知・管理
・電池電圧制御
・絶縁短絡防止
・熱制御
・電池内圧制御
・組電池管理
・その他

●体裁
 A4判 133ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年2月


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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック スイッチング電源のデジタル制御プログラム技術 編

●内容
最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。
技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。
特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています
・プログラムに特徴があるデジタル制御 /演算・処理、電源保護、スイッチング制御、小型・省エネ
・効率UP、支援その他
・SW電源と用途展開/保護回路、スイッチング制御回路、プログラム化の動き

●掲載企業(順不同)
本田技研工業、松下電器産業、コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ、
オムロン、キヤノン、三菱電機、トヨタ自動車、産業技術総合研究所、シャープ、ソニー、
東芝ライテック、松下電工、東芝、ファイアー ストーム,インク.、
ビ-エイイ- システムズ パブリック リミテッド カンパニ- 他

●体裁
 A4判 約100ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2008年12月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック LED照明シリーズ LED照明の放熱技術 編

●内容
最近の特許情報から、技術の現状と参入企業の開発のねらいを把握できます。
技術者のための特許の土地勘づくりに役立ちます。
特許と技術を結び付ける資料集として、特許出願の参考になり、競合動向を把握できます。

●技術分類
※技術者が目をつける着眼点別に特許情報を収録しています
・チップレベルでの熱対策
・熱伝導に着目した熱対策
・フィン、ファンと空気に着目した熱対策
・ヒートパイプや液冷に着目した熱対策
・熱の分離、発熱量の抑制、熱電素子の利用、特殊用途に適した熱対策など多様な展開

●掲載企業(順不同)
松下電工、東芝ライテック、スタンレー電気、シャープ、松下電器産業、三菱電機、日亜化学工業、NECライティング、三菱電機照明、エアサイクル産業、フジクラ、デンソー、他

●体裁
 A4判 160ページ

●価格
 定価52,500円(本体50,000円)

●発刊
2009年2月


発売:(株)日本テクノセンター    発行:(株)ネオテクノロジー

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ブレンドメソッドを活用した事例

日本企業の現場では次のような声によく出会います。

「人材を早く戦力化したい」
「せっかく育成した人材が離職してしまった」
「eラーニングだけでは、なぜか成果が上がらない」
「日本企業の職場・現場に即した教材が少ない」
「教育にかける手間暇や費用を削減したい」
「相手の行動が読めず、うまく対応できない」

このような課題を、ブレンドメソッドが解決します! 

これまでの成果事例はこちら
・<事例1>ベトナム人技術者の日本対応短期戦力化
・<事例2>フィリピン人技術者の基礎日本語教育
・<事例3>ベトナム人技術者の中級日本語教育
・<事例4>カナダ人技術者の上級日本語教育
・<事例5>フィリピン人工場監督者の日本対応教育
・<事例6>外国人技術者の日本対応教育
・<事例7>外国人ビジネスマンの日本対応力強化
・<事例8>日本人責任者の海外アウトソーシング対応教育
・<事例9>相手の行動パターンに合わせた対応で成功

ベトナム人技術者の日本対応短期戦力化

 海外オフショアプロジェクトにおいて、ベトナム人IT技術者を活用する際、ただ技術スキルの高い人材を活用してもうまくいかない、ということは多々あります。

 本人が内向的な性格などの理由で、日本人責任者とのコミュニケーションがうまくできず、結果的にプロジェクトがうまく進まないのです。

 そこで、このプロジェクトでは、初めに複数のベトナム人技術者候補と面接し、技術スキルに加えて、行動パターンや個性を分析し、そのプロジェクトに最適なベトナム人技術者を選定しました。

 本人の技術スキルは高かったのですが、日本語スキルおよび日本市場への対応力が弱く、短期間で効率的に日本対応教育を行う必要性が生じました。
そこで、採用したのが「ブレンドメソッド」です。

実際に行った教育

 オフショア2ヶ月→オンサイト3ヶ月へと移行しながら、自習でeラーニング学習37時間、来日時のface to faceの導入レッスン3時間、インタラクティブレッスン5時間の計45時間の教育を行いました。

 来日時に日本語が全くできなかった技術者は、3ヵ月後には、
・ひらがなをすらすら読める
・簡単な日常会話ができる
・当初のオンサイト業務を計画通り達成
という成果を上げ、短期戦力化に成功しました。

 コストは約5万円と従来型教育の19%に低減することができ、期待された日本語コミュニケーションができるレベルに到達、プロジェクト目標を達成することができました。

受講者の声

 レッスンはとても良く、効果的な教育でした。私の日本語能力(話す・聞く)は大きく向上したと思います。これからもこのスタイルで、日本語の勉強をさらに続けたいです。(ベトナム人技術者Mr.H)

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お問い合わせは、(株)日本テクノセンター(http://www.j-techno.co.jp) 

または下記へ

グローバルブリッジ株式会社

〒195-0055 東京都町田市三輪緑山2-11-9  Tel: 044-989-9630
e-mail: info@globalbridge-inc.com
http://www.globalbridge-inc.com/

フィリピン人技術者の基礎日本語教育

 フィリピンに拠点を持つ日本企業から、フィリピン現地の技術者3名を教育してほしいとの要望があったときのことです。

 この技術者たちは、日本からの開発プロジェクト管理に携わっており、
①日本語で日常会話(技術打ち合わせは英語)
②必要に応じて日本の拠点まで一人で出張できる
というレベルまで、日本対応力を引き上げる必要がありました。

 そこで、ブレンドメソッド教育により、まずフィリピンに出張して直接技術者たちと面接と導入レッスン(基本のあいさつやマナーの指導)を行い、eラーニングでは”Elementary Japanese”、インタラクティブレッスンは週に1回30分ずつ、基礎日本語教育をする計画を立てました。

 ところが、5月に新型インフルエンザが流行しはじめ、現地出張が中止になってしまったのです。

 実は、これまでのブレンドメソッドでは、「導入レッスン」として必ず一度、face to faceでマンツーマン基礎レッスンを行ってきましたので、1度も受講者と会わずに教育するのは、初めての挑戦でした。相手は数千キロ離れた文化・言語の異なる学習者ですから、一度も会わずに本当に成果が出せるかどうか、という不安ももちろんありました。
しかし、これまで海外・国内の遠隔地の学習者に対するブレンドメソッド教育で成果を出してきた実績をふまえ、「やれる」と判断して教育を実行しました。

実際に行った教育

 技術者3名の語学センスと行動パターン・個性がそれぞれ異なるので、本人に合わせてインタラクティブレッスンをアレンジしました。

 3ヶ月の間で、3人合計でeラーニング31.5時間、インタラクティブ18.5時間の合計45.4時間の教育を行い、3人のうち1人の日本語スキルは期待されたレベルに、2人は当初期待されたレベル以上に達しました。

 コストは従来型教育の37%に低減することができ、講師が現地に赴くことなく、質の高いレッスンを行って生徒の日本語力を伸ばすことが可能であることが判明しました。

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お問い合わせは、(株)日本テクノセンター(http://www.j-techno.co.jp) 

または下記へ

グローバルブリッジ株式会社

〒195-0055 東京都町田市三輪緑山2-11-9  Tel: 044-989-9630
e-mail: info@globalbridge-inc.com
http://www.globalbridge-inc.com/

ベトナム人技術者の中級日本語教育

 日本企業の国内開発拠点のベトナム人技術者に中級日本語教育を行ったときのことです。

 この技術者は、在日1年にもかかわらず、日本語を話してもなぜか周りの日本人には聞き取れないのがコミュニケーション上の難点となっていました。

実際に行った教育

 そこで、ブレンドメソッドにより、最初にface to faceの面接と導入レッスンを行い、3ヶ月間の教育を行いました。

 導入レッスンの結果、彼の発音はベトナム語訛りが非常に強く、ベトナム人特有の日本語発音となっていることが分かったので、インタラクティブレッスンでは、発音する際の口・舌・歯などの構造を重点的に説明しながら教育しました。また、ヒアリングを絶えず行うことで、学習者の今求めている学習方法などを把握し、授業に反映することで、モチベーションも効果的に維持・向上しました。

 3ヶ月の間に、eラーニング4教材計21時間、インタラクティブレッスン11時間の合計32時間の教育を行った結果、日本語で自分の意思を伝え、ネイティブスピードで日本語を聞き取れるようになり、ベトナム訛りも8割克服することができました。彼の働く職場からも、改